原射真空分析

Apreo功能最为丰富的高性能 SEMApreo 复合透镜结合了静电和磁浸没技术，可产生前所未有的高分辨率和材料对比度。Apreo 是研究纳米颗粒、催化剂、粉末和纳米器件的理想平台，而不会降低磁性样品性能。传统的高分辨率 SEM 透镜技术分为两类：磁浸没或静电。FEI 首次将两种技术结合到一个仪器中。这样做所产生的成效远远超过任一种镜筒的个体性能。两种技术均使电子束形成细小探针，以提高低电压下的分辨率，并使信号电子进入镜筒。通过将磁透镜和静电透镜组合成一个复合透镜，不但提高了分辨率，还增加了特有的信号过滤选项。静电-磁复合末级透镜在 1 kV 电压下的分辨率为 1.0 nm（无电子束减速或单色器）。Apreo 拥有透镜内背散射探测器 T1，其位置紧靠样品以便尽可能多地收集信号，从而确保在很短的时间内采集数据。与其他背散射探测器不同，这种快速的探测器始终可保证良好的材料对比度，在导航时、倾斜时或工作距离很短时也不例外。在敏感样品上，探测器的价值凸现出来，即使电流低至几 pA，它也能提供清晰的背散射图像。复合末级透镜通过能量过滤实现更准确的材料对比度以及绝缘样品的无电荷成像，进一步延伸了 T1 BSE 探测器的潜在价值。它还提供了流行选项来补充其探测能力，例如定向背散射探测器(DBS)、STEM 3+ 和低真空气体分析探测器 (GAD)。所有这些探测器都拥有独一无二的软件控制分割功能，以便根据需求选择最有价值的样品信息。每个 Apreo 都按标准配备各种用以处理绝缘样品的策略，包括：高真空技术，例如 SmartSCAN™ 、漂移补偿帧积分(DCFI) 和电荷过滤。对于最有挑战性的应用，Apreo 可提供电荷缓解策略。其中包括可选的低真空（最高为 500 Pa）策略，通过经现场验证的穿镜式差分抽气机构和专用低真空探测器，不但可以缓解任何样品上的电荷，还能提供绝佳的分辨率和较大的分析电流。随着分析技术的使用越来越常规化，Apreo 仓室经过全新设计，以便更好地支持不同的配件和实验。仓室最多容纳三个 EDS/WDS 端口，可实现快速敏感的 X 射线测量、共面EDS/EBSD/TKD 排列并与（冷冻）CL、拉曼、EBIC 和其他技术兼容。所有这些功能都能通过简单的样品处理和熟悉的 xT UI 获得，节省了新用户和专家级用户的时间。可自定义的用户界面提供了诸多用户指导、自动化和远程操作选项。

超高性能X射线荧光光谱仪，无语伦比的通用性——EDX-8100 致元素分析的您 无需液态氮！ 使用电子冷却方式的高性能SDD检测器 高灵敏度！高速！高分辨率！ 大幅提升传统产品的分析性能 软件使用简便！ 同时配备简易型分析软件PCEDX-Navi与专业型软件PCEDX-Pro 彻底追求通用性的硬件！ 检测元素范围C~U、可开展真空分析及氦气置换分析 元素检测范围氦气置换分析优势可测试不适用真空、适用氦气置换分析的样品：液体，潮湿固体和粉末，微细粉末（小于微孔膜孔径），多孔且内含较多气体的固体1、3、5、10mmΦ的4种准直器自动切换根据样品尺寸的不同，照射直径可有4种不同的选择。微小异物分析和失效解析时采用1mmΦ，少量样品时采用3mmΦ或5mmΦ，根据样品的形状可以选择最适合的照射直径。自动切换5种一次滤光片使用一次滤光片降低X射线管产生的特性X射线和连续X射线，从而提升检测灵敏度。尤其分析微量元素时有效。EDX－8100搭载5种（含OPEN共6种）一次滤光片，可以实现软件操控自动切换准直器和一次滤光片独立驱动，无限制自由组合。可以选择6种×4种=24种组合。同时，所有组合均可对应FP法进行定量分析。

2830 ZT 波长色散 X 射线荧光 (WDXRF) 晶圆分析仪提供了用于测量薄膜厚度和成分的功能。 2830 ZT 晶圆分析仪专门针对半导体和数据存储行业而设计，该仪器可为多种晶片（厚达 300 mm）测定层结构、厚度、掺杂度和表面均匀性。持续的性能和速度4 kW SST-mAX X 射线管配备了突破性的 ZETA 技术，可以消除 X 射线管老化效应。 这种“全新射线管”性能可以在 X 射线管整个寿命期间得到保持，同时高灵敏度与 ZETA 技术相结合，确保了在 X 射线管寿命期间可以一直提供快速的分析和简短的测量时间。 ZETA 技术显著减少了对于漂移校正和重新校准的需求，从而提高了仪器的生产率和正常运行时间。正常运行时间大大提升传统 X 射线管会出现钨灯丝挥发，从而导致光管铍窗内部出现沉淀物污染铍窗。 使用此类 X 射线管的仪器需要定期进行漂移校正以补偿下降的强度，尤其是对于轻元素而言。 2830 ZT 采用 SST-mAX 射线管解决了这一漂移问题，从而大大提升了正常运行时间并能够随着时间的推移维持仪器精度。易于使用2830 ZT 配置SuperQ 软件，该软件包含了 FP Multi - 一个专门针对多层分析开发的专用软件包。 该软件的用户界面确保即使是没有经验的操作员也可以对多层进行全自动的基本参数分析。该仪器的 SuperQ 软件具有多种易于使用的模块，这些模块能够方便研究者和工程师进行灵活的操作。 可以轻松切换配方和调整设备参数以适应用户偏好。FALMO-2GFALMO-2G 可轻松集成到任意实验室或晶片厂中：从简单的人工托架装载到全自动。 完全灵活的设计让晶片厂经理能够选择 FOUP、SMIF 或开放式装入端口，配有一个或两个装入端口配置。 各种配置的 FALMO-2G 均受到符合 GEM300 的软件支持。 FALMO-2G 的占地空间大大降低，而没有损失灵活性、功能。 应用灵活操作该仪器的 SuperQ 软件具备多种易用使用的模块，这些模块能够方便研究者和工程师进行灵活的操作。 可以轻松切换配方和调整设备参数以适应用户偏好。

俄罗斯VNIIOFI真空低温黑体辐射源系列是由俄罗斯联邦技术控制和计量属的“全俄光学物理学测量研究所”研制的。目前，已经在全球多个国家计量院得到应用，而且已经得到用户的广泛赞誉。 真空低温黑体辐射源系列拥有很高的稳定性，而且型号众多，低温可低至80K，具体型号请寻约克公司。 低温黑体辐射源产品特点：★ 口径大：直径100mm★ 稳定性能高★ 发射率高：0.997★ 真空环境下温度可以达到-60°C型号BB100-V1温度范围-60°C～90 °C—真空环境(-50～90) °C—惰性气体或者干燥气体吹扫开口孔径100mm空腔直径120mm辐射腔材料铜沿空腔的温度梯度≤ ± 0.1 °C温度不稳定性≤ ± 0.05 °C温度控制通过外部恒温循环器有效发射率0.997(1.5～15μm)全部的温度传感器5支铂电阻（100Ω）温度测量基于KEITHLEY 2000 (或者 Agilent 34660) 数字表和多路放大器5支经过校准的PRT100温度传感器用于温度监控（2支沿腔体放置，3支放置在腔体的底部）。低温黑体辐射源型号BB80/350温度范围220—350K额外的设定点313K工作孔径350mm光谱范围2.5—15μm发射率0.96±0.02不确定度@280—300K±0.1K重复性@300K0.5K10分钟稳定性5K连续运行时间8小时工作环境在室内干燥的氮气气氛标准压力环境温度：0—30°C真空室P=10-5—10-8Torr环境温度：77K

1.5. 工作条件： ● 工作温度：15-30℃ ● 相对湿度：40%～70% ● 电 源：AC :220V ±5V 1.6. 技术性能及指标: 1.6.1. 元素分析范围从钠(Na)到铀(U)；1.6.2. 元素含量分析范围为1PPm到99.99%；1.6.3. 测量时间：100-300秒(可调)；1.6.4. RoHS指令规定的有害元素（限Cd/Pb/Cr/Hg/Br/Cl）其检测限度zui高达1PPM； 1.6.7. 能量分辨率为129±5电子伏特；1.6.8. 温度适应范围为15℃至30℃；1.6.9. 电源：交流220V±5V（建议配置交流净化稳压电源）；1.7.产品特点 1.7.1EDX8000H，配置了真空测试系统，增加了元素测试范围，探测器配备SDD的测试系统，对于矿石间各元素进行检测，减少元素间干扰 1.7.2整体结构化设计，仪器美观大方。 1.7.3采用美国zui新型的SDD硅飘移探测器，电致冷而非液氮制冷，体积小、数据分析准确且维护成本低。 1.7.4采用自主研发的SES信号处理系统（数字多道），有效提高峰背比，让测量更jing准。 1.7.5一键式自动测试，使用更简单，更方便，界面更人性化。 1.7.6七种光路校正准直系统，根据不同样品自动切换。 1.7.7多重防辐射泄露设计，辐射防护级别属于同类产品zui高级。 1.7.8优化一体化散热设计，使整机散热性能得到更大提高，确保X射线源的运行安全。 1.7.9独有的机芯温度监控技术，确保射线源的安全可靠运行，有效延长其使用寿命，降低使用成本。 1.7.10多重仪器配件保护系统，并可通过软件进行全程监控, 让仪器工作更稳定、更安全。 1.7.11专用真空测试软件，是否抽真空可自由选择，真空度实时显示，标准视窗设计，界面友好，操作简便，所有控制均在轻点鼠标之间。 1.7.12本机采用USB2.0接口，有效保证数据准确高速有效的传输。 1.7.13独有的全自动真空系统,彻底屏蔽空气对轻元素测试的影响,极大提高了轻元素的检出限，同时也扩大了检测范围。1.7.14一体化真空腔体设计，有效地保证了符合测试要求的真空度，同时提高了设备的可维性。1.7.15抽真空测试和不抽真空测试转换简单，方便客户使用；同时开盖即解除真空，安全、简单实用。 2.仪器硬件部分主要配置 2.1 SDD电制冷探测器: 2.1.1. SDD电制冷探测器；分辨率：129±5e电子伏特 2.1.2. 放大电路模块:对样品特征X射线进行探测；把探测采集的信息,进一步放大。2.2 X射线激发装置: 2.2.1. 灯丝电流zui大输出：1mA；2.2.2 .属于半损耗型部件，使用寿命大于5000小时2.3 高压发射装置: 2.3.1. 电压zui大输出： 50kV；2.3.2. zui小5kv可控调节2.3.3. 自带电压过载保护2.4　一体化真空系统2.4.1　具有低震动、低噪音、自保护及抽速快等优良性能的真空泵系统；2.4.2　几何抽速：60 L/min（50Hz）2.4.3　极限压力：6.7×10-2 Pa2.5 数字多道分析器: 2.5.1. 将采集的模拟信号转换成数字信号,并将处理结果提供给上位机软件；2.5.2 zui大道数： 4096；2.5.3 包含信号增强处理功能；2.65光路过滤模块 2.6.1 降低X射线光路发送过程中的干扰，保证探测器接收信号准确；2.6.2 将准直器与滤光处整合；2.7 准直器自动切换模块2.7.1 多达7种选择，口径分别为8-1＃, 8-2＃, 8-3＃, 8-4＃，6＃, 4＃, 2＃。2.8 滤光片自动切换模块 2.8.1五种滤光片的自由选择和切换。2.9 准直器和滤光片的自由组合模块 2.9.1 多达几十种的准直器和滤光片的自由组合。2.10 工作曲线自动选择模块 2.10.1 自动选择工作曲线，摒弃手动选择，避免人为操作失误，将自动化和智能化 演绎得更完美，使操作更人性，更方便。 3. 专用软件3.1.1软件简介专门针对金属材料元素成份检测而开发（含真空控制功能），对采集的光谱信号进行数据处理、计算并报告显示测量结果。3.1.2功能介绍※应对不同矿产材料可调式数据，测量时间为100-300秒（可调） ※操作界面简洁直观，使用方便，无需专业人士操作3.2软件界面如下图所示： ※可自动选择适合的校准曲线，测量更方便，更准确※中英文界面自动切换，并具有第三方语言订制功能※自动校准仪器※自带样品材质定性分析，防止手动用户选择错误曲线※多种报告形式打印※可同时显示多个光谱图※仪器测试参数及真空度实时显示，所有掌控一目了然 ※独有的机芯温度监控技术，保证X射线源的安全可靠运行，有效延长其使用寿命，降低使用成本。 4. 样品配置 标准样品用于制作工作曲线4.1 样品腔 开放式大样品腔：610mm×320mm×100×半封闭样品腔（抽真空时）：Φ100mm×h75mm 4.2 标样 银校正片 5．标准附件低噪音快抽速真空泵※体积小、重量轻、结构简单，易于保养和维修※抽速快，20S即可达到真空测试要求※极限压力可达6.7×10-2Pa※单相AC220V供电，无须外接三相电 6. 产品保修及售后服务 6.1 对客户方操作人员免费进行培训。6.2 国内客户安装、调试、验收、培训及技术服务均为免费在用户方现场对操作人员进行培训。（国外客户可协商解决）6.3正常使用，经本公司售后服务部技术人员确认属工艺或材质缺陷引起的故障，且未经拆修，仪器主机自验收合格之日起保修壹年。6.4产品终身维修（客户必须有填写详细、真实的有效购买凭证，和保修卡等）。6.5免费提供软件升级。6.6提供zui有效的技术服务，在接到用户故障信息后，2小时内响应，如有需要，48小时内派人上门维修和排除故障。 联系电话：丁女士

