高德英特公司与ULVAC-PHI公司共同出席了2016年8月10日在昆明理工大学举办的“2016中国表面分析应用与学术用户会议暨ULVAC-PHI最新技术说明会”。50余名ULVAC-PHI的用户和从事表面分析技术研究与应用的专家学者参加了此次会议。高德英特公司是ULVAC-PHI公司在中国区域销售及售后服务的全权代表，二者于2007年建立了战略合作伙伴关系。目前，高德英特公司拥有一支由8名资深工程师组成的技术团队，团队成员全部具备原厂认证技术资质，能够为用户提供完整的解决方案和完备的售前&售后技术支持。与会期间，ULVAC-PHI公司执行董事木村市朗先生和高德英特总经理陈文征博士分别致辞，表明ULVAC-PHI和高德英特公司作为一个团队将共同代表“PHI在中国”，并表示今后将进一步加强与广大用户的交流，同时欢迎广大用户对ULVAC-PHI的仪器和服务多提意见。考虑到曹立礼和刘庆华两位老师为PHI产品打入中国市场所作出的突出贡献，ULVAC-PHI在此次会议上还设立了一个特别环节，向这两位老师20多年来给予PHI的鼎力支持和协助表示了最郑重、最诚挚的感谢。会间，叶上远先生和ULVAC-PHI的真田宪明博士、宫山卓也先生分别介绍了ULVAC-PHI的新产品、新技术和新应用。叶上远先生重点推介了ULVAC-PHI全球发布的新产品——多功能扫描XPS微探针PHI 5000 VersaProbe III，并向与会嘉宾介绍了ULVAC-PHI新近推出的用于PHI nano TOF II的MS/MS技术。高德中国区总监叶上远正在作專業的報告ULVAC-PHI的木村市朗先生作出專業的報告

2016年全国表面分析科学与技术应用学术会议于2016年8月11-12日在云南昆明成功举办。100余名从事表面分析技术研究与应用的专家学者参加了会议。该会议由高校分析测试中心研究会、全国微束分析标准化技术委员会表面分析分技术委员会、北京分析测试协会表面分析专业委员会主办，昆明理工大学分析测试研究中心、国家大型科学仪器中心─北京电子能谱中心、昆明红源会展有限公司协办。 作为业界设备制造商代表，高德叶上远先生、ULVAC-PHI 公司宮山卓也先生和高德总经理陈文征博士获邀参会并在会上做了精彩的分享。叶上远先生的报告以“The study of how primary beam affect the analysis result in surface analysis”为主题；宮山卓也先生的报告主题则是“Introducing the newest MS/MS capability in the Time-of-Fight SIMS”。2016年全国表面分析科学与技术应用学术会议大合照高德叶上远正在作專業的報告ULVAC-PHI 的宮山卓也先生正在作專業的報告

第五届国际新材料大会于2016年6月6至8日在重庆成功召开。 本屆大会的主題為“中国製造2025, 推進科技創新”。第五届国际新材料大会是一个國際性的盛会。大會邀请到約三百名知名专家、知名企业家、学术领军人物、资深科学家、行业协会负责人等出席会议并做精彩报告，为从事新材料科学研究、开发和产业化的专家、学者、教授、科技工作者、企业家及其它相关人员搭建了一个交流平台，共同交流和分享材料研究的最新成果，从而达到互相促进、共同提高的目的。本届大会针对国际新材料科学领域的热点议题和高端技术，设置了主会议、科技会议、工业应用、青年论坛和展览会四个部分。ULVAC-PHI分析室專門室長飯田真一先生、ULVAC-PHI亚洲区销售经理柴崎琢自先生和高德中国区总监叶上远先生有幸获邀参会并做專業報告。高德公司和Ulvac-Phi在会议中设置的展台ULVAC-PHI 分析室專門室長飯田真一正在作專業的報告 

