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深圳市矢量科学仪器有限公司

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CMP

品牌： G&P

型号： GNP POLI-610

产地：韩国

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钙钛矿专用涂膜机

品牌：雷博科仪

型号： PF200-H

产地：江苏

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等离子增强原子层沉积PEALD

品牌： VEECO

型号： Fiji

产地：美国

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CMP后清洗机

品牌： G&P

型号： GNP CEANER-412S

产地：韩国

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原子层沉积ALD

品牌： VEECO

型号： Savannah

产地：美国

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低温ICP-RIE等离子体刻蚀系统

品牌：德国SENTECH

型号： SENTECH SI 500 C

产地：德国

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UV Litho-ACA 无掩膜光刻机

品牌：托托

型号： UV Litho-ACA无掩膜光刻机

产地：江苏

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全封闭式桌面显影机

品牌：雷博科仪

型号： DM200-SE

产地：江苏

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手动光刻机

品牌：雷博科仪

型号： MS6-CA

产地：江苏

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CMP后清洗机

品牌： G&P

型号： GNP CLEANER-412R

产地：韩国

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RIE等离子蚀刻系统

品牌：德国SENTECH

型号： SENTECH Etchlab 200 RIE

产地：德国

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等离子刻蚀系统RIE

品牌：德国SENTECH

型号： SENTECH SI 591

产地：德国

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UV Litho-S 无掩膜光刻机

品牌：托托

型号： UV Litho-S

产地：江苏

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高温型烤胶机

品牌：雷博科仪

型号： HHP100-HT-CTM

产地：江苏

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RIE等离子刻蚀系统

品牌：德国SENTECH

型号： SENTECH SI 500 CCP

产地：德国

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开盖等离子体沉积系统PECVD

品牌：德国SENTECH

型号： SENTECH Depolab 200

产地：德国

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BIO L+ 无掩膜光刻机

品牌：托托

型号： BIO L+

产地：江苏

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CMP后清洗机

品牌： G&P

型号： GNP CLEANER-428L

产地：韩国

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ICP沉积系统

品牌：德国SENTECH

型号： SENTECH SIPAR ICP

产地：德国

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AL实时监控器

品牌：德国SENTECH

型号： SENTECH AL

产地：德国

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织雀™PL-3D 桌面式高精密3D光刻机

品牌：托托

型号：织雀™PL-3D

产地：江苏

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原子层沉积ALD

品牌： VEECO

型号： Phoenix

产地：美国

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等离子刻蚀集群系统

品牌：德国SENTECH

型号： SENTECH 集群系统

产地：德国

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薄膜计量光谱反射仪

品牌：德国SENTECH

型号： RM 1000/RM 2000

产地：德国

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织雀™PL-3D Premium 高精密微3D光刻机

品牌：托托

型号：织雀™PL-3D Premium

产地：江苏

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CMP后清洗机

品牌： G&P

型号： GNP CLEANER-812L

产地：韩国

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薄膜计量膜厚探头

品牌：德国SENTECH

型号： FTPadv

产地：德国

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薄膜计量光谱反射仪软件

品牌：德国SENTECH

型号： FTPadv Expert

产地：德国

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CMP

品牌： G&P

型号： GNP POLI系列

产地：韩国

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薄膜计量激光椭圆仪

品牌：德国SENTECH

型号： SENTECH SE 500adv

产地：德国

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