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SVS-V2000溅射台
主要功能:用于半导体工业生产和实验室样品制备时，电介质膜和其他半导体膜的蒸镀工艺。
主要特点:
1.腔体尺寸：600mm-1200mm（或客户化定制）；
2.可单片或多片同时进行；
3.样品台可以行星/旋转/直线等方式运动；
4.镀膜速率等参考可控，可对样品在蒸镀过程中进行实时监测；
5.通过反应气体来产生氧化物和氮化物等；
6.全自动的系统。
保修期: 免费保修一年，保外提供收费服务
是否可延长保修期: 否
现场技术咨询: 有
免费培训: 保修期内免费提供培训，保修期外提供收费培训服务
免费仪器保养: 保修期内提供免费上门提供保养，保修期外提供收费上门保养
保内维修承诺: 免费保修
报修承诺: 24小时服务
