小型台式无掩膜光刻机-MicroWriter ML3 （旗舰型）

Focus Lock自动对焦功能
Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测，并通过Z向调整和补偿，以保证曝光分辨率。

光学轮廓仪
MicroWriter ML3 配备光学轮廓探测工具，用于匀胶后沉积层，蚀刻层，MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向高精度100 nm，方便快捷。

标记物自动识别
点击“Bulls-Eye”按钮，系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后，将自动将其移动到显微镜中心位置。

直写前预检查
软件可以实时显微观测基体表面，并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度，直到设计图形按要求与已有结构重合，保证直写准确。

简单的直写软件
MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。

Clewin 掩膜图形设计软件
●  可以读取多种图形设计文件（DXF, CIF, GDSII, 等）
●  可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式
●  书写范围只由基片尺寸决定

MicroWriter ML3

基本型

增强型

旗舰型

大样品尺寸

155×155×7mm

155×155×7mm

230×230×15mm

大直写面积

149mm x 149mm

149mm x 149mm

195mm x 195mm

曝光光源

405 nm LED 1.5W

405 nm LED 1.5W

385 nm LED 适用于SU-8
（365+405nm双光源可选）

直写分辨率

1μm

1μm and 5 μm

0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm

直写速度

20mm²/min @ 1μm

20mm²/min @ 1μm
120mm²/min @ 5μm

25mm²/min @ 0.6μm
50mm²/min @ 1μm
100mm²/min @ 2μm
180mm²/min @ 5μm

对准显微镜镜头

x10

x3 and x10 自动切换

x3, x5, x10, x20 自动切换

多层套刻精度

±1μm

±1μm

±0.5μm

小栅格精度

200nm

200nm

100nm

样品台小步长

100nm

100nm

50nm

光学轮廓Z分辨率

无(可升)

300nm

100nm

样品表面自动对焦

是

是

是

灰度直写(255)

是

是

是

自动晶片检查工具

无(可升)

有

有

温控样品腔室

无(可升)

无(可升)

有

气动减震光学平台

无(可升)

无(可升)

有