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微纳加工平台-图形转移仪器:EVG610单面/双面光刻机

品牌:
产地: 奥地利
型号: EVG610
样本: 下载
报价: 面议
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产品介绍

EVG610单面/双面光刻机

 

 

 

一、 简介

 

EVG公司成立于1980年,公司总部和制造厂位于奥地利,在美国、日本和台湾设有分公司,并在其他各地设有销售代理及售后服务部,产品和服务遍及世界各地。

EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商,其丰富的产品系列包括:涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。

目前已有数千台设备安装在世界各地,被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件,SOI基片制造,3D封装,纳米压印,化合物半导体器件和功率器件等领域。

EVG610是一款非常灵活的、适用于研发和小批量试产的对准系统,可处理zui200mm之内的各种规格的晶片。EVG610支持各种标准的光刻工艺,例如:真空、软、硬接触和接近曝光;也支持其他特殊的应用,如键合对准、纳米压印光刻、微接触印刷等。EVG610系统中的工具更换非常简便快捷,每次更换都可在几分钟之内完成,而不需要专门的工程人员和培训,非常适合大学、研究所的科研实验和小批量生产。

 

二、应用范围

EVG光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统(MEMS)、硅片凸点、化合物半导体等领域,涵盖了微纳电子领域微米或亚微米级线条器件的图形光刻应用。

 

三、主要特点

支持背面对准光刻和键合对准工艺

自动的微米计控制曝光间距

自动契型补偿系统

优异的全局光强均匀度

免维护单独气浮工作台

zui小化的占地面积

Windows图形化用户界面

完善的多用户管理(用户权限、界面语言、菜单和工艺控制)

 

四、技术参数

 

衬底/晶片尺寸(mm

小片--200mm150mm*150mm0.1-10mm 厚度

掩膜板zui大尺寸

zui9'*9'

 

亚科电子-设备咨询部:

/

欢迎您的来电咨询

 


工商信息

企业名称

上海银雀电子科技发展有限公司

企业信息已认证

企业类型

信用代码

310114001336027

成立日期

2005-04-26

注册资本

经营范围

计算机软硬件、电子产品领域内的技术开发、技术转让、技术咨询、技术服务,会展、会务服务,文化艺术活动策划,商务咨询,机械电子设备、建材的销售。【依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动】

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