核心参数
仪器种类: 磁控溅射镀膜机
产地类别: 国产
应用领域: 微电子学
基片尺寸: φ2英寸,1片
靶材: 永磁靶1套,φ2英寸
基片温度范围: 最高800℃
成膜厚度均匀性: ≤±3%
极限真空: ≤6.0E-4Pa
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