真空镀铝膜阻氧性能检测仪器 镭射膜透氧率分析仪 氧气渗透测试仪基于库仑氧气分析传感器和等压法测试原理，参照ASTM D3985等标准设计制造，为高、中气体阻隔性材料提供高精度和高效率的氧气透过率测试。适用于食品、药品、医疗器械、日用化学、光伏、电子等领域的薄膜、片材及相关材料的氧气透过性能测试。产品特点：搭载Labthink新型科技成果的ppb级库仑氧传感器，可获取更低的测试下限。参照ASTM D3985标准设计，绝对值，无需校准。超长使用寿命，是传统库仑氧传感器的三倍。具有超限报警，自动保护功能。采用360°气流循环恒温技术，温度稳定性更佳。搭载高精度温湿度传感器，实时监测并记录温湿度变化。测试过程中，实现流量、温度和相对湿度自动化控制，精度更高。可实现更高的测试重复性0.01 cc/(m2&bull day)。高效率独立三套50cm2标准面积测试腔，符合标准要求的平行样检测。支持同一条件3个试样同时测试，数据相互独立。同一测试周期，完成的样品量从2个提升至3个。自动夹紧试样，省时省力，夹紧力度一致，密封更佳。采用Windows系统的12寸触控平板操控，操控更便捷。自动模式，输入试验温湿度，一键开启，全自动测试。全新屉式测试腔，一键自动进出，声光提醒。内嵌Labthink工业计算机，杜绝由计算机病毒等引起的系统故障，保证运行可靠性与数据存储安全性。真空镀铝膜阻氧性能检测仪器 镭射膜透氧率分析仪 氧气渗透测试仪测试原理：将预先处理好的试样夹紧于测试腔之间，氧气或空气在薄膜的一侧流动，高纯氮气在薄膜的另一侧流动，氧分子穿过薄膜扩散到另一侧中的高纯氮气中，被流动的氮气携带至传感器，通过对传感器测量到的氧气浓度进行分析，计算出氧气透过率等结果。参照标准：ASTM D3985、ASTM F1307、ASTM F1927（选配）、GB/T 19789、GB/T 31354、DIN 53380-3、JIS K7126-2-B、YBB 00082003-2015测试应用：薄膜——各种塑料薄膜、纸塑复合膜、共挤膜、镀铝膜、铝箔复合膜、玻纤铝箔纸复合膜等膜状材料的氧气透过率测试。片材——PP片、PVC片、PVDC片、金属箔片、橡胶片、硅片等片状材料的氧气透过率测试。真空镀铝膜阻氧性能检测仪器 镭射膜透氧率分析仪 氧气渗透测试仪技术参数：仪器型号：C203H测试范围：0.01～200 cc/(m2&bull day)(标准面积50cm2)；0.005～200 cc/(m2&bull day)(标准面积50cm2)（选配）；0.01～400000 cc/(m2&bull day)(标准面积50cm2)（定制）；0.1～2000 cc/(m2&bull day)(MASK面积5cm2)（选配）；0.5～10000 cc/(m2&bull day)(MASK面积1cm2)（选配）分辨率：0.0001 cc/(m2&bull day)重复性：0.01或1%，取大者温度范围：15～50℃；5～60℃（定制）温度波动：±0.05 ℃湿度范围：氧气0%，5～90%±1%；载气0%，5～90%±2%（选配）技术规格：测试腔：3套样品尺寸：4.4” x 4.4”（11.2cm×11.2cm）样品厚度：≤120 Mil（3mm）标准测试面积：50cm2气体规格：99.999%氮气、99.5%氧气（气源自备）气源压力：≥ 40.6 PSI / 280 kPa接口尺寸：1/8” 金属管外形尺寸：600mm× 500mm× 700mm电源：120VAC±10% 60Hz / 220VAC±10% 50Hz（二选一）净重：220Lbs（100kg）产品配置：标准配置：主机、平板电脑、取样器、真空油脂、Φ6 mm聚氨酯管选购件：GP-01气体净化装置、空压机、CFR21Part11、GMP计算机系统要求、DataShieldTM数据盾备注：本机压缩空气进口为Φ6 mm聚氨酯管（压力≥ 79.7 PSI / 550 kPa）；气源自备

DS-21L大功率X射线应力测定仪适用于金属及非金属制品零部件进行残余应力、残余奥氏体测试，实验室和车间使用更能展示其卓越性能。测试速度快、结果准确，每次测量取9个以上ψ角度，一分钟内即可完成一点应力测量。 容易维护，全天候连续运行。 采用3kW大功率源，能快速精确地测量镍合金和钛合金等衍射峰低的材料，最小光斑尺寸为0.1mm，还可对零件进行微区残余应力分析。 采用双半导体线阵探测器技术，在测量正应力的同时测量剪切应力值。 每个探测器2θ角范围35°，探测器线性计数率大于109CPS，不会产生计数饱和现象。 激光位移传感器指示工件应力测量位置、确定衍射面高度，实现快速定位。Z轴移动范围达600mm，适合更大尺寸工件应力测量。配置有手动、自动X（行程300mm）、Y（行程200mm）、Φ（0-360°）三轴样品台，用于测量主应力及主应力方向、全自动应力云图测量。 同倾法和侧倾法通用，通过手工切换。侧倾法和同倾法2θ角测量范围: 105°~170°。一次曝光实现奥氏体含量测量。 ψ角测量范围：-35°～+50°，摇摆角：0～8°范围内设定。 无应力铁粉连续5次测量的应力标准差小于± 5MPa。 全封闭铅玻璃防护罩，提供符合ANSI N43.2等标准的辐射安全保护。标准的铅玻璃防护罩尺寸为：0.9×1.4×1.6m，防护罩尺寸可根据用户的要求订制。 X射线管自主知识产权的金属陶瓷X射线管，耐热、抗震、不易损坏并且更换容易，无需专用工具可在几分钟之内更换完毕，采用循环水进行冷却，可长时间稳定使用。可选的多种靶材在应力测量时能够获得高质量衍射峰，从而保证应力测量结果准确性，可选靶材： Cr、Mn、Cu、Co、Fe、V等。 产品符合ASTM E915-2010、EN15305-2008及GB7704-2016等残余应力分析检测标准。 软件功能描述： 专业的残余应力测量及分析软件，采用直线和椭圆两种方式进行拟合，采用不假定剪切应力为零的完整应力方程和椭圆拟合方法, 在测量正应力的同时测量剪切应力值。峰形拟合函数包括高斯、洛伦兹、皮尔森峰形拟合、抛物线等。检测测试结果除了正应力值和剪切应力值，峰强、积分宽度、半高宽等重要信息。

DS-21P便携式残余应力仪为现场、实验室、车间残余应力、残余奥氏体含量测量而设计的一款便携式X射线应力仪。 优秀的便携性能，整套设备重量不超过20公斤（包括测角仪、标准支架）。测试准确，每次测量取9个以上ψ角度，短时间内即可完成一点应力测量。 采用双半导体线阵探测器技术，在测量正应力的同时测量剪切应力值。 每个探测器2θ范围为35°，探测器线性计数率大于109CPS，不会产生计数饱和现象。 激光位移传感器指示工件应力测量位置、确定衍射面高度，实现快速定位。 方便配置手动、自动X（行程300mm）、Y（行程200mm）轴支架，用于测量主应力及主应力方向、全自动应力云图测量。 Z轴移动范围达300mm，在不调整设备结构时，也适合更大尺寸工件应力测量。蛇形手臂设计，可在不移动支架底座的情况下将测角仪调整至各个方向，方便现场对大型结构件的各种部分进行应力测试。 同倾法和侧倾法通用，通过手工切换。侧倾法和同倾法2θ角测量范围: 105°~170°。 一次曝光实现奥氏体含量测量。ψ角测量范围：-35°～+35°，摇摆角：0～8°范围内设定。 无应力铁粉连续5次测量的应力标准差小于± 5MPa。 X射线管自主知识产权的金属陶瓷X射线管，耐热、抗震、不易损坏并且更换容易，无需专用工具可在几分钟之内更换完毕。采用内置循环水进行冷却，可长时间稳定使用。可选的多种靶材在应力测量时能够获得高质量衍射峰，从而保证应力测量结果准确性，可选靶材： Cr、Mn、Cu、Co、Fe、V等。 产品符合ASTM E915-2010、EN15305-2008及GB7704-2016等残余应力分析检测标准。 软件功能描述：专业的残余应力测量及分析软件，采用直线和椭圆两种方式进行拟合，采用不假定剪切应力为零的完整应力方程和椭圆拟合方法, 在测量正应力的同时测量剪切应力值。峰形拟合函数包括高斯、洛伦兹、皮尔森峰形拟合、抛物线等。检测测试结果除了正应力值和剪切应力值，峰强、积分宽度、半高宽等重要信息。

