5靶头等离子射频磁控溅射仪

电源

单相220 VAC, 50 / 60 Hz

射频电源

• 一个13.5MHz,300W自动匹配的射频电源安装在仪器上，并与靶头相连接

• 一个旋转开关可一次激活一个溅射头。溅射头可以在真空或等离子体环境中自动切换

• 可选购多个射频电源，同一时间溅射多个靶材。

• 所有的溅射参数，都可由电脑设置

直流电源（可选）

• 可选购直流电源，来溅射金属靶材

• 可配置5个直流或射频电源，来同时溅射5中靶材

磁控溅射头

• 5个1英寸的磁控溅射头，带有水冷夹层

• 可在本公司额外购买射频线

• 电动挡板安装在溅射腔体内

• 设备中配有一循环水冷机，水流量为10L/min

•  (1)  (2) (3) (4)

溅射靶材

• 所要求靶材尺寸：直径为25.4mm,最大厚度3mm

• 溅射距离: 50 – 80 mm（可调）

• 溅射角度: 0 – 25°（可调）

• 配有铜靶和 Al₂O₃ 靶，用于样品测试用

• 可在本公司购买各种靶材

• 实验时，需要将靶材和铜片粘合，可通过导电银浆粘合（可在本公司购买导电银浆）

真空腔体

• 真空腔体采用304不锈钢制作

• 腔体内部尺寸:  470mm L×445mm D×522mm H  (~ 105 L)

• 铰链式腔门，直径为Φ380mm,上面安装有Φ150mm的玻璃窗口

• 真空度: 4E-5 torr （采用分子泵）

样品台

• 直径为150mm的样品台，上面覆盖一旋转台，带有10mm的孔洞，每次露出一个样品接收溅射成膜。

• 样品台尺寸：Φ150mm,可通过程序控制来旋转，可制作16种不同组分的薄膜

• 样品台可以加热，最高温度可达600℃

真空泵

• 设备中配有一小型涡旋分子泵

• 真空泵接口为KF40

石英振荡测厚仪（可选）

可选购精密石英振荡测厚仪，安装在真空腔体内，实时测量薄膜的厚度，精确度为0.1 ?（需水冷）

净重

60kg

质量认证

CE认证

质保

一年质保期，终生维护

应用注意事项

• 此款设备设置主要是在单晶基片上制作氧化物薄膜，所以不需要高真空的环境

• 所用气瓶上必须安装减压阀（可在本公司购买），所用Ar气纯度为5N

• 为了得到较好质量的薄膜，可以对基片进行清洗

• 用超声波清洗机，用丙酮或乙醇作为清洗介质，清除基片表面的油脂，然后在N2气或真空环境下对基片干燥

• 等离子清洗机，可使基片表面粗糙化，改变基片表面化学活性，清除表面污染物

• 可在基片表面镀上缓冲层，如Cr, Ti, Mo, Ta,，可改善金属或合金膜的粘附性

• 溅射一些非导电靶材，其靶材背后必须附上铜垫片

• 本公司实验室成功地在Al2O3基片上成功生长出ZnO外延膜

• 因为溅射头连接着高电压，所以用户在放入样品或更换靶材时，必须切断电源

• 不可用自来水作为冷却水，以防水垢堵塞水管。应该用等离子水，或专用冷却介质

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