　　仪器信息网讯 在“2016年全国表面分析科学与技术应用学术会议”召开的前一天，即2016年8月10日，高德英特公司与ULVAC-PHI公司在昆明理工大学举办了“2016中国表面分析应用与学术用户会议暨ULVAC-PHI最新技术说明会”。50余名ULVAC-PHI的用户、以及从事表面分析技术研究与应用的专家学者参加了会议。会议现场　　ULVAC-PHI 为全球专业的表面分析仪器制造商，是唯一可提供四种表面成分分析设备的厂商。其产品包括光电子能谱仪(XPS)，俄歇电子能谱仪(AES)，飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)和动态二次离子质谱仪(D-SIMS)。据介绍，ULVAC-PHI旗下的XPS约占世界份额的60%，其产品定位于高端XPS，性能被行业内专家学者认可，是目前唯一提供扫描聚焦型X-ray源的厂家，真正实现了XPS的微区分析能力。AES系统采用专利设计的筒镜式(CMA)能量分析器，实现高空间分辨率、高灵敏度的同时，避免了表面形貌对俄歇成像的阴影效应。TOF-SIMS独特的三重聚焦分析器(TRIFT Analyzer)，能够最大限度的提高二次离子质谱的景深，对表面粗糙样品也可轻松处理。与此同时，ULVAC-PHI提供最高灵敏度四级杆式D-SIMS，可高效快速完成动态SIMS分析。而且除了表面分析仪器以外，ULVAC-PHI还同时研发配置在相关仪器的外围配件。 ULVAC-PHI常务总监木村市朗先生　　高德英特公司是ULVAC-PHI在中国区域销售及售后服务的全权代表，二者于2007年建立了战略合作伙伴关系。高德英特公司拥有8位资深技术支持工程师，全部得到原厂的资质认证，能够为用户提供最完整的解决方案。 目前，ULVAC-PHI在中国的用户主要包括清华大学、厦门大学、南京大学、南京理工大学、北京理工大学等国内知名高校和院所。　　高德英特公司总经理陈文征博士　　木村市朗先生和陈文征博士分别致辞，共同表达了ULVAC-PHI和高德英特公司是一个团队，代表了“PHI在中国”;并欢迎用户对ULVAC-PHI的仪器和服务多提意见，今后将加强和用户的交流。用户会上，ULVAC-PHI和高德英特公司还郑重感谢了20多年来给予PHI众多帮助的曹立礼和刘庆华老师。在PHI的产品进入中国市场之初，两位老师为了PHI仪器更好得到应用做出了杰出的贡献。 　　ULVAC-PHI亚洲区销售经理柴崎琢自先生和高德英特公司中国区总监叶上远先生介绍了ULVAC-PHI在全球和中国的发展。同时，叶上远先生与ULVAC-PHI的真田宪明博士、宫山卓也先生分别介绍了新产品、新技术、新应用。　　叶上远先生介绍了ULVAC-PHI刚刚全球发布的多功能扫描XPS微探针PHI 5000 VersaProbe III。全新的VersaProbe III采用了独特的聚焦X-ray源和全新的输入透镜、探测器，性能指标全面提升。VersaProbe III受专利保护的扫描聚焦X-ray源，可提供最小直径小于10μm到400μm以上的各种X-ray光束，能更有效的分析微米级微区。令人影响深刻的是，相对于上一代产品Versaprobe II，新品的灵敏度提高了3倍。尤其在微区分析方面，相比于其他XPS，新品的灵敏度提高了100倍。VersaProbe III的多功能平台为中国科研和研发领域的未来发展提供了广大的可能，使得以XPS为核心的表面分析技术具有更多的分析可能和意义。多功能扫描XPS微探针PHI 5000 VersaProbe III　　这次会上，ULVAC-PHI还推出了一项用于PHI nano TOF II的MS/MS技术。关于该新技术的应用，叶上远先生说到，过去对于201m/z处的峰是什么多是需要去“猜”，而现在有了MS/MS技术，大家则可以完全确定的知道是什么。PHI nano TOF II的MS/MS技术ULVAC-PHI亚洲区销售经理柴崎琢自先生高德英特公司中国区总监叶上远先生ULVAC-PHI真田宪明博士ULVAC-PHI宫山卓也先生　　高德英特公司还邀请了胜科纳米的华佑南博士、勀杰科技的刘伯纬先生作报告，二位都是ULVAC-PHI用户，利用ULVAC-PHI的仪器做出了很多的有意义的工作。胜科纳米的华佑南博士勀杰科技的刘伯纬先生 

