喆图HMDS真空镀膜机VDM-125
喆图HMDS真空镀膜机VDM-125

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喆图

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VDM-125

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中国大陆

  • 白金
  • 第18年
  • 生产商
  • 营业执照已审核
400-831-3109
核心参数

喆图HMDS真空镀膜机VDM-125

用途概述

HMDS化学名叫六甲基二硅胺烷(别名六甲基二硅氮烷),HMDS真空镀膜机又称HMDS基片预处理系统,指需在低真空度下进行的镀膜。喆图HMDS真空镀膜机对箱体内预处理过程的工作温度、工作压力、处理时间、处理时保持时间等参数的控制,可以在硅片、衬底表面完成 HMDS成底膜的工艺。降低了光刻胶的用量,所有工艺都在密闭的环境中进行,完全没有HMDS挥发,提高了安全性。主要适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料,为基片在涂胶前改善表面活性,增加光刻胶与基底的粘附力的设备,也可用于晶片其它工艺的清洗,尤其在芯片研发和生产领域应用更加普及。

产品特点

①采用PLC工控自动化系统,人机界面采用触摸屏,具有可靠性高,操作智能方便;

②PLC微电脑PID控制系统具有自动控温、定时、超温报警等,彩色触摸屏显示,控温可靠;

③智能化触摸屏控制系统,可根据不同制程条件改变程序、温度、真空度及每一程序时间;

①采用钢化玻璃观察窗,监测方便,一体成型的硅橡胶门封,确保箱内密封性好;

②外壳和加热管均采用不锈钢材质,内胆不锈钢,无易燃易爆装置,无发尘材料;

③以蒸汽的形式涂布到晶片表面,液态涂布均匀,可一次处理4盒以上的晶片,节省药液;

①去水烘烤和增粘(疏水)处理一机完成无需转移,有效规避HMDS泄露的风险;

②HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,使真空箱密封性好,确保HMDS气体不外漏;

③多余的HMDS蒸汽(尾气)由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道,确保安全以及环保。

技术参数

型号

VDM-90

VDM-125

VDM-210

电源电压

AC 220V 50Hz

控制系统

PLC控制

仪表控制

彩色触摸屏

控温范围

RT+10-250℃

温度分辨率

0.1℃

温度波动度

±0.5

真空度

≤133pa

内胆尺寸

450*450*450

500*550*500

550*550*650

容积

90L

125L

210L

真空泵

选配

选配

选配

典型用户
用户单位 采购时间
湖北菲利华石英玻璃股份有限公司 2024-06-18
金三江(肇庆)硅材料股份有限公司 2020-09-17
四川大学 2022-08-16
临沂瑞丰高分子材料有限公司 2021-06-16
金三江(肇庆)硅材料股份有限公司 2020-09-17
售后服务承诺

产品货期: 5天

整机质保期: 1年

培训服务: 额外提供免费培训;提供付费培训

安装调试时间: 到货后7天内

电话支持响应时间: 1小时内

是否提供维保合同:

维修响应时间: 1天内

节假日是否提供上门服务:

核心零部件货期: 3天

核心零部支持时间: 12月

是否支持上门巡检:

是否提供预防性维护计划:

是否提供期间核查方案:

是否提供免费应用支持:

是否提供付费应用支持:

是否提供线上售后平台:

维修付款方式: 先付款后维修

基本维修资料公开: 技术参数;故障代码

无理由退换货: 不支持

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