三靶射频磁控溅射镀膜仪

品牌：合肥科晶

产地：安徽

型号： VTC-3RF

报价： ¥5万 - 10万

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核心参数

产地类别：国产

产品介绍

简介

VTC-3RF是一款小型台式3靶等离子溅射仪，专为非导电薄膜尤其是氧化物薄膜的制备设计。该设备配备三个1英寸磁控溅射头和射频等离子电源，提供手动和自动匹配两种选择。主要特点包括256mm石英真空腔体、可旋转加热载样台、高精度控温和实时薄膜厚度监测等功能，适用于科研探索新型非导电薄膜材料。

VTC-3RF是一款小型台式3靶等离子溅射仪(射频磁控型)，配有三个1英寸的磁控等离子溅射头和射频（RF）等离子电源，此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索，它是一款廉价并且高效的实验帮手。

技术参数

输入电源	220VAC 50/60Hz, 单相 800W (包括真空泵）
等离子源	配有一13.5MHz,100W的射频电源（采用手动匹配）可选配300W射频电源（自动匹配）注意：100W手动调节的RF（射频）电源价格较低，但是每一次对于不同的靶材，都需要手动设置参数才能产生等离子体，比较耗费时间。300W自动匹配的RF（射频）电源，价格较昂贵，但比较节约时间（点击图片查看详细资料）
磁控溅射头	三个1英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接靶材尺寸: 直径为25.4mm,最大厚度3mm 一个快速挡板安装在法兰上溅射头所需冷却水：流速10L/min（仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机）
真空腔体	真空腔体：256mm OD x 250mm ID x 276mm H，采用高纯石英制作密封法兰:直径为274mm . 采用金属铝制作，采用硅胶密封圈密封一个不锈钢网罩住整个石英腔体，以屏蔽等离子体（如下图）真空度：<1.0×10-2 Torr （采用双极旋片真空泵）,<5×10-5 torr （采涡旋分子泵）
载样台	载样台可旋转（为了制膜更加均匀）并可加热载样台尺寸：直径50mm （最大可放置2英寸的基片）旋转速度：0 - 20 rpm 样品台的最高加热温度为700℃(短期使用，恒温不超过1小时)，长期使用温度500℃ 控温精度+/- 10℃
真空泵	我公司有多种真空泵可选，请点击图片，或是致电我公司销售
薄膜测厚仪（可选）	一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监测薄膜的厚度，分辨率为0.10 ? LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据
质保和质量认证	一年质保期，终生维护 CE认证
外形尺寸
使用注意事项	这款1英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜，所以并不需要太高的真空度为了较好地排出真空腔体中的氧气，建议用5%H2+95 %N2对真空腔体清洗2-3次，可有效减少真空腔体中的氧含量请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射，甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水，所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后，再导入到真空腔体内