　　PHI公司产品于30多年前即进入中国市场。如今，三十多年过去，PHI从美国公司到现在日美合并的ULVAC-PHI，在中国的发展经历过高潮与低谷，也经过了不短的一段空窗期。2007年，高德英特公司与ULVAC-PHI公司建立了战略合作伙伴关系，在高德英特公司不懈地努力和各位老师及用户们的鼎力支持下，ULVAC-PHI在中国区重新一步一步的赢回了市场份额和用户的信任。　　2016年8月10日高德英特公司与ULVAC-PHI公司在昆明理工大学举办了“2016中国表面分析应用与学术用户会议暨ULVAC-PHI最新技术说明会”。会议期间，仪器信息网编辑采访了高德英特(北京)有限公司总经理陈文征博士，请其畅谈了选择表面分析仪器领域、选择PHI公司的背景原因，以及两家公司合作10年来取得成绩。高德英特(北京)有限公司总经理 陈文征博士　　表面分析仪器，可以说是一个很细分的市场，它不像色谱、光谱、质谱等仪器量大面广，那么，陈博士当时为什么会进入到这么一个很“冷”的行业?　　陈博士说到，科技进展一般都是从高校里的科研开始，再转向与民生相关，如食品、环境、工业等，到了这些领域用到的仪器都是常规的、量大的仪器。但是，我们同样需要获得物质在原子水平的信息，这其中就会用到表面分析仪器，才能更有效的解决一些关键问题，如生产的质量与成本控制、领先的技术与产品的开发等。虽说表面分析仪器市场规模可能很小，但是它不仅是高校、 更是现在或未来的工业也会用到的工具，是国家科技领先的基础工具。　　陈博士也笑称，如果商人只看重利益的话，他是不会去做分析仪器的，即使是色谱、质谱仪器，它们的利润都不算高，而且还需要很高的技术背景。“我相信，投入到这个行业的人，都是具有使命感的人，都是在完成商业行为的同时，成就某些事业的。”　　什么样的机缘，使得高德英特公司与ULVAC-PHI开始合作、并且一直合作呢?　　陈博士详细地介绍了与ULVAC-PHI公司的历史。　　在19世纪80年代初，当时国内改革开放之后，对于科研投入加大力度，抓住了这一巨大机会，PHI在中国市场上很活跃，也拥有很好的市场份额。但是到2000年左右，PHI公司的财务状况不好，公司面临经营的困难。最后PHI公司由日本的ULVAC公司收购，改組为ULVAC-PHI公司。也因为这些波折，PHI公司在中国市场上出现了一段空窗期。　　在高德英特公司与ULVAC-PHI合作之前，很多学者老师都提到“PHI公司提供的设备不錯，并且不断地投入新技术的开发”。于是在2005年，高德英特公司与ULVAC-PHI进行了联系。合作之初，高德英特公司只是协助做些PHI产品的进出口工作，后来，双方觉得，既然有很好的产品，也已经拥有了很好的团队，更重要的是有了一批很忠诚的老用户，那么，双方完全可以开始加大投入力度、开始全面合作了。　　因此自2007年起，高德英特公司与ULVAC-PHI公司建立了“PHI在中国”的战略合作伙伴关系。在高德英特公司不懈地努力与新老用户的支持之下，ULVAC-PHI在中国区重新一步一步的赢回了市场份额和用户的信任。　　陈博士开玩笑的说道，我们和ULVAC-PHI是“一丘之貉”。这个词在中国话里并不是一个正面意义的形容词，但是却可以用来形容我们和ULVAC-PHI。两家公司从高层到工程师都是技术型的人，都认为，生意是要做的，但是都希望采取简单的模式，能够让用户得到更好的产品和服务。所以，多年来，ULVAC-PHI与高德英特公司一致认为，对公司来说，市场份额的增长固然重要，更重要的是让用户满意我们的产品和服务。所以，高德英特公司花了很大精力在专业维修团队的建设上，陈博士介绍到，公司负责PHI业务的销售人员目前只有3个人，而技术支持工程师则已经达到了8个人。　　携手10年，ULVAC-PHI在中国发生了哪些变化呢?　　2007年刚刚开始负责ULVAC-PHI在中国的业务时，高德英特公司一年接触到12-15个机会，而且只有20%-30%的成功率，也就是说一年的销量是3-4台。而现在，高德英特公司一年能够接触到25-30个机会，成功率提高到了40%多，也就是说现在年销量在10台左右。陈博士指出，从这些数可以看出，一是中国对于表面分析仪器的需求实质上在不断增长的；二是，我们公司受到用户信赖的程度也是在不断增高的。　　陈博士说到，有的用户曾说我们公司做生意太“拘谨”，但是，我并不想去改正它。我们希望做到，PHI在40多年前创立时所倡导的精神——“找出最好的技术，做出最好的仪器，提供最好的技术支持。”编辑：刘丰秋

