Axic反应离子刻蚀RIE，等离子增强化学气相沉积PECVD

AXIC基准800®蚀刻和沉积

具有成本效益的等离子体处理系统，用于反应离子蚀刻和/或等离子体增强化学气相沉积

Axic公司的基准800等离子体处理系统在RIE和PECVD等离子体处理系统中定义了一个新概念。该系统基于模块化设计，从通用腔室和机柜单元开始，具有Planar, RIE和PECVD电极模块，可轻松安装到腔室单元中。我们相信您会发现基准800-II®的易用性，各种等离子工艺，可维护性和有吸引力的价格是市场上任何其他等离子产品所无法超越的。

系统描述

在等离子体加工的研究和发展中，一直非常需要一种高度通用和可靠的工具。随着等离子体研究需求的不断变化，所选择的系统必须提供最广泛的工艺参数，工艺验证的高度可重复性，并且必须易于修改以满足新的工艺要求。我们相信BenchMark 800®系列干法处理系统可以满足这些非常苛刻的要求。BenchMark 800®是一种等离子体工具，用于研究、工艺开发或小批量生产，可在直径达8英寸的基板上进行精确蚀刻和沉积。该系统可以在批处理或单片模式下运行。在设计基准800®时，主要指令是创建一个系统，该系统结合了专用生产导向系统的质量，可靠性，可重复性和过程控制能力，同时大大降低了成本，维护和占地面积要求。BenchMark 800-II®独特的机柜和电极设计可以轻松安装在层流模块或洁净室中。经过验证的高质量组件、模块化子组件、通用腔室和电极设计、紧凑的尺寸、自动化和经过现场验证的工艺配方，使Axic公司的BenchMark 800®成为等离子工程师的“首选系统”。

特性

单件式室结构

原位电极间距(PECVD版本)

可更换的气体淋浴喷头

经过验证的工艺配方

战地组件

端点检测(选项)

多种电极配置

自动射频匹配

下游压力控制(可选)

计算机控制与Windows编程

多种泵送选择:机械，机械/鼓风机，涡轮

单室和双室版本