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半导体&电子测试测量，投稿：kangpc@instrument.com.cn
当地时间3月8日，ASML官网发布关于额外出口管制的声明。
声明表示，荷兰政府发布了有关即将对半导体设备出口限制的更多信息。这些新的出口管制侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积和浸没式光刻工具。由于这些即将出台的法规，ASML将需要申请出口许可证才能运输最先进的浸入式深紫外系统。这些控制措施需要时间才能转化为立法并生效。
根据今天的公告、ASML对荷兰政府许可政策的预期以及当前的市场形势，预计这些措施不会对其发布的 2023 年财务展望或去年11月投资者日宣布的长期情景产生重大影响。
在这方面，重要的是要考虑到，额外的出口管制并不涉及所有浸没式光刻工具，而只涉及所谓的“最先进”工具。尽管ASML尚未收到有关“最先进”确切定义的任何其他信息，但ASML将其解释为“关键沉浸”，ASML在我们的资本市场日将其定义为TWINSCAN NXT：2000i和随后的浸入式系统。此外，ASML指出，主要关注成熟节点的客户可以使用不太先进的浸没式光刻工具。最后，ASML的长期情景主要基于全球长期需求和技术趋势，而不是详细的位置假设。
声明中特别提示，自2019年以来，ASML的EUV工具的销售已经受到限制。
[来源：仪器信息网] 未经授权不得转载
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