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VTC-600-2HD是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪，其中一个靶头采用直流（DC）溅射，可溅射金属靶材制备金属膜，另一个采用射频（RF）溅射，可溅射金属和氧化物靶材，制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜，如铁电、导电，合金，半导体，陶瓷，介电，光学，氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便，是一套理想的实验工具。
技术参数
结构 |
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输入电源 |
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磁控溅射头 |
也可以根据自己的要求选择2个射频溅射头或3个射频溅射头，订购前需于本公司销售人员联系 |
真空腔体 |
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载样台 |
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气体流量控制器
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真空泵系统 | 配有一套分子泵系统（德国制作），采用一键式操作 |
薄膜测厚仪 |
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外形尺寸 | L1300mm× W660mm× H1200mm |
重量 | 160 kg |
质保期 | 一年质保期，终生维护 |
（点击图片查看详细资料）
合肥科晶离子溅射仪VTC-600-2HD的工作原理介绍
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