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核心参数
曝光模式： 投影式
产地类别： 进口
分辨率： 250nm;300nm
光源： 氮化镓激光二极管
光源波长： 375nm; 405nm
光强均匀性： ± 0.5%
曝光面积： 最大110X110mm
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PicoMaster ATE-100 无掩模激光直写光刻机
●250纳米分辨率（375纳米激光源）
●300纳米分辨率（405纳米激光源）
●4095灰阶
●业界最具实力的成套全息设计软件
●最大125x125毫米基板尺寸
PicoMaster 100 采用波长405纳米二极管激光器，它拥有市场上最小的300纳米激光分辨率。升级375纳米激光源，可以更好地兼容市面上I-line光刻胶材，从而满足更高级别的应用需求。备用光学模块，将大大的降低机器停机时间。更为人性化的软件设计，大大提升了用户实际操作效率，它将是您科学研究、实验开发、设计创新，理想的光学伙伴。PicoMaster 100广泛应用于半导体光刻, LED芯片,微流控芯片,微纳结构,灰度光刻,三维加工,全息影像等多个领域。
PicoMaster 100 无掩模激光直写系统性能规格
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Raith/矽万激光直写光刻机PicoMaster ATE-100的操作规程有吗？
Raith/矽万激光直写光刻机PicoMaster ATE-100报价含票含运吗？
Raith/矽万PicoMaster ATE-100有现货吗？
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