仪器简介：
我公司提供独特的研发级和生产级的纳米碳管和纳米线制备技术和设备。
技术参数：
欢迎索取详细资料
主要特点：
设备特点：
1.集热化学气相沉积(CVD) 和等离子体增强化学气相沉积(PECVD) 两种技术于同一个系统，使用户有更大的灵活性
2.使用高性能、快速响应的加热器可快速加热基底并进行精确温度控制
3.可在最大为6'的各种基底（导体和绝缘体）上制备大量单臂和多臂纳米碳管及其阵列
4.可实现如催化剂预退火、纳米碳管的生长以及后退火等复杂的工艺步骤
5.用户友好软件/硬件界面，可建立生长菜单，重复同样的生长制备过程，具有非常好的重现性
详细信息请联系我们
