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聚合物笔无掩模光刻纳米制造系统（polymer pen lithography）聚合物笔纳米无掩模光刻制造系统PPL, 使用可达160000笔尖的阵列，采用蘸笔光刻DPN的方式，将待沉积的材料（墨水）浸蘸在笔尖阵列上，笔尖可控的与基底表面接触，从而在基底表面批量成型所需图案，加工纳米微米图案无需光掩膜，且在平方厘米范围内达到200纳米以下的分辨率，可应用于纳米粒子合成，蛋白阵列，单细胞排布，纳米电路构造、生物芯片、化学检测、微尺度催化反应、分子马达等领域。此设备在国际上属于首个基于聚合物笔光刻(PPL)技术的纳米制造系统，PPL技术是美国Tera-print公司独有的技术。
主要特点
- 高分辨率，可达低于100nm的分辨率；
- 高通量模式，可达160000针尖输出制作结构；
- TERA-FAB M系列可制作厘米级材料尺寸；
- 无需掩模，即时性改变输出机构，可广泛适应软质和硬质材料；
- 软硬件友好，非专业人士可在几小时培训后，熟练使用。
A）一张4英寸的PPL阵列，有1100万支笔尖。
B）阵列内纳米尺度弹性材料尖端的扫描电子显微照片及内嵌图像；
C）由PPL技术打印的多种蛋白示意图。各针尖阵列蘸上不同的打印墨水（蛋白）；
D）荧光光学显微图的结果，PPL合成了多路荧光标记蛋白的图案。
