高德和ULVAC-PHI公司共同祝贺2015年全国表面分析科学与技术应用学术会议在中国宁波精彩召开

表面分析技术在过去二十余年在中国发展迅速，无论在高校领域或是工业发展上都扮演了重要的角色。自2012年起，已经是连续第4年举办的全国表面分析会议，本届继续由高校分析测试中心研究会、全国微束分析标准化技术委员会表面分析分技术委员会和北京分析测试协会表面分析专业委员会主办，并且有中国科学院宁波材料技术与工程研究所、国家大型科学仪器中心-北京电子能谱中心协办，在2015年5月14到17日于宁波精彩召开。

在会议开幕中，先由中国科学院宁波材料技术与工程研究所副所长李润伟致辞，并祝贺了本次会议成功召开。其后由学术委员会主任清华大学朱永法教授重新强调了会议本身的最大目的是在于建立一个公开与共享的平台，不因仪器的不同但以学术的本身把分析应用技术和信息共享，以达到不管是本身仪器的用户或是设备的制造商都可为了表面分析行业上的技术共同努力并获得正面的成果。当中，高德公司作为Ulvac-Phi公司在中国的唯一代表，非常认同朱教授的远大愿景和方向，也很荣幸的连续4年和Ulvac-Phi一同赞助了全国表面分析会议的召开。高德公司也会持续的以“PHI在中国”的姿态继续和Ulvac-Phi一起在中国对包括学术研究和工业等等的机构提供最好的表面分析仪器技术和售后支持。

在本年度宁波举行的全国表面分析会议参会人员约80多人，总共有31个主题报告，其中包括邀请了新加坡国立大学的陈伟教授和许昌学院的郑直教授；高德公司的鲁德凤女士则在会议中报告了使用俄竭电子能谱和飞行时间二次离子质谱仪对材料表面进行表征的应用实例，另外代表Ulvac-Phi原厂的柴崎先生Mr. Takuji Shibasaki则是介绍了使用PHI最新的光电子能谱仪器加上原位俄竭电子能谱分析如何解决复杂的电子原器件在生产和研发时的问题。在经过2天紧凑的会议后，本年度在宁波举办的全国表面分析会议在所有参会人员的热烈参与和讨论下圆满结束。

 会议现场

高德公司和Ulvac-Phi在会议中设置的展台，展示了Ulvac-Phi公司全系列表面分析仪器的最新技术

鲁德凤女士在会议中报告有关AES和Tof-SIMS的表征和应用

柴崎先生（Mr. Takuji Shibasaki）在会议中介绍使用XPS和AES分析解决电子原件的失效问题