真空型X荧光光谱古董分析仪EDX 9900 plus美国AmpTek -SDD探测器, 高分辨率高计数率真空测试环境提供最优轻元素检测效果超宽元素分析范围，涵盖11Na to92U超大型抽真空样品腔，满足不同大小、器形的陶瓷样品无损检测大功率真空泵，缩短测量时间，极大提高检测效率多滤光片自动切换，提高微量元素检出限多准直孔，可测试不同大小样品点位内置高清摄像头EDX9900 plus能量色散荧光光谱仪-古董分析专家古陶瓷、古青铜器、古金器等金属文物和是古代文明的瑰宝，对世界文化和现代文明都具有重要的影响。现行的古器鉴定工作中,如何精确探究文物所藏成为最有待解决的问题。断源与断代是古陶瓷科学技术研究中的两个重要方面，其中必定要使用到对古陶瓷标本的化学组成以及记录其年代信息的载体进行测定的科学方法。测定古陶瓷标本与各地制陶原料的化学组成可以确定古陶瓷的产地，并可在一定程度上帮助判断古陶瓷的烧造年代；而通过检测保留在古陶瓷内部的记录其年代信息的各种载体，则可以较准确的进行断代。能量色散X荧光能谱(EDXRF) 是以X射线照射到样品表面，利用能谱仪测定各种元素的特征X射线光子的能量和强度，以此来进行定性和定量分析。作为一款高性能的台式能量色散X射线荧光（EDXRF）元素分析仪，新款EDX9900 plus古董分析仪配置了最先进的基于Windows基本参数算法的FP（Fundamental parameter）软件，同时配备了最优的高性能硬件，来满足客户对于复杂古董样品的元素分析需求。无论客户的样品是是固体或者粉末，EDX9900 plus古董分析仪都可以轻松实现从钠（Na）到铀（U）元素的无损定性和定量分析。更快的分析速度，更精确的测试结果，更稳定的仪器性能， 使得EDX9900 plus光谱仪在古器、古文物鉴定科学领域中，快速无损的鉴别陶器，油画，影印制品，玉石、玻璃制品，宝石，青铜及铜合金真伪和年代，对文物、艺术品的修复起到了重要的作用英飞思EDX9900 plus古董分析光谱仪可以一次性同时分析古陶瓷标本胎和釉中Na2O、MgO、Al2O3、CaO、Fe2O3、K2O、MnO、SiO2、TiO2、As、Cr、Cu、Co、Mn、Ni、Pb、Ti、V、Zn、Zr、Ba等化学成份；也能对青铜器(Cu、Sn、Pb、Zn等)、贵金属（Au、Pt、Ag、Cu、Ni、Zn等）的化学成份含量进行检测，再对照中国古陶瓷数据库便可以达到断代断源的功效。EDX9900 plus古董分析仪专注于对古董陶瓷或金属材料的主量，微量和痕量元素进行定性和定量分析，其中包括：测定青铜器中的元素成分测定瓷器的元素成分测定金银器中的元素成分测定铁器等元素成分产品特点作为一款专业为古董元素分析而设计和生产的光谱仪，EDX-9900 plus古董分析测试光谱仪兼顾了耐用性，易于操作和高性价比。其显著优势主要有：• 无需或者很少的样品制备，全程无损分析，一到三分钟即可出结果• 强大的基于Windows的FP（基本参数算法）软件降低了基体效应的影响• 50 kV 光管管和电制冷的SDD硅漂移检测器不仅具有出色的短期重复性和长期重现性，而且具有出色的元素峰分辨率• 能同时进行元素和氧化物成分分析• 多重仪器硬件保护系统，并可通过软件进行全程实时监控, 让仪器工作更稳定、更安全• 特别设计的光路和真空系统大大提高了轻元素(Na, Mg, Al, Si, P）的测试灵敏度和准确性，同时在测试Cd,Pb,Cr,Hg,Br,Cl等其他元素的灵敏度和稳定性都有了明显的提高• 友好的用户界面，可定制的分析报告，可一键打印测试报告，包括分析结果，样品信息，光谱信息和样品图像• 高清内置摄像头，清晰地显示仪器所检测的样品部位古董元素检测专家EDX9900 plus仪器参数仪器外观尺寸: 880×750×1280 mm超大样品腔：665×580×980mm仪器重量: 315Kg元素分析范围：Na11-U92硫到铀可分析含量范围：1ppm- 99.99%探测器：AmpTek 高分辨率电制冷SDD硅漂移检测器多道分析器: 4096道DPP analyzer 分析器X光管：50W高功率铍窗光管高压发生装置：电压最大输出50kV，自带电压过载保护电压：220ACV 50/60HZ环境温度：-10 °C 到35 °C仪器配置标准配置可选配置纯Ag初始化标样古董陶瓷标准样真空泵交流净化稳压电源USB数据线电源线测试薄膜仪器出厂和标定报告保修卡功能强大而界面友好的测试软件EDX9900 plus已在工厂预安装了软件并进行了数据标定，客户运行软件即可立刻开始测试。无需每天重复标定。强大的软件功能还提供了一键初始化仪器，基体自动匹配自动定性，半定量和定量分析，不同样品测试谱图可实时对比光谱处理和校正，去除双倍峰和逃逸峰干扰，降低元素吸收增强效应影响光谱背景扣除，有效提高微量元素检测精度可实时刷新测量结果简单的流程栏向导可帮助用户创建新的自定义标定曲线可定制化测试报告，一键打印陶瓷样品10次测试稳定性报告样品名称Na2OMgOAl2O3SiO2PK2OTiO2Fe2O3陶瓷4-10.15300.358219.250868.41180.14034.84630.15180.9259陶瓷4-20.16000.310219.226068.19610.13204.86340.15690.9184陶瓷4-30.16770.349819.070968.29300.13114.85110.15060.9249陶瓷4-40.17210.339919.145368.15050.13384.84300.14970.9216陶瓷4-50.15900.319019.187568.34850.13044.85860.15350.9108陶瓷4-60.15870.356819.153068.28220.13704.85590.14670.9171陶瓷4-70.15030.313219.124368.36570.13264.85930.14520.9267陶瓷4-80.16420.318219.137168.30770.12694.85180.14140.9182陶瓷4-90.15050.331019.147168.32040.13734.85690.15720.9221陶瓷4-100.15640.300319.111968.24440.13604.84060.14930.9244陶瓷4-110.16220.334519.053768.28050.13474.85070.15260.9175平均值0.15950.330119.146168.29100.13384.85250.15040.9207标准偏差0.00690.01960.05920.07470.00380.00710.00480.0048相对标准偏差4.32%5.94%0.31%0.11%2.81%0.15%3.18%0.52%

仪器简介：Rubotherm TG高真空 高压热重分析仪可极其精确的测量可控条件（压力，温度，极端环境等）下作用于样品的力和质量变化。这类测量使我们可能迅速、精确地确定传送量和状态量（吸附、散射、表面张力、密度），以研究化学反应（腐蚀，降解，高温分解等）、调查生产技术（聚合，涂布，干燥等）。Rubotherm DynTHERM系列TGA分析仪可以完成其他仪器无法做到的事情：在高压下测量有腐蚀性或有毒性气体或蒸气。除此之外，磁悬浮天平可以在长时期的测量中进行零点校正和天平校正，因此，我们的仪器可以得到独一无二的长时间精确度和稳定性。DynTHERM系列仪器分为低压和高压型号。此外，模块化的设计使得仪器很容易升级或重组装为其他用途的分析仪。DynTHERM分析仪可以很理想的应用于下列研究或材料： 煤和生物质的气化 CO2和H2捕获材料 高温分解过程 催化材料（TPx，硫化，炼焦） CVD涂覆工艺 除基础研究和材料测试之外，此类测量也用于设计和优化多种工业操作。例如： 吸附测定： - 废气净化 - 土壤解毒 - 食物生产 - 天然气和氢的存储和/或净化 - 超临界液体萃取 热解重量分析仪 - 煤炭气化 - 垃圾焚化 - 材料合成 密度测定： - PVT-行为测量 使用我们的磁悬浮天平，几乎可以在任何测量条件下进行无接触的样品重量分析。待测量样品不是直接悬于天平（常规的重量分析仪器），而是连接在一个&rdquo 悬浮磁体&rdquo 上。一个附在天平底板的测量环上的电磁石通过一个电子控制单元维持悬浮磁体的自由悬浮状态。利用这个磁悬浮耦合，测量力无接触的从测量室传递到位于测量室外部的微量天平。因此，这种装置几乎消除了常规的重量分析仪器不可避免的所有的限制，这种极其精确、直接测量的方法在各种科学研究开发领域中的广泛应用变得可能和明显。技术参数：Rubotherm TG 高真空高压热重分析仪技术参数： 压力范围： - UHV（超高真空）至500bar（可订制到200 bar） - 真空至1.3 bar 温度范围： - 50 bar 1100℃ ， 40 bar 1200℃ - 常压到1800℃ - 样品最高加热速率 7000K/分，满足对生物质材料/煤的快速焦化研究分辨率： - 0.01mg至1&mu g 重复性（标准偏差）： - ± 0.02mg至± 2&mu g 相对误差： - &le 测量值的0.002% 最大可称量： - 80g或10gDynTHERM LP参数指标： 型号 天平读出限 压力范围 最大样品区温度 LT 1ug 或 10ug 真空到1bar 900℃ ST 1ug 或 10ug 真空到1bar 1100℃ HT 1ug 或 10ug 真空到1bar 1550℃ DynTHERM HP参数指标： 型号 天平读出限 压力范围 最大样品区温度 LT 1ug 或 10ug 真空到100bar 900℃ ST 1ug 或 10ug 真空到 50bar 1100℃ HT 1ug 或 10ug 真空到 40bar 1200℃主要特点：Rubotherm TG 高压高真空热重分析仪的精确度高于常规天平人工测量所能达到的精确度。这一结果来自对自由悬浮状态的最佳控制、悬浮耦合进样的精巧耦合及解耦，以及天平的零点调节和校准，后者可产生小数点后两位重复的测量精确性，这一结果世界领先，尤其进行长期测量的时候。可耐任何腐蚀性气体以及蒸汽的使用。

