我公司提供第2代HTS超导带材制备全系列专用设备,包括以下卷对卷式 (Roll-to-Roll) 沉积设备 :
1. YBCO:
MOCVD
MOD
Reactive Co-Evaporation
PLD
2. 过渡层/种子层 (Buffer/Seed Layer):
MgO IBAD系统
(离子束辅助沉积, 专门制备MgO)
Sputtering/Reactive Sputtering/ Evaporation 系统
( 溅射/反应溅射/蒸发制备系统, 制备如: Ag/Al2O3/Y2O3/CeO2/LMO/STO等等)
3. Ic连续测量设备:
连续在液氮温度下自动测量临界电流, 被多家企业采用用于成品测试
4. 基带平坦化处理系统
Solution Deposition Planarization (SDP) 系统
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