微纳3D打印

复杂三维微纳结构在微纳机电系统、生物医疗、组织工程、新材料、新能源、高清显示、微流控器件、微纳光学器件、微纳传感器、微纳电子、生物芯片、光电子和印刷电子等领域有着巨大的产业需求，然而现有的各种微纳制造技术无论从技术层面还是在生产率、成本、材料等方面还难以满足高效、低成本批量化复杂三维微纳结构的制造需求。

现有的诸如光学光刻、电子束光刻、干涉光刻、激光微细加工、软光刻、纳米压印等微纳制造技术主要实现2D或者2.5D微纳结构(简单几何图形)制造，难以实现复杂真三维微纳结构的制造。而且现有的这些微纳制造方法还面临设备和掩模(或者模具)昂贵、制造成本高、周期长、可用材料少等问题。

织雀系列3D光刻打印设备是托托科技自主研发生产的一款微纳3D打印设备，微纳加工设备。可进行高精度，高分辨率的微立体光刻作业。

织雀系列微纳3D打印设备的光学精度可达1 μm，高性能无铁芯直线驱动电机保证了 极 佳 的对准套印精度并且可提供 100mm×100mm×40mm的大幅面立体结构拼接尺寸，而基于空间光调制器（DMD/DLP）的微立体光刻技术，在复杂三维微纳结构、高深宽比微纳结构以及复合材料三维微纳结构制造方面具有突出的潜能和优势，此外还具有制造周期短、打印成本低、成型精度高、可使用材料种类多、无需掩模或模具直接成型的优点。

【产品亮点】

1. 高精度

影响精度的三大要素是：运动部件精度、光学系统精度、以及材料精度。与此同时，光刻机被公认为具有极限精密加工能力的设备。织雀® 系列产品采用光刻级运动平台、光刻级光学系统以及光刻级感光材料，将光刻的技术与3D增材制造紧密融合，将3D光刻的精度推向微米级别。

2. 快速度

3D光刻的速度主要取决于单个切片光刻所需的速度与切片层数。采用高亮度LED光源，甚至是高亮度激光光源，结合高品质的光学系统，单层切片光刻速度得以达到领 先水平。在PL-3D Ultra产品中，使用了扫描式光刻技术，将曝光效率进一步提升一个数量级，做到了名副其实的ULTRA Speed。

3. 一键之间，权衡精度与速度的需求

在基于空间光调制器的3D光刻设备中，受限于数百万的控制单元数量，精度与速度之间需要权衡取舍。织雀® 系列产品采用可自动切换的光学系统，一键实现高速与高精度的模式切换。同一台设备，可实现1 μm, 2 μm, 5 μm, 10 μm, 20 μm 的多种加工精度。

4. 产品覆盖

应对不同的精度需求、不同的产能需求、不同的材料体系需求、以及不同的加工尺寸需求，织雀® 系列产品覆盖了客户的各种需求，总有一款适合您。

如有尚未覆盖的特殊需求，请联系我们。

5. 来自原厂的全面支持

“支持我们的客户，赋能我们的客户，与我们的客户共同成长”是我们不变的追求。无论是新设备的开发，还是新材料的工艺参数优化，亦或者是新应用的探索，我们的强大的技术团队将提供优质的服务。