SD-650MHT双靶磁控溅射仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。双靶磁控溅射仪原理:　　磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E（电场）×B（磁场）所指的方向漂移，简称E×B漂移，其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材，从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加，二次电子的能量消耗殆尽，逐渐远离靶表面，并在电场E的作用下zui终沉积在基片上。由于该电子的能量很低，传递给基片的能量很小，致使基片温升较低。SD-650双靶磁控溅射镀膜机参数：品牌品牌 : 北京博远微纳科技有限公司 型号: SD-650MHT 仪器主机尺寸: 长610mm×宽420mm×高220mm（注：含腔体总高720mm） 工作腔室尺寸： 金属腔体：直径260mm×高500mm（外尺寸 ） 直径210mm×高270mm（内尺寸） 靶头：双靶 靶材尺寸：直径50mm×厚3mm（因靶材材质不同厚度有所不同） 靶材料：标配一块直径50mm×3mm的铜靶及直径50mm×3mm的铝靶 靶枪冷却方式： 水冷 极限真空度: 5×10-5Pa（10分钟可到5×10-3Pa） 电源：直流恒流电源：输入电压：220V 输出电压：0-600v 输出电流：0-1.6A 射频电源和匹配器：功率500W。 载样台： 直径200mm 工作气体：Ar等惰性气体（需自备气瓶及减压阀） 气路： 气路可以通过电磁流量阀与手动阀联动控制。 水冷： 自循环冷却水机 膜厚仪 : 实时监测，触摸屏控制 可镀材料： 铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等 电源电压： 220V 50Hz 启动功率 3KW 【SD-650MHT安装 / 使用 环境】选择一个合适的仪器摆放位置：1、放置SD-650MT高真空磁控镀膜仪在一个长130cm,宽60cm的平面桌子上（桌子的承重需要在200KG以上）；2，放置“外置 旋转机械真空泵”及“冷水机”在一个合适的位置（地面 / 靠近镀膜仪主机）；3，系统总重量（镀膜仪、电器柜、选装泵、冷水机）约为208~240KG（选配不同），请确保有4人一起移动 / 搬运仪器；4，仪器的使用 / 运行环境温度为15~25摄氏度，相对湿度不超过75%；5,为仪器提供一个220V，16A的空开。6，确保使用 / 运行环境有足够的通风，并且避免阳光直接照射到仪器。7，氩气和氩气瓶解压阀需自备。

HPA/SPM定性和定量气体分析模块化和灵活的解决方案。高压分析仪 HPA 220在压力范围高达 50 hPa 下的气体分析高压分析仪 HPA 220 是一个模块化、灵活实用的质谱仪系统，它带有一个干式涡轮分子泵组，可用于在压力高达 50 hPa 的真空中进行气体分析。根据 HPA 220 的用途，有五种不同电动气动以及手动操作的进气口阀可供选择。产品优势由于其 5 种手动、电动气动操作的进气口选择，使得它在压力高达 50 hPa 压下为分析、监测和控制过程提供了很大的灵活性。通过各种数字和模拟输入和输出，使系统集成方便而灵活。多重操作允许多个质谱仪 系统只用一台电脑进行数据评估。紧凑的尺寸实现灵活的集成。应用在 1 10-7 至 50 hPa 的压力范围内进行真空工艺的分析、监测和控制真空镀膜系统的制造商和操作员半导体生产光刻冶金真空炉研发镀膜工艺监测器 SPM 22010-2 hPa 的即时镀膜工艺气体分析真空镀膜工艺监测器 SPM 220 为镀膜工艺的定性和定量气体分析提供了完美的解决方案。HiPace 涡轮分子泵组和质谱仪系统的组合加上专门开发的镀膜工艺监测器离子源，在高达 10-2 hPa 的压力下，实现了精确到分钟的工艺气体分析。普发真空还提供了一个带有压差孔板法兰的版本作为选择，使得在高达 10 hPa 的压力范围里进行直接的工艺气体分析成为了可能。产品优势用于瞬时过程监测的镀膜工艺监测器离子源用于 H2、O2、H2O 和 CO2 的优秀检测限对测量结果的最小化背景影响压力高达 10 hPa 的压差版本多重操作允许带单个 PC 的多个质谱仪系统进行数据评估灵活集成的紧凑尺寸通过各种数字和模拟输入和输出，使系统集成方便而灵活应用在高达 10-2 hPa 的压力下，镀膜工序的分析可精确到分钟真空镀膜系统的制造商和操作员半导体生产玻璃镀膜薄膜太阳能电池发电研发尺寸

仪器简介 英国Hiden公司的HAL 201 RC超高真空残余气体分析四极质谱仪专为检测超高真空容器中的存在组分而设计，针对真空诊断进行精确的分析。 离子源为镀金离子源，适合应用在总压小于5 x 10-10mbar的领域，其系统与EPIC离子/分子分析质谱仪完全兼容。 主要特点：镀金离子源，以减少离子源脱气 氧化物涂层双铱丝的离子源 双法拉第/ Channeltron电子倍增器检测器 技术规格：质量数范围： 200，300 amu扫描速度： 100amu/s 最小扫描步阶：0.01amu 灵敏度： 0.1 ppm～1ppm 稳定性： 24h以上，峰高变化小于±0.5% 最小检测分压：5 x 10-14 mbar 最大工作压力：1 x 10-4 mbar

SD-650MH高真空磁控溅射镀膜机博远微纳VPI镀膜设备优点：体积小，抽真空时间快，可做靶材种类多。特点：1、高真空磁控溅射仪要求稳定，安全可靠，操作简单便捷。适用于大专、科研院所的薄膜材料研究、制备。2、 高真空磁控溅射镀膜仪主要由溅射真空室、磁控溅射靶、旋转样品台、工作气路、抽气系统、真空测量及电控系统等部分组成。3、★高真空磁控溅射仪长610mm×宽420mm×高220mm（注：含腔体总高490mm） 可放于桌面，小巧不占空间。抽真空速度快，10分钟可进入工作状态。真空腔体采用直径260mm×高270mm的金属真空腔体，真空腔体上有多个备用标准接口，方便老师想进行其他实验研究接入设备，后期可直接配备射频溅射系统，方便老师后续想镀半导体等材料。4、前级机械泵抽速为 4L/s，带防返油电磁阀及油污过滤器 ，后级抗冲击涡轮分子泵采用抽速为300L/s。真空测量采用复合真空计监测真空，极限真空度: 5×10-5Pa。 5、★直流恒流电源输入电压为220V，输出电压为0-600v，输出电流为0-1.6A ，沉积速率为0-200nm/min。电控带锁系统，防止无关人士误操作。溅射定时保护装置，防止溅射时间过长引起的样品损坏。溅射磁控头直径为50mm。配备一块厚度不小于0.2mm厚的金靶，方便产品到货直接使用。基体温度较低，在不耐温材料上可以完成镀膜。6、 样品台采用旋转式样品台。直径尺寸可选，最大不能超过φ150mm。7、采用自循环冷却水机冷却靶头，保证靶头寿命。8、 真空腔室采用金属腔体，具备良好气密性，防止漏气，确保高真空度。尺寸直径260mm×高270mm（外尺寸 ），容积≥9300ml。适用更多样品。9、 样品台直径200mm，支持水平旋转、20度倾斜球形旋转。可放置≥12个标准SEM样品座。适用更多形状的样品，保证镀膜的均匀性。10、 溅射管头为双靶，配水冷。可支持磁控溅射、离子溅射，可溅射强磁性材料。11、 标配铜靶、铬靶各一块。直径50mm×3mm。其它可溅射靶材包括铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等12、 靶材均匀度直径50mm内，金属类膜厚均匀度可达±1%13、 可配直流恒流电源、射频电源（含匹配一体机）输入电压：220V输出电压：0-600v可调输出电流：0-1.6A可调14、 配置VPI液晶控制面板，可智能控制系统操作。操作简单，人机界面良好。15、 极限真空度5×10-5Pa，真空抽速300L/s。16、 标配自循环冷却水机一台。17、 气路可以通过电磁流量阀与手动阀联动控制。实现自动补气。18、可放置于桌面，减少占地空间。19、膜厚仪监控范围0～6000纳米。可监控速率0.001纳米/秒。与触摸屏程序操作相结合，可联动控制，监测膜厚。 原理： 溅射镀膜的原理是稀薄气体在异常辉光放电产生的等离子体在电场的作用下，对阴极靶材表面进行轰击，把靶材表面的分子、原子、离子及电子等溅射出来，被溅射出来的粒子带有一定的动能，沿一定的方向射向基体表面，在基体表面形成镀层。溅射时产生的快电子在正交的电磁场中作近似摆线运动，增加了电子行程，提高了气体的离化率，同时高能量粒子与气体碰撞后失去能量，基体温度较低，在不耐温材料上可以完成镀膜。SD-650MH高真空磁控溅射镀膜机博远微纳VPI镀膜设备指标品牌：北京博远微纳科技有限公司 型号：SD-650MH 仪器主机尺寸:长610mm×宽420mm×高220mm（注：含腔体总高490mm） 工作腔室尺寸：金属腔体：直径260mm×高270mm（外尺寸 ） 直径210mm×高270mm（内尺寸） 靶材尺寸： 直径50mm×厚3mm（因靶材材质不同厚度有所不同） 靶材料：标配一块直径50mm×0.3mm的铜靶（可溅射弱磁性金属膜） 靶枪冷却方式：水冷 真空系统： 抗冲击涡轮分子泵，抽速为 300L/s 前级机械泵： 抽速为 4L/s，带防返油电磁阀及油污过滤器 真空测量：采用复合真空计监测真空 极限真空度: 5×10-5Pa（10分钟可到5×10-4Pa） 电源：直流恒流电源： 输入电压：220V 输出电压：0-600v可调 输出电流（沉积电流）：0-1.6A可调 载样台： 旋转台等 工作气体： Ar等惰性气体） 气路：气路可以通过电磁流量阀与手动阀联动控制。实现自动补气。 沉积速率： 0-200nm 水冷： 自循环冷却水机 电源电压： 220V 50Hz 启动功率 ： 3KW 保修 ： 贰年 用途特点： 高真空磁控溅射镀膜仪主要由溅射真空室、磁控溅射靶、样品台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。高真空溅射可用于金属等新型薄膜材料的制备，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，可广泛用于大专、科研院所的薄膜材料研究、制备。

德国弗莱贝格仪器Quatrz XRD——石英晶体X射线衍射仪主要应用于对石英棒、硅片和坯料进行生产质量控制。而根据样品对象的不同，Quatrz XRD可以分为Quatrz Bar XRD、Quatrz Wafer XRD和Quatrz Blank XRD，即全自动石英棒定向仪、全自动石英晶圆盘分析仪和全自动石英晶片分选仪三种型号。全自动石英棒定向仪▼ 样品：石英棒特点：完全自动化的吸收和校准石英棒自动上胶转接器板校准精度：±0.5°(AT & TF)全自动石英晶圆片分析仪▼样品：圆形，长方形和正方形4 x 4毫米至80 x 80毫米(人工处理样本)20 x 20毫米至80 x 80毫米(自动样本处理)特点：空间质量检查的映射图选项模块化设计，支持未来的自动化升级用于输入/输出的标准样品盒：盒式或叠式可用排序函数产量：在标准分选精度下，可高达350片/小时全自动石英晶片分选仪▼样品：圆形，长方形和正方形4 x 4毫米至12 x 12毫米(手工处理样本)1.5 x 1.5毫米至3.0 x 6.0毫米(自动化选项一)4.0 x 4.0 mm至9.0 x 9.0 mm(自动化选项二)特点：质量分组：±7.5 arcsec吞吐量：在标准分拣精度下，每小时可处理高达1000个晶片

?Talliani真空安定性分析仪 应用领域：适合硝基纤维素、其它硝基化合物、单基或双基推进剂及其他相关物的安定性和相容性的的测定、分析；符合标准：符合美国军标MIL-STD，真空安定性测试法(汞压力计法)；工作原理：定量试样在定容、恒温和一定真空条件下受热分解，用汞压力计测量其在一定时间内放出的气体的压力，在换算成标准状态下的体积，用以评价试样的安定性及相容性。仪器技术及结构特点：1)铝制加热块，电加热；2)15个样品孔，直径15.75 mm, 深度125mm；3)温度传感器：PT100 探头；4)过温安全防护装置设定在150℃；5)PID温度程序控制器，单独控制箱；6)电源线长度：约2 m；7)数字显示实际温度以及设定温度；8)温度控制精度：±0.1℃；9)加热温度范围：可调节，从室温~ 135℃；10)样品试管，15个/套，为圆柱状试管，带汞轴；毛细管压力计(毛细管和汞杯)；11)试管尺寸：?15 mm x 155 mm；12)支架，用于固定玻璃组件和汞；13)电源：230V /50Hz，功率：1800 VA； 可选配件：真空泵，符合IP44，4级隔膜泵，最大真空度为0.6 mbar，最大吸气能力为13L/min； 订购信息：进口真空安定性分析仪； ?

