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粉丝量 0
核心参数
产地类别： 国产
光源： LED：405 nm or 375 nm
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在电子通信行业蓬勃发展的大背景下，集成电路产业迎来了以光刻技术为核心技术的爆炸式需求。利用紫外光源对紫外敏感的光刻胶进行空间选择性的曝光，进而将设计好电路版图转移到硅片上形成集成电路，这一工艺就是紫外光刻技术。实现光刻工艺的设备一般称之为光刻机，或为曝光机。光刻机的分辨率和套刻精度直接决定了所制造的集成电路的集成度，也成为了评价光刻设备品质的关键指标。
光刻机作为生产大规模集成电路的核心设备，有接触式光刻机、接近式光刻机、投影式光刻机等类型。而这些类型的常规光刻机需要定制价格高昂的光学掩膜版，同时，任何设计上的变动都需要掩膜版重新制造也使得它有着灵活性差的劣势。激光直写设备具备很高的灵活性，且可以达到较高的精度，但逐行扫描的模式使得曝光效率较低。出于同时追求高精度、高效率、强灵活性、低损耗，在投影式光刻机基础上，无掩膜版紫外光刻机应运而生。近些年，基于空间光调制器（DMD/DLP）的技术在紫外曝光方面获得了长足的进展。
企业名称
托托科技（苏州）有限公司
企业信息已认证
企业类型
有限责任公司(自然人独资)
信用代码
91320594MA1MQNFL01
成立日期
2016-08-01
注册资本
1000万元整
经营范围
研发、销售、生产和维护:光学设备、机电设备、电子产品及配件、信息采集设备、信息处理设备、信息传输设备;提供软件系统的研发、集成、数据分析服务，并提供相关技术转让、技术咨询、技术服务;从事上述各类商品及技术的进出口业务.(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)
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