致各位老师、专家和单位人员： PHI公司于30多年前进入中国，衷心感谢清华大学曹立礼老师和刘庆华老师当时的鼎力支持，使PHI在中国取得了第一次的成功，并为日后的发展奠下了重要的基石。多年过去了，PHI从美国公司到现在日美合并的Ulvac-Phi，在中国的发展经历过高潮与低谷，也经过了不短的一段空窗期。在2007年，通过在东南亚市场的密切合作，高德公司与Ulvac-Phi公司建立了战略合作伙伴关系，并且双方对于中国区业务的发展前景有着共同的期待和展望。在2010年1月1日，高德公司以“PHI在中国”的身份正式的在北京成立公司，旨在帮助广大中国用户更高效地使用Ulvac-Phi仪器，发挥仪器的最大功用，并推动相关科研工作的发展。在高德公司不懈地努力和各位老师及用户们的鼎力支持下，Ulvac-Phi在中国区业务逐渐摆脱了业务低迷的局面，重新一步一步的赢回了市场份额和用户的信任。 2016年将是高德公司和Ulvac-Phi中国区业务发展的关键一年。高德公司与Ulvac-Phi公司共同计划在中国区再一次举办Ulvac-Phi用户交流会，希望借此机会把Ulvac-Phi最新表面分析技术和应用介绍给广大用户和听取用户们对于表面分析应用最新的需求，同时也希望借此机会把所有表面分析的新老用户聚合起来，打造一个技术交流和共享的平台，更好地为广大用户提供服务。现就有关事项安排如下： 一、会议形式及内容　　● 仪器使用和数据处理培训班　　● 用户邀请报告　　● Ulvac-Phi表面分析技术最新发展和应用 二、重要时间和会议安排2016年8月08-09日 -昆明文汇酒店 全天报到2016年8月09日 -  昆明理工大学分析测试研究中心201室2:30pm to 5:30pm-XPS 和AES仪器使用和数据处理培训班2016年8月10日  -昆明理工大学管经学院MBA中心502室08:30am-用户会议致辞08:40am-PHI在中国和全球的最新动态09:00am-PHI 在XPS的最新发展方向和应用09:30am-用户邀请报告 110:00am-小息时间10:20am-PHI在AES仪器的最新发展和应用10:40am-用户邀请报告 211:10am-PHI在Tof-SIMS的最新突破性发展11:30am-午餐休息12:15pm-合照01:30pm-用户讨论交流06:00pm-晚宴 三、会议收费和住宿安排　　会议参会免费,并招待用餐。住宿统一安排于昆明文汇酒店, 住宿费用自理。        文汇酒店地址：昆明市五华区学府路253号（昆明理工大学莲华校区） 四、联系方式                               　　联系人：凌媚（手机 186 1249 8200，邮箱 may.ling@coretechint.com）　　　　　　潘剑南（手机 186 1230 078，邮箱 nice.pan@coretechint.com)　　公司电话：010-62519668　　公司传真：010-62513509 欢迎各位老师、专家和单位人员，报名参会。附件一：《高德公司 邀请函》(http://www.coretechint.com/upload/photos/1/photo/5796d4872403f.pdf)附件二：《报名表》(http://www.coretechint.com/upload/photos/1/photo/5796cbd0646e1.xls)请将填妥报名报发送至may.ling@coretechint.com。 高德英特（北京）科技有限公司Ulvac-Phi Incorporated  