概要 最新一代的X射线荧光分析显微镜XGT-7000开创了科学分析的新时代。它将光学图像与元素分析完美地结合，为科研工作者的研究和分析提供了新的分析手段。 SDD检测器保证了高速、高精度元素面扫描；高能量分辨率，高计数率的测量，且无需液氮。 双真空式设计确保用户可以在几秒钟内完成样品室内部氛围的切换（大气或真空）。即使测量含水样品、生物样品时也可以保证测量所有元素的高灵敏度。 独特的硬件设计确保了XGT-7000操作的灵活性和广泛的应用范围。通过软件控制x射线导管在10 μm和1.2 mm间切换，以保证获得最佳测量条件，无论是微观到宏观。 与x射线导管同轴的CCD相机，可以迅速、精确地定位感兴趣区域。单点及多点自动分析 单点和自动多点分析功能使得无论是从单个分析位置或是用户定义的一系列位置上均可以获得高质量的谱图。可自动标注元素谱峰。使用基本参数法或单标样基本参数法或是标准样品校正曲线法定量计算，最低可测量ppm级的含量。膜厚分析软件可以分析nm级或μm级样品的多层膜厚。高光谱面扫描 SmartMap软件在每个像素点采集元素谱图。采集结束后，用户可以根据自己的分析，添加或删除某个元素面分布图，实现已有数据实现脱机分析。 X射线透射图像有利于用户观察样品内部构造，实现真正的无损内部观测。 特征 有着诸多创新的XGT-7200在众多领域有着广泛的应用：电子电器、发动机磨损分析、法医科学、地质矿物、医药、博物馆、冶金、生物等。XGT-7200的灵活设计，保证用户通过简易的操作即可获得高质量的分析结果，无论是分析大区域，还是对微区细节分析，或是同时采集X射线荧光图像和X射线透过像。 *最高的空间分辨率 HORIBA独特的X射线光管技术提供高空间分辨率微区XRF分析，X射线光斑直径小到10微米。这种最高强度的超细光斑，可进行快速无损的微细结构分析。*X射线透过像 同时采集XRF图像和X射线透过像的功能，可以用来分析无法用肉眼观察到的样品内部构造和元素组成。采用超细垂直的X射线束，即使观察不平坦样品也可以获得清晰的内部图像。*双真空模式 独一无二的双真空模式设计- 彼此间的切换在数秒内即可完成。 全真空模式，整个样品室处于真空氛围以保证轻元素分析的高灵敏度。 局部真空模式，样品处于大气氛围中，适宜于含水样品的分析，如生物组织、文物碎片和馆藏文物等。*完整地分析整个样品*整合数据采集和分析的操作软件 界面友好的操作软件允许用户方便的控制硬件、选择测量区域和全数据分析。功能包括：自动标定谱峰、定性定量测量、RGB图像合成，线分析等。大尺寸的样品室使得分析整个样品成为可能，用10微米束斑可以分析微小区域甚至到测量大至10cm x 10cm的区域。技术参数测量元素： Na~UX射线管： 铑（Rh）靶 /管电压 50 kV / 管电流 1 mAX射线荧光检测器： SDD硅漂移检测器透过X射线检测器： NaI（Ti）晶体X射线导管： 单毛细管 10μm / 100μm 无滤光片光学图像： 样品整体光学像及共轴放大图像样品台尺寸： XY：100mm×100mm样品仓： 全真空模式/ 最大真空 300mm×300mm×80mm信号处理： 数值脉冲处理器（INCA处理器 ）定性分析： 自动定义谱峰/ KLM线标注/ 谱峰查找/ 谱峰匹配定量分析： 无标样基本参数法/ 标准无标样基本参数法/ 标准文件匹配基本参数法/ 校正曲线/ 多层膜基本参数法/ 多点分析（最多5000）/ 多点结果输出至Excel® 面扫描功能： 透过X射线像/ 元素面分布图/ 谱图面扫描 /矩形面扫描/ 生成谱图/ RGB合成/ 标尺/ 线分析其它功能： 可同时开启XGT-5200操作软件

苏州三值（3V）抽真空EDX8300H矿石分析仪 1.1.1EDX8300H配备抽真空，更好地应对RoHS、无卤等环保指令，配置了真空测试系统，增加了元素测试范围，探测器配备SDD的测试系统，特别是提高了Na、Mg、Al、Si等轻元素的检出限，精确度提高了，同时在测试Cd/Pb/Cr/Hg/Br/Cl等其他元素的重复性稳定性有了明显的提高。 1.1.2整体结构化设计，仪器美观大方。 1.1.3采用美国新型的SDD探测器，电致冷而非液氮制冷，体积小、数据分析准确且维护成本低。 1.1.4采用自主研发的SES信号处理系统，有效提高峰背比，让测量更准。 1.1.5一键式自动测试，使用更简单，更方便，界面更人性化。 1.1.6七种光路校正准直系统，根据不同样品自动切换。 1.1.7多重防辐射泄露设计，辐射防护级别属于同类产品高级。 1.1.8优化一体化散热设计，使整机散热性能得到更大提高，确保X射线源的运行安全。 1.1.9独有的机芯温度监控技术，确保射线源的安全可靠运行，有效延长其使用寿命，降低使用成本。 1.1.10多重仪器配件保护系统，并可通过软件进行全程监控, 让仪器工作更稳定、更安全。 1.1.11专用真空测试软件，是否抽真空可自由选择，真空度实时显示，标准视窗设计，界面友好，操作简便，所有控制均在轻点鼠标之间。 1.1.12本机采用USB2.0接口，有效保证数据准确高速有效的传输。 1.1.13独有的全自动真空系统,彻底屏蔽空气对轻元素测试的影响,极大提高了轻元素的检出限，同时也扩大了检测范围。1.1.14一体化真空腔体设计，有效地保证了符合测试要求的真空度，同时提高了设备的可维性。1.1.15抽真空测试和不抽真空测试转换简单，方便客户使用；同时开盖即解除真空，安全、简单实用。2.苏州三值（3V）抽真空EDX8300H矿石分析仪硬件部分主要配 2.1 SDD电制冷探测器:（新型探测器） 2.1.1. SDD电制冷探测器；分辨率：129±5e电子伏特 2.1.2. 放大电路模块:对样品特征X射线进行探测；把探测采集的信息,进一步放大。2.2 X射线激发装置(薄铍窗光管）: 2.2.1. 灯丝电流输出：1mA；2.3 高压发射装置:2.3.1. 电压输出： 50kV；2.3.2. 最小5kv可控调节2.3.3. 自带电压过载保护2.4　一体化真空系统2.4.1　具有低震动、低噪音、自保护及抽速快等优良性能的真空泵系统；2.4.2　几何抽速：60 L/min（50Hz）2.4.3　极限压力：6.7×10-2 Pa2.5 多道分析器: 2.5.1. 将采集的模拟信号转换成数字信号,并将处理结果提供给上位机软件；2.5.2 道数约： 4096；2.5.3 包含信号增强处理功能；2.6光路过滤模块 2.6.1 降低X射线光路发送过程中的干扰，保证探测器接收信号准确； 2.6.2 将准直器与滤光处整合；2.7 准直器自动切换模块2.7.1 多达7种选择，口径分别为8-1＃, 8-2＃, 8-3＃, 8-4＃，6＃, 4＃, 2＃。2.8 滤光片自动切换模块 2.8.1五种滤光片的自由选择和切换。2.9 准直器和滤光片的自由组合模块 2.9.1 多达几十种的准直器和滤光片的自由组合。2.10 工作曲线自动选择模块2.10.1 自动选择工作曲线，摒弃手动选择，避免人为操作失误，将自动化和智能化演绎得更完美，使操作更人性，更方便。 3. 苏州三值（3V）抽真空EDX8300H矿石分析仪专用软件MeaRohs 3.1.1软件简介专门针对RoHS(含卤素元素)检测而开发（含真空控制功能），对采集的光谱信号进行数据处理、计算并报告显示测量结果3.1.2功能介绍※专门应对欧盟RoHS指令中六种物质涉及的五种元素 Cd, Pb, Hg, Br, Cr和卤素元素Cl测试，测量时间为100-300秒（可调） ※操作界面简洁直观，使用方便，无需专业人士操作3.2 ROHS分析软件软件界面如下图所示：

108自动真空溅射仪是目前较为先进的对样品进行预处理的仪器。主要适用于扫描电子显微（SEM）和X射线微观分析等表征工作前的镀金等贵金属处理。同时，彻底排除了真空度对成膜质量的影响，溅射电流，可“暂停”的时间控制和进气量的调节控制保证了溅射的质量。1、108自动溅射仪提供了完全自动或手动操作两种工作模式，其中包括自动放气和进放氩气控制。2、在自动模式中，可以通过数显工作时间或MTM-20膜厚监控仪（可选件）来实现镀膜的可重复性。3、为了获得高质量的镀膜，镀膜仪会根据一定的成膜速率和真空室内的气压来调控工作电流值。4、采用直流磁控管低压“超冷”溅射，使得镀膜时对试样的热影响最小。5、电子阀结合针阀设计使得放气、充气操作简单快捷。6、可以快速更换溅射靶材 技术参数表腔体尺寸120mm OD x 120mm height (4.75x 4.75")靶材标配Au 选配Au:Pd, Pt, Pt:Pd规格57mm dia x 0.1mm thick样品台12孔SEM钉型样品台支架高度60mm可调真空度大气压 - 0.001mb工作电压200-240 VAC, 50Hz工作功率300W

仪器简介：典型应用是氩离子溅射清洗表面(中科院物理所配置多套IG2型离子源)溅射清洗 /表面准备，用于表面科学， MBE ，高真空溅射过程离子辅助沉积离子束溅射镀膜反应离子刻蚀高性价比IG2溅射离子枪套件是低成本离子束蚀刻和溅射清洁样品的完美解决方案，用于表面分析、清洁STM尖端、一般真空科学和纳米技术应用。如果您只想清洁样品或 STM 吸头的表面，为什么要支付超出您需要的费用？这种操作简单且可靠的溅射离子枪和控制构成了当今市场上价格最低的封装！IG2 还可以使用惰性气体（如氩气和氧气）运行。操作理论IG2离子源产生高能惰性气体离子束，用于溅射蚀刻固体表面。该源需要使用惰性气体（如氩气）的静压为 5x10-5 torr（有关兼容气体列表，请参见数据表）。离子在离子源的双丝电离室内由电子撞击产生，然后以高达2 kV的能量聚焦在目标上。通过使用离轴灯丝几何形状，离子束的杂质含量最小化。聚焦透镜允许在给定的工作压力和源到样品距离下获得高离子电流密度。双钨丝组件允许在第根灯丝打开时继续运行。在推荐的工作条件下，灯丝组件的预期寿命在正常使用下为数年。灯丝组件在现场很容易更换。32-165 型 2 kV 离子源控制器提供操作 04-165 2 kV IG2型离子源所需的所有必要电压和电流。光束电压可以手动、远程或使用内置定时器激活。此外，阳极（离子）和灯丝电流以及光束和聚焦电压可以在外部进行监控，以确保溅射条件的准确再现。

