维普半导体今日官微消息,7月1日,维普光刻机配套IRIS颗粒检测产品累计第5套顺利发机,交付国内某光刻机客户。IRIS模块-即集成掩模检测系统(Integrated Reticle Inspection System),是光刻机中的一个重要组成部分。其主要作用是对掩模版(即光罩)玻璃面、保护膜面颗粒进行检测,消除因颗粒污染导致光刻后批量Wafer的失效,从而保障半导体晶圆制造的准确性和稳定性。
[来源:新浪财经]
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