致各位老师、专家和单位人员： PHI公司于30多年前进入中国，衷心感谢清华大学曹立礼老师和刘庆华老师当时的鼎力支持，使PHI在中国取得了第一次的成功，并为日后的发展奠下了重要的基石。多年过去了，PHI从美国公司到现在日美合并的Ulvac-Phi，在中国的发展经历过高潮与低谷，也经过了不短的一段空窗期。在2007年，通过在东南亚市场的密切合作，高德公司与Ulvac-Phi公司建立了战略合作伙伴关系，并且双方对于中国区业务的发展前景有着共同的期待和展望。在2010年1月1日，高德公司以“PHI在中国”的身份正式的在北京成立公司，旨在帮助广大中国用户更高效地使用Ulvac-Phi仪器，发挥仪器的最大功用，并推动相关科研工作的发展。在高德公司不懈地努力和各位老师及用户们的鼎力支持下，Ulvac-Phi在中国区业务逐渐摆脱了业务低迷的局面，重新一步一步的赢回了市场份额和用户的信任。 2016年将是高德公司和Ulvac-Phi中国区业务发展的关键一年。高德公司与Ulvac-Phi公司共同计划在中国区再一次举办Ulvac-Phi用户交流会，希望借此机会把Ulvac-Phi最新表面分析技术和应用介绍给广大用户和听取用户们对于表面分析应用最新的需求，同时也希望借此机会把所有表面分析的新老用户聚合起来，打造一个技术交流和共享的平台，更好地为广大用户提供服务。现就有关事项安排如下： 一、会议时间、地点　　时间：2016年8月9日至10日　　地点：云南省昆明市文汇酒店 二、会议形式及内容　　● 仪器使用和数据处理培训班　　● 用户邀请报告　　● Ulvac-Phi表面分析技术最新发展和应用 三、重要时间和会议安排2016年8月09日  -全天报到02:30pm to 5:30pm-XPS 和AES仪器使用和数据处理培训班2016年8月10日  -09:00am-用户会议致辞09:15am-PHI在中国的最新动态09:35am-ULVAC-PHI在中国和全球的最新发展10:05am-合照、小息时间10:30am-用户邀请报告 111:00am-PHI在AES仪器的最新发展和应用11:30am-用户邀请报告 212:00pm-午餐休息01:00pm-PHI在XPS的最新发展方向和应用01:30pm-PHI在Tof-SIMS的最新突破性发展02:00pm-昆明当地游览06:00pm-晚宴 四、会议收费和住宿安排　　会议参会免费，并招待用餐。住宿统一安排于昆明文汇酒店，住宿费用自理。 五、联系方式                               　　联系人：凌媚（手机 186 1249 8200，邮箱 may.ling@coretechint.com）　　　　　　潘剑南（手机 186 1230 078，邮箱 nice.pan@coretechint.com)　　公司电话：010-62519668　　公司传真：010-62513509 欢迎各位老师、专家和单位人员，报名参会。附件一：《高德公司 邀请函》(http://www.coretechint.com/upload/photos/1/photo/57834cd49b1bd.pdf)附件二：《报名表》(http://www.coretechint.com/upload/photos/1/photo/57834cb6e4c0b.doc)请将填妥报名报发送至may.ling@coretechint.com。 高德英特（北京）科技有限公司Ulvac-Phi Incorporated 

随着钢铁行业技术水平的不断发展，如何进一步提升表面分析技术在相关新产品研发中的应用水平成为国内外钢铁企业普遍面临的内在需求；高德公司（PHI在中国）凭着其在电子能谱分析领域的优势技术，已成功为国内众多高校实验室及大型工业企业研发中心等用户提供了表面分析技术解决方案，受到了行业内的广泛关注。 日前，受宝钢研究院分析测试研究中心的邀请，高德公司的中国区执行总监叶上远先生和高级销售经理鲁德凤女士一同到了宝钢举办技术交流，于2015年12月11日赴沪参加了宝钢研究院分析测试研究中心举行的《表面分析培训研讨会》。 在此次研讨会上，宝钢研究院分析测试研究中心领导沈巍主任首先就此次会议的宗旨和目的进行了简要介绍；随后，高德公司叶上远先生代表高德公司对ULVAC-PHI在中国未来的发展趋势提出了展望。接下来会议进入了技术交流阶段。与会双方就如何有效利用表面分析技术进行了深入的探讨，并分别以PPT的形式展示和分享了各自在表面分析技术应用方面的成果与经验。研究中心陈圣博士和薛菲女士分享了《电子能谱在钢铁镀层产品镀层表征上的应用》和《X射线光电子能谱在宝钢产品质量分析上的应用》；高德公司方面，鲁德凤女士分享了《表面分析对于钢铁材料的最新应用》；叶上远先生则分享了《使用PHI MultiPak进行XPS光电子能谱的数据处理分析应用》。在最后的自由发言环节，与会双方代表对于此次研讨会的形式和内容都给予了充分的肯定，并纷纷表示希望今后能够开展更多类似活动来进一步加强双方的合作与交流，携手推进表面分析技术应用的发展。 此次研讨会的成功举办不但增进了双方的理解和互信，同时也进一步拓展了双方在表面分析技术领域的合作前景。相信在今后的业务合作中，双方将建立更加紧密的技术联系和合作伙伴关系，强化定期技术互动和沟通，共同促进国内表面分析技术在钢铁领域应用水平的提升。 沈巍主任致词 培训研讨会现场

