核心参数
产地类别: 国产
一、产品特点:
1、面积大:0~?25毫米、0~?50毫米;
2、溅射样品表面膜层更均匀;
3、颗粒度更小(3nm左右);
4、溅射到样品表面能量低,对样品损伤小;(适用温度敏感性高的样品)
5、可以溅射各种固体靶材(如各种金属、陶瓷、碳等);
6、控制精度高,实验结果精准可控重复性高;
7、在同一真空腔内,可实现清洗和镀膜,降低污染样品造成的数据偏差 ;
8、加入特殊气体,可进行反应离子束刻蚀;
9、可实现的功能有:等离子清洗、镀膜等;
10、数字化自动控制系统。
二、技术参数:
1、真空度:极限真空度5*10-3Pa(不通氩气);
2、*高压:(1)200~6000V;
3、样品台可旋转;
4、具有自保护功能;
5、单离子枪;
6、样品冷却:半导体冷却( 选配件)。
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企业名称
北京艾博智业离子技术有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
104554504
成立日期
2008-05-30
注册资本
50
经营范围
技术开发、技术服务、技术转让、技术咨询;计算机技术培训;经济贸易咨询;销售自行开发后的产品、机械设备、家用电器、计算机、软件及辅助设备、建筑材料;计算机系统服务;基础软件服务;应用软件服务;货物进出口、技术进出口、代理进出口。
北京艾博智业离子技术有限公司
公司地址
北京市海淀区花园路街道牡丹园小区西里院内16号楼(8号楼西侧)
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