半导体&电子测试测量,投稿:kangpc@instrument.com.cn
近日,ASML发布了2022年第四季度及全年财报,并且披露了未来的技术发展路线,其中ASML在下一代EUV光刻机——High NA EUV光刻机方面的进展值得关注。
ASML财报显示,2022年第四季度,ASML实现净销售额64亿欧元(当前约471.68亿元人民币),毛利率为51.5%,净利润达18亿欧元(当前约132.66亿元人民币);季度净预订量为63亿欧元(当前约464.31亿元人民币),其中34亿欧元(当前约250.58亿元人民币)为EUV。
从2022年整年看,ASML实现净销售额212亿欧元(当前约1562.44亿元人民币),毛利率为50.5%,净利润达56亿欧元(当前约412.72亿元人民币)。
据悉,2022年ASML实现了不少重要进展,例如在DUV方面,他们交付了NXT KrF 系统的首台设备TWINSCAN NXT:870和第一台TWINSCAN NXT:2100i。目前,ASML还在继续研究开发下一代EUV光刻机——High NA EUV光刻机。
按照ASML所说,在历经六年的研发后,他们在2022年收到了供应商提供的第一个高数值孔径机械投影光学器件和照明器(illuminator)以及新的晶圆载物台(wafer stage)。这些模块将用于EXE:5000的初始测试和集成,是其中的一个重要的步骤。
ASML表示,2022年公司收到了所有现有EUV客户的采购订单,要求交付业界首个TWINSCAN EXE:5200系统——具有High-NA和每小时220片晶圆生产率的EUV大批量生产系统。
关于未来的EUV光刻机发展路径,ASML首席技术官Martin van den Brink在财报中透露,他认为Hyper-NA EUV有望在这个十年结束后成为现实,即客户将在2024到2025间在其上面进行研发,并有望在2025到2026年间进行大规模量产。据悉,High-NA光刻机可以在关键层上做更小的CD。
据悉,High-NA光刻机可以在关键层上做更小的CD,但是现在在开发商也面临着巨大的挑战。“开发High-NA技术的最大挑战是为EUV光学器件构建计量工具。High-NA反射镜的尺寸是前一代产品的两倍,并且需要在20皮米内保持平坦。要实现这些目的,需要在一个大到‘你可以在其中容纳半个公司’的真空容器中进行验证。”Martin van den Brink说。
[来源:全球半导体观察]
2023.02.16
ASML或将Hyper-NA EUV光刻机定价翻倍,让台积电、三星和英特尔犹豫不决
2024.07.03
2024.07.03
2024.07.03
2024.06.20
2024.06.07
版权与免责声明:
① 凡本网注明"来源:仪器信息网"的所有作品,版权均属于仪器信息网,未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用。已获本网授权的作品,应在授权范围内使用,并注明"来源:仪器信息网"。违者本网将追究相关法律责任。
② 本网凡注明"来源:xxx(非本网)"的作品,均转载自其它媒体,转载目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责,且不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。如其他媒体、网站或个人从本网下载使用,必须保留本网注明的"稿件来源",并自负版权等法律责任。
③ 如涉及作品内容、版权等问题,请在作品发表之日起两周内与本网联系,否则视为默认仪器信息网有权转载。
谢谢您的赞赏,您的鼓励是我前进的动力~
打赏失败了~
评论成功+4积分
评论成功,积分获取达到限制
投票成功~
投票失败了~