PHI CHINA 表面分析技术网络讲堂之俄歇电子能谱专题

PHI CHINA自2月11日开始通过网络直播的方式，展开为期四周的光电子能谱专题讲座，获得了广泛关注和一致好评。为了满足大家热切的学习需求，PHI CHINA将推出“俄歇电子能谱专题”讲座，为期三天：3月11日至3月13日，每天下午三点准时开讲。

01 3月11日

鲁德凤

AES技术基本原理、主要功能和应用 

主要内容： 

①、AES 的基本原理：俄歇电子的产生、主要技术能力；空间分辨、检出限以及定性定量等；俄歇系统的基本构成和能量分析器的特点；

②、AES 的主要功能：采谱、线扫描、成像、深度剖析等；冷脆断断面分析、原位 FIB+EDS+BSE+EBSD 全方位成分表征； 

③、AES 的主要应用：纳米材料、金属、半导体、催化材料、能源电池、太阳能光伏、膜层结构剖析等。 

02 3月12日

辛国强

AES硬件简介、仪器功能及特点  

主要内容：

①、系统结构；

②、真空系统； 

③、能量分析器基本原理；

④、电子枪及电子探测器； 

⑤、离子枪基本原理； 

⑥、俄歇仪器功能及特点。 

03 3月13日

叶上远

AES样品制备、数据采集及处理 

主要内容：

①、对于不同的分析目的，如何做相对应的样品制备；

②、简单的俄歇图谱解释，原图和微分谱与定性/定量分析；

③、如何使用软件和俄歇手册处理重叠峰；

④、俄歇峰背景扣除；

⑤、线扫和面扫数据分析；

⑥、如何使用 LLS 进行深度分析数据处理；

⑦、从导体到半导体俄歇分析，以及分析中电荷中和的方法。 

此次讲堂继续延用网络直播的形式，现场答疑。

PHI CHINA在表面分析领域多年深耕，专注表面分析的发展与科研，希望本系列讲堂能帮您丰富知识，提升技能，与大家携手进一步推动表面分析技术的蓬勃发展。若您对课程安排或技术方面有任何疑问，欢迎在微信公众号给我们留言。

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