HVE 加速器质谱

介绍

AMS加速器质谱提供了高精度同位素组成，从克级样品到半克级样品， 通过直接的测量同位素比值。

传统的闪烁计数法 基于放射性衰变和从样品中发射的β粒子的测量， 来提供同位素比例的浓度信息， 而AMS可以在同位素离子分离之后直接各个计数。 AMS超越闪烁计数法，在于AMS需要远少的样品量，并且提供了更高的样品信号由于更高的计数速率。

精度和重复性

HVE加速器质谱最重要的特点是“艺术设计”的加速器阵列，其特点就是高度可靠性，突出的低噪音水文，高电压稳定性，低端子电压纹波。

HVE阵列配备一个电子的高压电源，无运动部件。其结果是没有振动，而振动可能会导致终端电压波动。此外，纹波和稳定值和动态行为可提供多年的稳定操作，维护的压力罐中的组件很少，如果需要的话。

AMS使得很多测量成为可能：当样品不能够被通过其他计数技术进行测量时，比如因为没有足够的样品材料或样品数量太高。

对在考古学中最初的应用是在考古学中测量14C ， 现在测量众多元素包括Al、Cl、Ca 和U同位素比。AMS技术被广泛应用在应用地球物理，海洋环境和古气候研究、水文、生物医药、生化反应动力学、材料研究、核不扩散的维护和监测，核和原子物理、核天体物理学和微量元素分析等领域。

灵敏度

AMS的绝对灵敏度不是常规质谱能够得到的。AMS解决了干扰问题：源自于分子和分子离子同样的质荷比，当同位素被检测时。典型的最小浓度比，可以被AMS检测到的在10^-15

由于精确和重复性是AMS的关键问题，所以稳定性对于加速器质谱而言是非常重要的因素。

在实验核物理环境中可以容忍的终端电压瞬变在AMS中是绝对不可接受的，因为它可以破坏从可能不可替代的样品中获得的数据。

同样，终端电压的微小波动也会引起光束通过加速器的变化，从而降低结果的再现性。

单或多元素系统

这取决于HVE串列加速器质谱在应用上的两个不同版本：

对应单一元素的专用系统， 或者对应多元素的多元素系统。对应离子束技术的系统扩展性包括离子注入， RBS-C,PIXE,ERD 和 NRA都是一样可以的。

 固态以及气态样品

HVE串列AMS系统可以配置50（200可选）样品溅射源，可以接受固体或者气体（CO2）进样，这里CO2可以通过地电压导入，使得可以与GC或元素分析仪联用。

HVE的混合AMS离子源的独特特征是离子源本体接地电位。这样非常有利于离子进入，避免了大型高压保护笼的必要性，保证安全无辐射运行。

待分析的样品通过样品盘进入离子源内部，避免了样品与样品在溅射工艺会发生的交叉污染。真空泵直接坐落在附近的离子源体确保最佳的抽速，和在CO2样本的低记忆效应。

离子源和样品盘的气动阀允许离子保持在延长寿命的温度，避免样品盘交换破坏真空。

以精确和可重复的方式横向插入源头，使得源维护容易且快速。

精确同位素通过加速器传送的时间。

它消除了从相对稳定时间长的保镖电压产生的不确定性和允许更高的弹跳频率，从而减少源故障从而优化精度的不利影响。

而同时注射是一种直流操作，顺序注射循环通过其中几个数量级之间的同位素强度差异通常与长期使用的放射性同位素的元素的同位素在AMS。这将导致加速器不同的束流加载，从而导致可能影响精度的小端电压波动。

因此，同步注射是高精度AMS测量的首选方法。然而，而同时注射hevier元素的仪器是不切实际的大型和昂贵的，顺序注射可覆盖整个元素周期表。

同时和顺序进样

两个不同的进样概念都可以进行: 同时进样和顺序进样。

同时注入不同同位素，分离、分析、重组，同时注入加速器。HVE同时进样器是基于专利的四磁结构，固有的设计，确保重组相同的轨迹和参数设置的独立性。

顺序注射不同的同位素分析在HVE时间序列连续注射器注入加速器一个装有光束消隐单元定义纳秒。

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更为详细的资料可下载仪器样本。