其他半导体检测仪
大半导体产业网消息,自ASML官网获悉,6月3日,比利时微电子研究中心(imec)与阿斯麦(ASML)宣布在荷兰费尔德霍芬(Veldhoven)开设联合High-NA EUV光刻实验室(High NA EUV Lithography Lab),由ASML和imec共同运营。
声明中称,经过多年的构建和集成,该实验室已准备好为领先的逻辑和存储芯片制造商以及先进材料和设备供应商提供第一台原型高数值孔径EUV扫描仪(TWINSCAN EXE:5000)以及周围的处理和计量工具。
据悉,该联合实验室的开放是High-NA EUV大批量生产准备的一个里程碑,预计将在2025-2026年期间实现。通过向领先的逻辑和存储芯片制造商提供High-NA EUV原型扫描仪和周边工具(包括涂层和开发轨道,计量工具,晶圆和掩膜处理系统),imec和ASML支持他们降低技术风险,并在扫描仪在其生产晶圆厂中运行之前开发私有的High-NA EUV用例。此外,还将向更广泛的材料和设备供应商生态系统以及imec的高数值孔径图案化计划提供访问权限。
[来源:大半导体产业网]
2024.05.28
2024.07.23
2024.07.23
2024.07.23
2024.07.23
2024苏州民营企业“100强”“创新100强”公布,半导体势力凸显
2024.07.23
版权与免责声明:
① 凡本网注明"来源:仪器信息网"的所有作品,版权均属于仪器信息网,未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用。已获本网授权的作品,应在授权范围内使用,并注明"来源:仪器信息网"。违者本网将追究相关法律责任。
② 本网凡注明"来源:xxx(非本网)"的作品,均转载自其它媒体,转载目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责,且不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。如其他媒体、网站或个人从本网下载使用,必须保留本网注明的"稿件来源",并自负版权等法律责任。
③ 如涉及作品内容、版权等问题,请在作品发表之日起两周内与本网联系,否则视为默认仪器信息网有权转载。
谢谢您的赞赏,您的鼓励是我前进的动力~
打赏失败了~
评论成功+4积分
评论成功,积分获取达到限制
投票成功~
投票失败了~