测量元素：Na~UX射线管：铑（Rh）靶 /管电压 50 kV / 管电流 1 mAX射线荧光检测器：SDD硅漂移检测器透过X射线检测器：NaI（Ti）晶体X射线导管：单毛细管 10μm / 100μm 无滤光片光学图像：样品整体光学像及共轴放大图像样品台尺寸：XY：100mm×100mm样品仓：全真空模式/ 最大真空 300mm×300mm×80mm信号处理：数值脉冲处理器（INCA处理器 ）定性分析：自动定义谱峰/ KLM线标注/ 谱峰查找/ 谱峰匹配定量分析：无标样基本参数法/ 标准无标样基本参数法/ 标准文件匹配基本参数法/ 校正曲线/ 多层膜基本参数法/ 多点分析（最多5000）/ 多点结果输出至Excel® 面扫描功能：透过X射线像/ 元素面分布图/ 谱图面扫描 /矩形面扫描/ 生成谱图/ RGB合成/ 标尺/ 线分析其它功能：可同时开启XGT-5200操作软件

市场对通信电子、航空航天、计算机、汽车和其他行业对电子产品的日益依赖，正推动电子行业的快速增长，在电子行业不断推陈出新以满足更高期望的同时，对产品的质量控制也越来越严格。镀层作为保证电子行业产品质量可靠性和稳定性的主要工艺，其厚度是产品质量的最重要保证因素，因此，对镀层厚度的质量控制/保证至关重要，X射线荧光（XRF）因为其非破坏性、测量快速、易于使用，已成为一种广泛使用的镀层厚度和成分测量技术。INSIGHT旨在为镀层分析应用提供精准高效的分析方法。晓INSIGHT易于操作，配置灵活，可轻松超薄镀层的挑战，提供快速、准确和可重复的结果，帮助诸多的PCB、半导体等电子相关行业有效提高生产力，确保符合规范，以避免出现性能低下的风险以及与废料或返工相关的成本。使用优势多准直器组件可选配多准直器组合自动切换，使得INSIGHT的多功能性得以显著提升，以灵活应对不同尺寸的零件。上照式设计仪器采用上照式设计，可轻松实现对超大型、不规则、微小件、甚至液体形态样品的快、准、稳高效测量。高强度X射线管晓INSIGHT可选配高强度毛细管光学系统，可为仪器带来更高的计数率、 更小的点位测量，更薄的镀层测量，有助于将仪器的分析效率翻倍。可编程自动位移样品台选配自动平台，轻松实现自动测量，可以更快的准备和测量样品，从而提高分析量。一键式测量配备直观而智能的分析软件，操作简单，任何人无需培训都可以测试样品，仅仅需要点击“开始测试”，数十秒即可获得检测结果啦。提高生产力INSIGHT自动化功能帮助您可以更快地测量样品，从而提高您的分析量。超大测量室仪器壳体的开槽设计（C型槽）使得测量空间宽大，样品放置便捷，可以测量如印刷线路板类大而平整的物品，也可以放置形状复杂的大样品。高灵敏度的检测器对于复杂的镀层结构，SDD系列检测器更易分析具有类似XRF特征的元素，具有更佳分辨率、更低的背景噪声（最高 S/N 比），并且可以更精确地测量较薄镀层。自动对焦无论样品厚薄或大小如何，都可在几秒钟内自动对样品进行对焦。可从远至80毫米的距离测量样品，非常适合测量具有凹陷区域的零件，或者适用于测量不同高度的多个样品。应用场景印刷电路板Au/Ni/Cu/ PCB；Sn/Cu/PCB；Au/NiP/Cu/PCB；Ag/Cu/PCB；Sn/Cu/PCB；SnPd/Cu/PCB；Au/Pd/NiP/Cu/PCB连接器镀层电子和电气工业中，电接触用保护和耐磨镀层的应用正在不断增多。接触件作为电连接器的核心零部件，通过表处理能提高接触件的耐蚀、耐磨功能，也能在很大程度上优化接触件的传输功能。电连接器接触件基材一般为铜合金，常用的镀层有：镀锡、镀金、镀银、镀镍、镀钯等。晶圆制造（半导体）晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片。在生产过程中，需要对晶圆进行电镀工序，即在晶圆上电镀一层导电金属，后续还将对导电金属层进行加工以制成导电线路。晶圆作为芯片的基本材料，其对于电镀镀层的要求严格，故而工艺的要求也较高。晶圆电镀时必须保证镀层的均匀性和厚度，方能保证晶圆的质量。引线框架引线框架是连接半导体集成块内部芯片的接触点和外部导线的薄板金属框架，是半导体封装的一种主要结构材料。为了保证封装工艺中的装片／键合性能，需要对引线框架进行特殊的表面处理，常见的引线框架镀层元素有金、银、钯、镍等。规格参数特点自上而下的测量结构，XYZ测量平台，Muti-FP多层算法元素范围Na(钠)—Fm(镄) 分析层数5层（4层+基材）每层可分析10种元素，成分分析最多可分析25种元素X射线管微聚焦X射线管、毛细管X射线管（可选配）探测器高灵敏度大面积SDD探测器、SDD 50mm2超大面积探测器（可选配）准直器多准可选,多准可组合相机高分辨率CMOS彩色摄像头，500万像素手动样品XY平台移动范围：100 x 150 mm可编程XY平台(可选配)Z轴移动范围150 mm样品仓尺寸564×540×150mm（L×W×H）外形尺寸664×761×757mm（L×W×H）重量120KG电源AC 220V±5V 50Hz(各地区配置稍有不同) 额定功率150W

XRF工作原理是用X射线轰击样品，样品 受激发后产生X射线荧光。X射线通常把元素原子K层和L层的内层电子打出原子，产生的空穴被高能量的外层电子填补。补充到低能量轨道上的高能量电子把多余的能量以X射线荧光辐射出来。这些辐射出来的谱线中含有各种元素的特征。像指纹一样，并且独立于原子的化学价态。辐射的强度与样品中该元素的浓度成正比。ScopeX桌面式XRF分析仪采用了先进的工业设计及人工工程学理念，精致美观。仪器整体拥有更小的机身体积和更大的样品仓，节约空间的同时，带来了更高的样品兼容性。不论是不同形态（固、液、气、薄膜等）还是不同形状（块状、片状、线状）的样品，均可被准确分析。适用于大规模连续分析、过程控制、产品质量检验等环节，是石油、镀层、贵金属、水泥、矿物、金属材料和塑料等多种行业的理想工具。使用优势高性能配置低能X射线搭配智能真空系统，可对Si、P、S、Al、Mg等轻元素具有良好的激发效果，利用XRF技术可对高含量的Cr、Ni、Mo等重点元素进行分析。多种准直器、滤光片自动切换5mm，3mm，1mm，0.5mm四种准直器，准直器和滤光片均可由软件自动切换，省时省力，通过合适的准直器和滤光片或无滤光片组合可提升检测准确度及灵敏度。无损检测在不损害或不影响被检测对象使用性能,不伤害被检测对象内部组织，整个测试过程无任何损伤。Peltier制冷先进Peltier电制冷方式，无需液氮，降低设备使用复杂度，节约人力和设备维护成本。数据传输USB、WIFI、无线蓝牙等多种方式进行数据传输。用户自定义文件可采用EXCEL，PDF等格式，用户可自定义创建测试报告：包括公司标志、光谱谱图及其他样品信息。安全性全封闭式金属机箱及防泄漏保护开关，设计更科学，软硬件配合，机电联动，辐射安全符合国标GB18871-2002、GBZ115-2002要求。规格参数元素范围Na(钠)—U(铀)样品室尺寸ScopeX 980CS/ScopeX 980CSR：304×368×78mm（L×W×H）ScopeX 980/ScopeX 980S：365×300×78mm（L×W×H） 样品重量范围0-2.5KG开盖方式自动控制主机尺寸570×400×400mm（L×W×H）主机重量ScopeX 980CS/ScopeX 980CSR：64KGScopeX 980/ScopeX 980S：47KGX射线发生器大功率侧窗X射线管，50W，管压管流可自由调节，W/Ag/Rh靶材(可选配)电压上限50kV电流上限1mA冷却方式空冷探测器大面积SDD探测器测定环境空气模式、氦气模式、真空模式进样方式手动进样、自动进样样品观察500万像素高清工业摄像头PC处理器(CPU)i3-7100同等主频或以上内存（RAM）DDR4 4G内存或以上硬盘容量(ROM)1TB HDD或256GB SSD或以上温度条件10°C~35°C相对湿度40~70%(不结露)电源220VAC额定功率ScopeX 980/ScopeX 980S：100WScopeX 980CS/ScopeX 980CSR：600W

博远微纳阴极发光仪VPI宝石鉴定地质分析YB-ST5000原理:1、电子束从一个高压电源加速，通过一个真空管道，射向样品表面。2，当电子束与样品相互作用时，会产生多种现象，包括弹射、散射、吸收、激发等。3，其中一部分激发的电子会跃迁到低能级，同时释放出能量，形成可见光或其他波长的光子。这就是阴极发光的过程。3，阴极发光的光子会被一个透镜系统收集，并传输到一个探测器上，如摄像机、光谱仪或其他仪器。4，通过对阴极发光的强度、颜色、分布和波长等参数进行测量和分析，可以获得样品的各种信息，如成分、晶体结构、缺陷、应力等应用：1.地质学：可以用来研究岩石、矿物和化石的形成历史、变化过程和环境条件等。2.光电子能谱：可以用来研究半导体、太阳能电池和LED等器件的带隙结构、载流子复合和辐射效率等.3.故障分析：可以用来检测材料或器件中的裂纹、孔洞、杂质和其他缺陷，并确定其来源和影响等.4.陶瓷和玻璃：可以用来评估材料的均匀性、相变和稳定性等，并优化其制备工艺和性能等.5.其他领域：还可以用来研究生物组织、纳米材料和量子点等新型材料或系统。参数：1、电源输入：220V 50HZ 1000W2、高压电流：负高压设计，达到-30KV，电流最大-3mA3、电子枪：冷阴极式电子枪，电子束微控，光斑大小可调，最小4、光斑直径大小≤1mm5、样品仓：大样品仓，圆柱体设计，不锈钢腔体，腔体直径≥180mm，腔体深度≥150mm，全自动样品平台，可 360 度旋转，左右位移±30mm，上下位移 0-50mm6、观察方式：铅玻璃窗口，肉眼直接观察可准确调节样品位置与光斑大小，显微放大可有效观察荧光图案细节，可选配三目体视显微镜（10—80 倍），方便摄影拍照（相机接口及高清照相系统需另选购）7、真空模式：配备旋片式真空泵（2 升/分）及 CCD 显示系统8、计算机型号：HP 280 Pro G4 MT 1 台：i7 处理器、8GB 内存、2GB 独立显卡、型号：V223 ,21.5 寸液晶显示器、2TB 机械硬盘、Win7 操作系统

