Angstrom Engineering Amod PVD 平台

ngstrom Engineering 的 Amod PVD 平台是一款物理气相沉积系统，以下是其一些技术特点和应用：

• 具有 500mm×500mm 的基片台，可容纳多达 8 个源，能适应多种物理气相沉积工艺，也可配置以达到超高真空（UHV）环境。

• 沉积源选项丰富，包括：

• 溅射：提供射频（RF）、直流（DC）、脉冲直流（Pulsed DC）、高功率脉冲磁控溅射（HIPIMS）和反应溅射等多种模式，并有圆形、线性和圆柱形阴极可供选择。

• 热蒸发：可使用各种舟、灯丝和坩埚加热器，且具备自动调谐功能以确保精确的速率控制。

• 电子束蒸发：提供多种源功率和电源选项，通过 Aeres 软件平台控制的可编程扫描控制器带有配方存储功能，扭矩感应坩埚分度器可检测口袋堵塞情况，Amod 腔室内有空间容纳多个电子束源。

• 等离子体和离子束处理：使用一系列离子源进行清洁和薄膜增强处理，包括辉光放电等离子体清洁。

• 基片夹具增强功能：如阶段加热和冷却、可变角度阶段、卷对卷涂层、掩蔽快门、行星和圆顶夹具、基片偏压等。

• 自动化选项：如装载锁、基片转移、掩模处理等，其 Aeres®高级过程控制软件使用简单但高度集成，通过 PC/PLC 控制的配方可用于单个、批量或自动化处理；先进的数据记录和过程跟踪确保了一致和可重复的工艺；高分辨率控制提供了出色的低速率稳定性和一致的掺杂比；中央控制站管理每个模块并安排每个腔室的工艺；可轻松创建和修改复杂的配方；自动 PID 控制回路调谐显著减少了工艺开发时间。

应用领域：
广泛应用于科研和工业领域，例如：

• 微电子领域，用于制造集成电路、半导体器件等。

• 医疗器械和设备的表面处理，以改善其性能和生物相容性。

• 太阳能产品的制备，如太阳能电池的镀膜。

• 光学领域，制备各种光学薄膜以实现特定的光学性能。

• 材料科学研究，用于开发和研究新型材料的薄膜特性。