产品详情
DENTON 磁控溅射及电子束蒸发薄膜沉积平台：
DENTON 真空使创新成为可能，并已超过50年。
全球成千上万的薄膜沉积工具安装,包括一个大型的、在全球范围内安装的精密光学沉积系统——工程师和研究人员依靠DENTON 的薄膜创新驱动更高的吞吐量,更好的收益和低拥有成本(首席运营官),受益于综合服务和支持,和一个专门的研发项目,提供可行的技术。
探索者提供了薄膜工业中最广泛的配置和沉积模式:电子束蒸发、电阻蒸发、溅射、离子镀和离子辅助沉积。
DENTON 薄膜沉积平台
•R & D
•批量生产
•在线生产
•蒸发
•溅射
•PE-CVD
DENTON 的区别
你们的过程就是我们的过程。
我们与您合作设计一个系统，以解决您的确切薄膜涂装工艺的需要。当我们给你运送工具时，它已经准备好生产了。
•我们的系统规模可以满足您的生产需求
•我们永远相信客户
•全球支持网络
在DENTON，我们关心你的成功
•工厂验收测试
•个性化培训
•远程、实时支持
•CE / UL / CSA兼容系统
能溅射
电、磁、复合材料。柔性阴极，调整到冲击角也可用。
强大的控制系统
可在半手动模式或全自动模式与一个推动自动化，以减少系统停机时间。
Processpro升级提供:
1.所有登顿真空产品的一致性控制。
2.标准软件使其易于支持和避免昂贵的定制费用。
3.源代码为您的程序，以便您可以自定义您的程序。
4.网络功能使资源管理器
网络上支持实时、远程支持和升级的节点。
灵活的室大小
可容纳多达10英寸的衬底。
多个泵配置
多种扩散、低温和涡轮泵配置可用于满足您的预算和工艺。后方或底部安装的泵提供方便的访问服务，根据您的工作场所的需要。
典型的应用
PE-CVD
•材料研究
•小批处理系统
•3 d对象
•覆盖各种材料
溅射
•材料研究
•产品质量控制和质量保证
•半导体失效分析
•CD掌握
•纳米技术
•化合物半导体
•oled
蒸发
•材料研究
•离子辅助沉积(IAD)
•医疗设备
•电信
•CD掌握
•发射
•保护涂层
选项：