溅射离子枪主要用途:溅射清洗/表面科学中样品表面处理, MBE and HV 溅射过程离子辅助沉积离子束溅射镀膜反应离子刻蚀技术指标:离子能量25eV - 5keV总的离子束电流1mA (at 5kV with Argon)High Current Version: up to 4mA (at 5kV with Argon)电流密度120μA/cm2 at 100mm working distance离子束发散角Ion energy dependant (typically 15°)工作距离100 mm (typically)等离子体杯Alumina (superior than other dielectric materials due to highest yield of secondary electrons)气体进气口径CF-16 (1.33“OD)气体流速1 - 5 sccm (1,5 sccm typical, gas dependant)工作真空度10-6mbar - 10-3mbar (1x10-5mbar typical in chamber with 300l/s pimp). Low 10-6 mbar range possible - beam current then 140μA max.激发模式微波放电等离子体 (无灯丝)安装口径CF-35 (2.75“OD)枪直径34mm (真空端)泄露阀需要气体质量流量计第二代等离子体源，可以提供离子源，原子源，离子/原子混合源原子源主要用途：制备氮化物， e.g. GaN, AlN, GaAsN, SiN etc.氢原子清洗，氢原子辅助MBE.制备氧化物， e.g. ZnO, Superconductors, Optical coatings, Dielectrics. 掺杂， e.g. ZnSe离子源用途:离子束辅助沉积(IBAD) for both UHV and HV processes溅射沉积，双离子束溅射，Sputter deposition and dual ion beam sputtering溅射清洗/表面科学中的样品表面处理，Sputter cleaning / surface preparation in surface science, MBE and HV sputter processes.原位刻蚀， e.g. Chlorine 技术参数：真空兼容性：完全UHV兼容可烘烤：200°C微波功率：最大250W，2.45GHz磁铁类型：永久稀土。可在不破坏真空的情况下进行烘烤安装：NW63CF（4.5“OD）真空长度：300mm（可定制长度）：真空直径最大值=57mm光束直径：源处约25mm（较窄的光束也容易产生）等离子杯：氧化铝孔径：氧化铝或氮化硼气体流速：0.01-100sccm，取决于所选孔径工作压力：约10-7托至5x10-3托，取决于孔径、泵和应用-请联系tectra讨论您的应用。提供差动泵选项工作距离：50mm-300mm。150mm（典型值）冷却：全水冷（包括磁控管）电源：微波炉电网供电**仅限离子源和混合源19“机架安装。3U高度。230VAC，50Hz或115VAC，60Hz19“机架安装。3U高度。230VAC，50Hz或115VAC，60Hz主要特点：无灯丝适用于大多数气体，包括反应性气体，如氧气、氯气、氢气、氮气等。无微波调谐出厂设置，只需打开和关闭等离子。用户可配置提取光学器件设计为可快速方便地更换，允许用户自定义其来源，以适应样本大小、工作压力和电流密度的特定组合。易于更换的孔径使光束直径、气体负载和原子通量得以优化。简单烘烤制备新的可烘烤ECR磁体只需松开4个螺钉，即可进行简单的烘烤准备。磁体不需要移除，但仍位于封闭冷却回路的空气侧。因此，没有烧结材料暴露在真空中。Al2O3等离子区氧化铝等离子杯作为标准，具有更高的二次电子产量、更好的抗腐蚀性气体（如氧气）和理想的等离子打击能力从法兰（刀口侧）到外壳端，空气侧环境坡度的最小值仅为258mm

MMAS-18无限远正置透反射金相显微镜测量分析系统适用于对不透明物体或透明物体的显微观察。采用优良的无限远光学系统与模块化功能设计理念、可提供出色的光学性能与产品系统升级，实现透反射同步或者独立照明，偏光观察、暗场观察等功能，产品操作方便，造型美观，图像清晰，是生物学、金属学、矿物学、精密工程学、电子学等研究的理想仪器。MMAS-18系统配备了研润自主研发的MMAS测量分析系统以及MOS高端光学系统。一、技术特点：1、观察系统：铰链式观察镜筒，30度倾斜，单视度可调，可100%进行透光摄影。大视野平场广角目镜，视场范围直径22mm。配备无限远长距平场消色差物镜（无盖玻璃）。2、机械载物台：双层机械式载物台，尺寸210*140mm；移动范围63*50mm。3、落射照明系统：6V，30W卤素灯，亮度可调。不仅能对明视场观察，还能对偏光和暗视场观察法提供清晰的显微图像。内置视场光栏、孔径光栏能够有效调节视场衬度，且视场光阑中心可调。配置360度旋转的起偏器和检偏器，可实现偏光观察。转盘式滤色片组，带黄绿蓝三种滤色片和磨砂玻璃。翻盖式灯箱设计，方便更换灯泡。4、选配的暗场观察系统：选配的明暗视场物镜与暗视场照明装置，消除了照明系统的有害光线。5、透射照明系统：内置卤素灯照明装置，能提供清晰的显微图像，配置蓝滤色片与磨砂玻璃。阿贝聚光镜NA.1.25可上下升降；集光镜中内置视场光栏。5、选配件：5.1分化目镜：10X（直径22mm），格值0.1mm/格；5.2明视场选配物镜：20、50、80、100（干式）；5.3明暗视场选配物镜：PLL5X/0.12（工作距离8.05）、PLL10X/0.25（工作距离7.86）、PLL20X/0.4（工作距离7.23）、PLL40X/0.6（工作距离3.0）、PLL50X/0.7（工作距离1.75）、PLL60X/0.7（工作距离1.65）、PLL80X/0.8（工作距离0.8）、PLL100X/0.85（工作距离0.4）；5.4适配镜：0.5X、1X、0.5带0.1mm/格分化尺；5.5数码摄像机；5.612V30W卤素灯；5.7蓝、黄、绿滤色片；5.812V50W卤素灯（用于暗场观察）；二、技术参数：目镜大视野 WF10X(Φ22mm)物镜（明场）无限远平场消色差物镜PL 5X/0.12，工作距离：26.1mm无限远平场消色差物镜PL L10X/0.25，工作距离：20.2mm无限远平场消色差物镜PL L40X/0.60，工作距离：3.98mm无限远平场消色差物镜PL L60X/0.70，工作距离：2.08mm放大倍数50~600X目镜筒倾斜30度,瞳距调节范围53-75mm落射照明系统6V30W卤素灯,亮度可调内置视场光栏、孔径光栏、黄绿蓝滤色片和磨砂玻璃转换装置，推拉式检偏器与起偏器透射照明系统6V30W卤素灯,亮度可调，阿贝聚光镜NA1.25可上下升降，集光镜中内置视场光栏调焦机构粗微动同轴调焦, 微动格值:2μm,粗动松紧可调，带锁紧和限位装置转换器五孔(内向式滚珠内定位)；载物台双层机械移动式(尺寸:210mmX140mm,移动范围:63mmX50mm)外形尺寸455*545*260配备系统主机+MMAS数据处理系统1套+MOS光学系统一套+电脑一套软件功能:MMAS金相显微测量分析系统的核心功能是根据金相图像进行级别评定。目前以具备400多个按国家及行业标准制作的专业功能模块。MMAS金相显微测量分析系统具备数十种图像处理功能、同时具备报告处理、几何测量、定倍打印、图像拼接等多种辅助功能。MMAS金相显微测量分析系统还可以定制图像共聚焦、三维光图等专业功能。MMAS金相显微测量分析系统是为从事金相检验的单位或个人专门开发的一套计算机软件系统，它的基本原理是：用视频采集卡或数码相机等硬件设备，采集到金相显微镜中的金相图片，再对该图片进行处理和分析，得到相关检验结果。1.自动评级：本软件以检验标准为依据，开发出了近百余个类别两百余种软件功能模块，用户可根据需要，选择检验项目，在本软件的帮助下，完成检验工作。2.新建报告：可按用户需求制作报告文档的录入界面、软件可自动生成电子报告文档，并提供报告的保存和打印功能。3.打开报告：打开并浏览已经保存的报告文件。4.几何测量：本软件提供了“直线”、“矩形”、“圆”、“多边形”、“角度”等多种测量工具及测量方法，可完成长度、面积、角度等测量工作。5.查看图库：用户可选择查看本软件收录的所有金相图谱，本软件金相图谱由用户提供原始资料，由我方录入。6.定倍打印：可一次装入多副图片，并可对其进行图像处理，设置说明文字和打印版面，进而生成一份适合各种行业特殊要求的报告文件。7.图像拼接：将采集到的不同视场图像拼接成一幅完整的图像。7.图像共聚焦：该功能模块的作用是：将拍摄对象相同、但焦距不同的几张照片，重合成一张清晰的照片。界面及重合效果.8.三维光图：

设备简介NE-PE13F是一款小型真空等离子处理系统，广泛应用于科研院校，企业研发单位和小批量生产打样。设备采用进口品牌高性能旋片真空泵快速产生一个小于1-2 Pa的真空压强，同时根据客户工艺要求，对真空反应腔室内通入不同的混合工艺气体，采用进口高品质等离子发生器，使得通入的工艺气体产生等离子体，并确保稳定产生高密度，高能量的离子。等离子体与材料发生复杂的物理，化学反应，可以实现不同的工艺功能，比如清洗，活化，刻蚀与涂敷等。等离子态显著的特点是高均匀性辉光放电，根据不同气体发出从蓝色到深紫色的色彩可见光。 NE-PE13F 系统功能特点：&bull 耐用的高品质不锈钢结构和固定装置&bull 不锈钢托盘设计，可调节托盘间距&bull 8K镜面不锈钢腔体，卓越密封性&bull 13.56射频等离子发生器，产生高密度等高子体，确保出众的清洗效果；&bull 直观的触摸屏，过程参数实时监控。&bull 方便的定期校准设备连接验证过程中使用的要求&bull 支持各种工艺气体，包括氩气，氧，氢，氦和氟化气体&bull 通过联锁门或可移动的板&bull 两个标准的浮子针阀流量控制器，最佳气体控制 4、 设备技术参数序号项目型号规格参数1等离子体发生器功率0-300W可调抗辐射干扰高频匹配器自动阻抗匹配频率13.56 MHz2真空反应腔室腔体材质进口 316 不锈钢，军工级密封腔体容积240(W)*280(D)*200(H)mm 13.5L腔体有效处理面积205（W）×205（D）mm绝缘陶瓷进口高频陶瓷3放电电极电极高导电铝合金专用电极放电形式CCP & RIE 离子反应放电模式电极间距可调整电极之间的距离，调整等离子体强度和密度，极大提升处理能力和效率4气路控制气体流量控制器浮子针阀流量控制器， 0-1000ML气路数量配置3路工艺气路，支持氧气，氩气，氮气，氢气，四氟化碳，NH3,CCL4等5真空测量真空计SMC 真空计6抽气系统真空泵飞越 16m³ /H极限真空度0.1PA真空管路不锈钢管路+气动阀门7控制系统PLC松下PLC模块触摸屏4.3寸软件程序自主专利设计等离子控制系统8场务条件电源供应220V气管接口直径8mm气体纯度99.99%气体压力0.3-0.6Mpa排气口KF259整机参数整机功率1000W外形尺寸630mm(L)×550mm(W) ×580 mm(H)重量80kg

