核心参数
产地类别: 国产
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●本装置使用电阻蒸发、电子束蒸发和离子源辅助清洗、辅助沉积和原位刻蚀进行复合,用于制备特种薄膜,薄膜具有均匀性、附着力、抗损伤、低颗粒物污染等特点,是半导体制程中关键工序的核心装备,其技术长期被美国、日本等国技术巨头所垄断,属于国内卡脖子装备,也是制约国内半导体领域自主可控的关键设备,该设备的技术突破和产业化对国内半导体产业发展具有积极意义。
企业名称
成都汉普升科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
有限责任公司(自然人投资或控股)
信用代码
91510100MA61RJM16P
成立日期
2015-11-16
注册资本
(人民币)伍拾万元
经营范围
计算机软硬件开发;光学器件、光电设备、电子设备、自动化控制设备、环境保护专用设备、机电设备的研发、销售及技术服务,销售:五金交电、建材(不含危险化学品)、日用品;网上贸易代理。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营)。
成都汉普升科技有限公司
公司地址
成都经济技术开发区(龙泉驿)车城西二路288号派瑞国际4栋5楼
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