2015年7月28日 中国上海–第一届国际表面分析应用会议是由Applied Surface Science期刊主办。会议主题和目标是在予提供一个平台让所有表面相关领域的科研人员可以发表他们最新的研究，从而达到技术与信息的共享。Ulvac-Phi公司和高德公司参加了本次会议并在其间和参会人员介绍了PHI公司表面分析技术的最新发展。 包括Ulvac-Phi 总公司的木村市朗先生和亚洲区销售经理柴崎琢自，高德公司总经理陈文征博士、中国区执行总监叶上远和销售经理潘剑南都参加了本次会议。 由左至右：木村市朗（Ulvac-Phi常务总监），陈文征博士（高德公司总经理），柴崎琢自（Ulvac-Phi亚洲区销售经理），叶上远（高德中国区总监），潘剑南（高德公司销售经理） 

2015年7月11日，贵阳－表面分析技术在过去二十余年在中国发展迅速，而当中几乎可以说大部份都使用在材料应用当中。高德公司以ＰＨＩ在中国的身份, 参加了2015年7月在贵阳举办的中国材料大会。是次会议总共参会人数达三千六百多人，包括了全国各大院校和科研机构，共同成就了大会成功的进行。 高德公司的中国区执行总监叶上远也参加了本次大会，与公司销售部鲁德凤女士和潘剑南一同，在大会时和众多参会的专家门介绍了ＰＨＩ公司最新的表面分析仪器和应用技术。 大会看版 何力教授的大会报告 高德公司以（PHI在中国）的展位现场 高德公司中国区总监叶上远先生（中）销售部鲁德凤女士（右）和潘剑南先生（左）

表面分析技术在过去二十余年在中国发展迅速，无论在高校领域或是工业发展上都扮演了重要的角色。自2012年起，已经是连续第4年举办的全国表面分析会议，本届继续由高校分析测试中心研究会、全国微束分析标准化技术委员会表面分析分技术委员会和北京分析测试协会表面分析专业委员会主办，并且有中国科学院宁波材料技术与工程研究所、国家大型科学仪器中心-北京电子能谱中心协办，在2015年5月14到17日于宁波精彩召开。 在会议开幕中，先由中国科学院宁波材料技术与工程研究所副所长李润伟致辞，并祝贺了本次会议成功召开。其后由学术委员会主任清华大学朱永法教授重新强调了会议本身的最大目的是在于建立一个公开与共享的平台，不因仪器的不同但以学术的本身把分析应用技术和信息共享，以达到不管是本身仪器的用户或是设备的制造商都可为了表面分析行业上的技术共同努力并获得正面的成果。当中，高德公司作为Ulvac-Phi公司在中国的唯一代表，非常认同朱教授的远大愿景和方向，也很荣幸的连续4年和Ulvac-Phi一同赞助了全国表面分析会议的召开。高德公司也会持续的以“PHI在中国”的姿态继续和Ulvac-Phi一起在中国对包括学术研究和工业等等的机构提供最好的表面分析仪器技术和售后支持。 在本年度宁波举行的全国表面分析会议参会人员约80多人，总共有31个主题报告，其中包括邀请了新加坡国立大学的陈伟教授和许昌学院的郑直教授；高德公司的鲁德凤女士则在会议中报告了使用俄竭电子能谱和飞行时间二次离子质谱仪对材料表面进行表征的应用实例，另外代表Ulvac-Phi原厂的柴崎先生Mr. Takuji Shibasaki则是介绍了使用PHI最新的光电子能谱仪器加上原位俄竭电子能谱分析如何解决复杂的电子原器件在生产和研发时的问题。在经过2天紧凑的会议后，本年度在宁波举办的全国表面分析会议在所有参会人员的热烈参与和讨论下圆满结束。  会议现场 高德公司和Ulvac-Phi在会议中设置的展台，展示了Ulvac-Phi公司全系列表面分析仪器的最新技术  鲁德凤女士在会议中报告有关AES和Tof-SIMS的表征和应用  柴崎先生（Mr. Takuji Shibasaki）在会议中介绍使用XPS和AES分析解决电子原件的失效问题

