仪器简介：
美国NANOMASTER公司提供高性能反应离子刻蚀系统，能够满足多种金属和非金属刻蚀的需要。该系统可以选用RF、空阴极等离子体、感应耦合等离子体（ICP）和微波等离子体源来满足不同材料刻蚀的需要。
技术参数：
控制： PC控制（Lab View）
腔： 13寸铝质
基座托： 13℃水冷 -120℃低温制冷
气体供应：喷头，MFC，SS管路 气体环
等离子源：RF平板，P-100空阴极，感应耦合等离子源（ICP)
直流偏压：-500V自偏压、-1000V偏压
基本真空 E-6Torr－E-7Torr
工艺压力 0.02-8Torr、0.001Torr以上
射频电源 600W,1000W，2000W选项
真空泵 200L/sec耐腐蚀涡轮泵、500L/sec耐腐蚀涡轮泵
电源 110/220V 三相电，40/20A
主要特点：
NRE-3000 桌面式反应离子刻蚀系统
NRE-4000 立式反应离子刻蚀系统
NRP-4000 反应离子刻蚀（RIE）和PECVD双系统
NDR-4000 深反应离子刻蚀系统
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