真空型矿产元素分析仪EDX 9000B矿产检测专家Simply the Best美国AmpTek -SDD探测器, 高分辨率高计数率真空测试环境提供最优轻元素检测效果无损元素分析涵盖11Na to 92U适应各种复杂矿物样品测试，固体，液体，合金，粉末和泥浆多组合滤光片系统，有效提高微量元素检出限坚固的设计适用于于各种复杂而严苛的现场工作环境EDX9000B能量色散荧光光谱仪-矿产分析专家作为一款高性能的台式能量色散X射线荧光（EDXRF）元素分析仪，新款EDX9000B配置了最先进的基于Windows基本参数算法的FP（Fundamental parameter）软件，同时配备了最优的高性能硬件，来满足客户对于复杂矿石样品的元素分析需求。无论客户的样品是是固体，合金，粉末，液体或者浆液，EDX9000B都可以轻松实现从钠（Na）到铀（U）元素的无损定性和定量分析。更快的分析速度，更精确的测试结果，更稳定的仪器性能， 使得EDX9000B成为了客户进行元素分析的最佳工具之一。ESI英飞思EDX9000B光谱仪主要应用于在采矿过程的所有阶段进行材料元素成分分析。从勘探样品到矿物精矿，从选矿到尾矿，EDX9000B都在苛刻的采矿环境中均具有出色的灵活性，分析性能和稳定性。EDX9000B专注于对地质材料的主量，微量和痕量元素进行定性和定量分析，其中包括：• 铁矿• 铜矿• 铝土矿• 贵金属矿产• 稀土矿• 原料• 磷酸盐• 煤炭• 铅锌矿• 锰矿• 镍矿• 石灰石• 粘土• 石膏• 玻璃• 土壤• 水泥• 耐火材料及其他等EDX9000B操作简单，分析性能出色，同时还可拓展到以下应用塑胶及有机物：塑料材料PE，PVC，添加剂等元素分析石油化工：燃料，润滑油监测，添加剂，磨损金属等中的硫元素分析环境：废水，空气污染，土壤和地面，排放控制等涂层厚度和薄膜：分析多层涂层，钢涂层，杂质等刑侦及公安：证据分析，材料匹配，爆炸物等食品，化妆品和药品：添加剂控制，原材料，有害金属，包装材料等产品特点作为一款专业为矿产元素分析而设计和生产的光谱仪，EDX-9000B兼顾了耐用性，易于操作和高性价比。其显著优势主要有：• 无需或者很少的样品制备，全程无损分析，一到三分钟即可出结果• 强大的基于Windows的FP（基本参数算法）软件降低了基体效应的影响• 50 kV 光管管和电制冷的SDD硅漂移检测器不仅具有出色的短期重复性和长期重现性，而且具有出色的元素峰分辨率• 能同时进行元素和氧化物成分分析• 多重仪器硬件保护系统，并可通过软件进行全程实时监控, 让仪器工作更稳定、更安全• 特别设计的光路和真空系统大大提高了轻元素(Na, Mg, Al, Si, P）的测试灵敏度和准确性，同时在测试Cd,Pb,Cr,Hg,Br,Cl等其他元素的灵敏度和稳定性都有了明显的提高• 友好的用户界面，可定制的分析报告，可一键打印测试报告，包括分析结果，样品信息，光谱信息和样品图像• 八种光路准直系统，根据不同样品大小自动切换，亦可测试样品不同位置再求平均值，降低样品不均匀性造成的误差• 高清内置摄像头，清晰地显示仪器所检测的样品部位矿产元素检测专家EDX9000B仪器参数仪器外观尺寸: 560mm*380mm*410mm超大样品腔：460mm*310mm*95mm半封闭样品腔（抽真空时）：Φ150mm×高75mm仪器重量: 45Kg元素分析范围：Na11-U92硫到铀可分析含量范围：1ppm- 99.99%探测器：AmpTek 高分辨率电制冷SDD硅漂移检测器多道分析器: 4096道DPP analyzer 分析器X光管：50W高功率铍窗光管高压发生装置：电压最大输出50kV，自带电压过载保护电压：220ACV 50/60HZ环境温度：-10 °C 到35 °C仪器配置标准配置可选配置纯Ag初始化标样磨样机真空泵压片机矿石专用样品杯烘干箱USB数据线熔片机电源线电子秤测试薄膜矿石标准样仪器出厂和标定报告交流净化稳压电源保修卡150目筛子功能强大而界面友好的测试软件界面清晰易用。选择方法并输入样品识别信息后即可开始测量。软件内核-基本参数法（FP）可轻松分析未知样品。EDX9000B已在工厂预安装了软件并进行了数据标定，客户运行软件即可立刻开始测试。无需每天重复标定。强大的软件功能还提供了一键初始化仪器，基体自动匹配自动定性，半定量和定量分析，不同样品测试谱图可实时对比光谱处理和校正，去除双倍峰和逃逸峰干扰，降低元素吸收增强效应影响光谱背景扣除，有效提高微量元素检测精度可实时刷新测量结果简单的流程栏向导可帮助用户创建新的自定义标定曲线可定制化测试报告，一键打印磁铁矿样品10次测试稳定性报告测量次数/元素Fe(%)SiO2(%)TiO2(%)MnO(%)Zn(%)S(%)P(%)Pb(%)K2O(%)1_165.40146.69360.11230.04890.00900.83090.01180.00760.06841_265.43366.65750.10380.04650.00950.90920.01210.00750.06671_365.36036.71270.11320.04950.00930.89030.01190.00710.06771_465.39356.72330.12780.04830.00970.83030.01170.00680.06841_565.38126.71450.10580.04930.00970.83030.01170.00660.06841_665.39056.74210.10210.05030.00970.83030.01170.00650.06841_765.36036.70410.10750.04950.00930.89030.01190.00710.06771_865.41616.72800.10860.04610.00930.89380.01150.00740.06681_965.43206.70360.11820.05120.00960.90050.01200.00790.06691_1065.45466.77070.10720.05020.00970.88680.01210.00670.0677平均值Average65.40246.71500.11070.04900.00950.86930.01180.00710.0677标准偏差SD0.03160.03000.00770.00160.00020.03400.00020.00050.0007相对标准偏差RSD0.0483%0.4466%6.9348%3.3142%2.5743%3.9090%1.6512%6.6142%1.0337%测量次数/元素Na2O (%)MgO (%)Al2O3 (%)As (%)Cr (%)Ni (%)Cu (%)Sn (%)CaO (%)1_10.02030.75230.52220.00650.16360.07600.04760.01310.63591_20.02320.81340.52300.00610.15840.07870.04880.01140.63361_30.02130.80590.54070.00710.16670.07960.04940.01440.63451_40.02160.76350.52340.00720.16400.07610.04850.01310.62671_50.02230.78150.53340.00720.16400.07510.04850.01310.62671_60.02220.73110.55120.00720.16400.07410.04850.01310.62671_70.02120.75590.54070.00710.16670.07560.04940.01440.63451_80.02490.77370.52330.00680.15760.07600.04710.01310.63241_90.02040.77120.51230.00640.16590.07500.04750.01400.62411_100.02360.80170.54350.00710.16630.07300.04890.01300.6414平均值Average0.02210.77500.53140.00690.16370.07590.04840.01330.6317标准偏差SD0.00150.02610.01230.00040.00330.00200.00080.00090.0054相对标准偏差RSD6.6056%3.3702%2.3177%5.8244%1.9863%2.5892%1.6256%6.5508%0.8578%

产品名称：CIT-3000SYB能量色散X荧光分析仪 产品说明、技术参数及配置 CIT-3000SYB 能量色散X荧光分析仪，是公司专门应对欧盟ROHS、WEEE指令和卤素测试要求而量身定做的一款高灵敏度、高精度的分析测试设备。 适用范围 适用于电子产品、工具、玩具等RoHS/WEEE有害元素（Pb、Hg、Br、Cd、Cr）和卤素检测； 型号：CIT-3000SYB 性能特点 采用数字化谱分析技术，计数率高，无漏计，稳定性好； 采用美国航天技术的Si (PIN)半导体探测器计数，配合专利的数字脉冲处理技术，能量分辨率优于150eV； 40KV-钨靶微型X射线管； 采用2048道多道分析器，分析精度更高； 一体化设计，性能稳定，运行可靠，性价比高；操作简单，测量时间短，同时配备PC机； 测量物质状态：固体、粉末、液体均可测，制样简单； 校正方式：采用欧盟RoHS标样校准数据。 技术指标 分析元素范围：Na-U 元素含量分析范围：1ppm -99.99% 探测器能量分辨率优于150eV 最低检出限：Cd/Cr/Hg/Br≤1ppm, Pb≤2ppm,Cl≤20PPm 校正方式：采用欧盟RoHS标样校准数据 测量范围：1－40KeV 高压：0kV-40kV 管流：0μA-100μA 专业的稳定电源：AC 220V±1%，50HZ（采用国内最先进的高品质稳压电源1000VA） 检测时间：120S～600S（时间随样品而调整） 圆形样品真空腔：直径14cm，高5cm； 工作环境温度：温度0-35℃；样品温度＜70℃ 工作环境相对湿度：≤99%（不结露） 额定功率：50W 仪器重量：25Kg 仪器尺寸：500（W）X500（D）X450（H）mm 仪器配置 仪器主机一台 进口电制冷半导体探测器 X光管（0-40KV） 高压电源 品牌计算机一台 激光打印机一台 真空泵一台 压片机一台 制样模具一套 稳压电源一台 测试软件一套

SRM-3006电磁辐射选频分析仪产品介绍： SRM-3006电磁辐射选频分析仪是一款设计紧凑的选频测量系统，用于对高频电磁场进行安全分析和环境测量。测量范围覆盖从低频长波到最新的无线应用的广播、yi动电话和工业领域，并依据国际或国家标准准确评估区域内的曝露电平。 SRM-3006电磁辐射选频分析仪包含一台主机和若干不同类型的测量天线 ，可对9 kHz ~ 6 GHz范围内包括5G 的所有信号场强进行各向测量，并获取场源信息。利用 SRM，用户可以精确地将运营商分解到单独的频段进行测量，了解其对区域辐射的贡献。也可以对整个运营商的频率范围进行积分并显示绝对值场强结果或相对于限值的百分比。产品特点：1.符合国标准对监测仪器的要求2.测量结果可以直接通过标准限值的百分比进行显示3.快速可靠的测量及结果显示，可预先定义测量任务、测量条件和参数设置，自动进4.行测量移动通信基站的导频信号信息以及最大辐场强5.示波器模式支持脉冲信号的实时分析，并对变化的曝露水平进行长时间记录6.利用可编辑服务表可以将测量结果与运营商服务自动进行匹配7.对不同频率的昕号进行频谱分析，同时支持对所关注的信号频段进行宽带综合评估8.适用于室外使用:人体工学设计,坚固耐用，防尘,防水,可更换充电锂电池，内置GPS和语音记录器