东京电子将向ASML提供面向新一代EUV的设备

根据日经中文网的消息，东京电子6月8日发布消息称，将向ASML和IMEC联合运营的实验室提供新一代设备，该设备将和ASML生产的EUV光刻设备进行组合，这是东京电子首次向上述实验室提供设备。

该实验室在缩小半导体电路线宽的微细化技术研发（R&D）方面具备世界顶尖水平。东京电子希望通过与该实验室的合作，涉足最尖端半导体的研发，提升竞争优势性。

在共同研究方面，将把ASML的新一代EUV光刻设备和东京电子的涂布显影设备组合为一体，提高半导体的生产效率。东京电子最早将于2022年上半年提供自己的设备，组合起来的设备则计划最快于2023年投入使用。

近期，ASML也是大动作不断，此前就有消息，ASML计划在韩国建设光刻设备再制造工厂及培训中心，主要用途是为韩国当地运行的EUV光刻机的维护和升级提供助力，新厂预计在2025年建设完成，投资2400亿韩元（约合13.7亿人民币）。

近期，又有消息称，ASML将于今年开始为光刻机提供新型EUV防护膜，透光率可达90.6%，目前即将开始生产。

在营收方面，根据ASML发布的Q1季度财报，其在当季营收43.64亿欧元，同比增79%，上年同期为24.41亿欧元；净利润为13.31亿欧元，同比增240%，上年同期为3.91亿欧元。