PHI 新品发布，持续创新

X射线光电子能谱（XPS）是利用X射线入射样品表面，通过探测出射的光电子来获取样品表面组成和化学态信息的一种表面分析方法。特别是PHI XPS的小束斑微区分析功能，使得样品表面组分和化学态的空间分布分析成为可能，微区XPS已经广泛地应用于材料、能源、催化、微电子以及半导体产业等领域中，对于理解其中的构效关系起到重要的作用。

在X射线光电子能谱仪领域，PHI研发了独具特色的扫描聚焦型XPS，X射线束斑优于7.5 um，实现了对样品的元素组分及化学态微区分析功能，同时束斑可调的特点也兼顾了对常规样品的测试，成为科学研究、质量控制和失效分析等领域的利器。PHI一直致力于为用户提供最先进的表面分析技术，在技术创新的道路上从未停歇，努力为用户提供从小束斑微区分析到大束斑高通量分析的完美XPS仪器。

2021年7月23日,PHI CHINA将开展 “PHI 新品发布，持续创新”网络会议，由PHI CHINA的总经理叶上远先生为大家介绍目前最新、最尖端的研究成果：全新一代XPS，以及现场互动问答环节；同时PHI CHINA的应用专家鞠焕鑫博士将会进行“XPS技术创新助力产学研科技创新”的主题报告。