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材料表界面科学学术研讨会
随着材料、能源、微电子、信息产业及环境领域等高新技术的迅猛发展，表面科学目前已经成为国际上最为活跃的学科之一，对于表面分析技术的需求也日益增多。X射线光电子能谱(XPS)是一种有效的表面分析技术，已经广泛应用于基础科研、先进材料研制、高精尖技术等领域，促进了材料学的研究与发展。
为积极推动表面分析应用技术的发展，促进表面分析技术与其它学科的融合，更好地结合表面分析技术解决问题，同时加强同行之间交流与合作，展示相关的新成就、新进展，PHI CHINA在4月23日与常州大学材料科学与工程学院与共同承办了“材料表界面科学学术研讨会”。
本次会议邀请了各高校老师做了非常专业且精彩的报告，并进行了网络直播,会议视频回放请关注微信公众号“PHI与高德”后进行查看。
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