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会议邀请｜第四期PHI SIMS用户云端培训
飞行时间二次离子质谱(TOF SIMS)作为重要的的表面分析技术，可以对样品表面的元素组成和分子结构进行痕量定性分析，具有优异的检测灵敏度，以及极佳的质量分辨率和空间分辨率，是一种能够在微米-纳米级尺度上研究样品表面化学组成的分析利器，目前已经广泛应用于科学研究和工业生产中。在本次的TOF-SIMS用户云端培训中，我们邀请到日本ULVAC-PHI分析实验室的高级首席科学家Shinichi Iida，为大家带来TOF-SIMS技术原理及数据处理方面的系列讲座，此次云端培训分为以下两个课程：
参会信息
7月28日 周四 14:00-15:20
TOF SIMS原理及技术特点
7月28日 周四 15:40-17:00
TOF SIMS实验技术及数据处理培训
腾讯会议
514-520-272
*请提前报名获取入会密码
主讲介绍
Shinichi Iida
日本 ULVAC-PHI 分析实验室高级首席科学家。于2004年获得日本大阪大学应用物理学博士学位。毕业后加入日本ULVAC-PHI 分析实验室，致力于表面分析技术的应用研究工作，在表面科学和材料表征分析领域拥有20多年的丰富经验；在ULVAC-PHI，Iida博士负责分析实验室团队的运行，并在 TOF-SIMS 和 XPS 的应用方面与行业密切合作。
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