RIE反应离子刻蚀机

RIE反应离子刻蚀机 Reactive Ion Etching(RIE)

March RIE 反应离子刻蚀机

RIE 各项异性&各向同性等离子刻蚀系统

Nordson MARCH's RIE-1701 等离子系统是设计用于先进的刻蚀应用，如：失效分析时去除夹层膜材，解封装和去除介电材料，氧化物、氮化物、聚酰亚胺、硅、金属、用于MEMS/LED/IC 器件生产的III-V 和 II-VI 材料的刻蚀，环氧去除，光刻胶剥除和预处理。

紧凑、桌面型配置、负担的起的反应离子刻蚀(RIE) 系统。

Nordson MARCH 的 RIE-1701 各向异性反应离子刻蚀等离子系统是完全自包含的，仅需要较小的桌面空间。等离子刻蚀底盘，也同样是作为一个集成的安全屏蔽罩，内部包括了等离子腔体、控制电子、13.56MHz的射频发生器，以及自动调谐网络（仅仅是真空泵是位于系统之外的）。通过一个互锁门或者容易拆除的面板可以方便的进行维护。

等离子腔体是由高质量阳极化铝和优越耐久性的陶瓷治具组成的。等离子腔体能够配置6"或者8"电源电极来适应广泛的晶圆尺寸、IC封装和其它元件。

高性能等离子刻蚀用于失效分析或MEMs、LED器件生产。

等离子刻蚀能够适应广泛的工艺气体，包括：氩气、氧气、氢气/混合气体、氦气、CF4 和 SF6。标准配置为2路质量流量控制器，用于气体控制，还具有两路可选气体（一共4路）。

RIE 各项异性&各向同性等离子刻蚀系统的特点和优势

触摸屏控制，图形用户界面提供实时工艺数据和反馈

13.56 MHz 射频发射器和自动调谐网络提供良好的工艺重复性

温度控制回路集成在等离子腔体内，使得精确控制成为可能

可选的涡轮分子泵组件和蝶形阀压力控制