3月20日，高德公司受昆明仪器仪表学会的邀请，参加了2015年度由学会主办的分析仪器新技术与应用交流会。昆明仪器仪表学会是在云南省里经营推广学术交流、科技培训、科技咨询、出版刊物等等的指标性机构之一。 是次交流会是根据了广大的仪表学会会员的工作需求下所举办,参会的包括有昆钢、云铜、云南盐化、云天化等大型企业, 云南化工设计院、昆明有色冶金设计院及其高校的有关工程技术人员等。 会议地点是在昆明理工大学新迎校区专家楼宾馆1号报告厅举行，参会人员在当天下午1点30分到5点进行了热烈的交流。高德公司的鲁德凤女士和潘建南先生参加了本次会议，并在会议中介绍了Ulvac-Phi公司目前在全球最先进的表面分析技术与相关的应用。当中包括了如何使用XPS（光电子能谱仪）或Tof-SIMS（飞行时间二次离子质谱仪）进行如大阳能电池和OLED产品材料相关应用的分析。在昆明仪器仪表学会的努力安排之下，交流会得以顺利圆满的完成。 会议现场  鲁德凤女士在会议中报告

9月1日，昆明理工大学迎来其60周年校庆日。当日，数百名来自海内外的嘉宾、校友代表欢聚一堂，举行庆典大会，共庆昆工60周年华诞。 应昆明理工分析测试中心邀请，高德公司叶上远先生和鲁德凤女士参加了校庆活动并于2014-9-2日上午在昆明理工报告厅举办技术讲座，与各位老师和同学开展技术交流活动。参加会议交流的老师和同学有百人左右，讲座中主要介绍了PHI XPS&AES的原理、功能、应用、数据采集和处理等内容。下午继续和课题组的老师同学们在图书馆会议室讨论XPS和SIMS在锂电池和燃料电池分析中的应用，以及介绍PHI 的MULTIPAK软件等。 此次技术讲座和交流得到了昆工老师同学们的大力支持和积极反馈，让大家更多地了解了表面分析技术XPS和AES在各个行业和领域中的应用。    

2014年表面科学分析与技术应用学术会议，由高校分析测试中心研究会、全国微束分析标准化技术委员会表面分析分技术委员会主办，四川大学分析测试中心协办，於8月29至30日在成都四川大学红瓦宾馆成功举办。  高德英特（北京）科技有限公司积极参与了本次会议，共5人参加，同时也邀请了ULVAC-PHI工厂的专家柴崎先生和真田先生，参加了本次会议。并在会议现场设置了展台，向与会的各位专家和学者，展示了ULVAC-PHI所制造的表面分析仪器，当中包括Ｘ射线光电子能谱仪，即PHI 5000 Versaprobe II, PHI Quantera II 及 X-TOOL；俄歇电子能谱仪, PHI710；和飞行时间-二次离子质谱仪，PHI-TRIFT V。  会议期间来自ULVAC-PHI的技术专家真田先生做了题为‘Scanning XPS Microprobe to Support Advanced Inorganic and Organic Materials Analysis’，向与会的各位老师详细的介绍了扫描X-射线光电子能谱仪的原理及其优势。同时，介绍了扫描X-射线光电子能谱仪在电子封装微连接方面和燃料电池方面的应用，让国内专家了解扫描微聚焦X-ray特点。会后与会的全体人员合影留念。    

    2014年现代催化研究方法高级讲习班与于6月30日在桂林电子科技大学顺利召开。讲习班以研究生、高等院校青年老师、企业和科研院所相关技术人员为主要对象，着重讲解当前催化研究涉及的主要现代物理方法和基本原理。    进几年来，现代催化研究方法高级讲习班先后由中国科学院大连化学物理研究所(2007)、浙江师范大学(2010年)、四川大学(2012年)、中国科学技术大学(2013年)成功举办，深受催化界同行的强烈支持和热烈欢迎。     催化领域是表面化学的主要方向之一，所涉及的化学反应都在表面进行，因此表面分析技术成为研究催化剂不可或缺的重要手段。高德英特（北京）科技有限公司中国区技术与市场经理宋维先生、鲁德凤女士代表PHI表面分析技术参与了此次会议，主要介绍了全新扫描聚焦型XPS、三聚焦式飞行时间二次离子质谱仪（Trift V nano TOF-SIMS）在催化领域的应用。     PHI开创新一代的扫描聚焦型XPS，极大的扩展了XPS的应用范围。扫描聚焦型XPS将X射线通过单色石英晶体直接聚焦至7.5μm，可观察催化剂在具有形貌载体上的分布及反应前后催化剂及产物的化学态变化。通过报告我们得知，对于一些球形载体的催化剂，催化剂的活性成分通常会分布在载体表面，研磨后活性成分会被载体信号所“淹没”。最好的表征方式为对单一颗粒进行直接表征。    同时，目前PHI 5000 Versaprobe II 推出全新的样品处理室，样品处理室保证了样品经过特殊光源、电子束、离子束、气体反应后直接送至XPS的分析腔室，不经过暴露大气的过程，减少外部环境对催化剂表征的干扰。可以看到，处理腔室可以直接连接气体反应装置，气体的流量、温度、气压控制更加准确。     高德将一如既往的支持中国表面分析事业的发展，加大参与并资助中国表面分析技术人才的培训工作。

         2014年全国微束分析标准化技术委员会表面化学分技术委员会年会于6月12日在中山大学测试大楼召开。全国各地的表面分析标准制定的专家齐聚一堂，共同讨论XPS、AES及TOF-SIMS国家标准的制定，并审查相关标准完成的进度。在去年的基础上，会议表决新的标准立项项目。相关工作取得重大进展，并且顺利达到了预订目标。                  高德英特（北京）科技有限公司的陈文征先生、宋维先生和鲁德凤女士作为业界厂商的代表出席了此次会议。从设备厂商的角度对全国标准的制定给出建设性的意见。高德英特（北京）科技有限公司作为ULVAC-PHI在中国区域全权代表，负责其在中国的销售及售后服务。                  ULVAC-PHI 为全球最专业的表面分析仪器制造商。公司专注于研发生产表面分析仪器，是唯一可提供四种表面成分分析设备的厂商，其产品包括光电子能谱仪（XPS），俄歇电子能谱仪（AES），飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）和动态二次离子质谱仪（D-SIMS）。PHI一直致力于将全面的表面分析技术知识在中国进行推广，通过协助举办全国表面分析会议、主办地方性的学会讲座及线上讲座，不遗余力的将丰富的表面分析技术与国内从事相关工作的技术人员分享。         ULVAC-PHI旗下的光电子能谱仪（XPS）约占世界份额的60%，其产品定位于高端XPS，性能被行业内专家学者认可，是目前唯一提供扫描聚焦型X-ray源的厂家，真正实现了XPS的微区分析能力。AES系统采用专利设计的筒镜式（CMA）能量分析器，实现高空间分辨率、高灵敏度的同时，避免了表面形貌对俄歇成像的阴影效应。TOF-SIMS独特的三重聚焦分析器（TRIFT Analyzer），能够最大限度的提高二次离子质谱的景深，对表面粗糙样品也可轻松处理。与此同时，ULVAC-PHI提供最高灵敏度四级杆式D-SIMS，可高效快速完成动态SIMS分析。  

2013年5月8日，高德英特携ULVAC-PHI部分中国用户成功举办了第一次网络研讨会。此次研讨会主要讨论如何在XPS分析中，充分利用PHI在X-Ray独特的聚焦扫描设计，有效行使从大面积分析到微区分析功能，并演示了如何利用仪器的自动化设计，完成自动队列分析。  此次共有15位国内新老用户参与讨论，高德英特将以这种形式持续开展此类技术研讨会，旨在： 1. 使新用户能够在此平台，与同行及高德英特甚至原厂的工程师进行交流，更容易掌握如何操作XPS获得有效数据以及对数据进行科学处理。2. 为资深用户提供交流平台，用户之间可就仪器操作、数据处理、仪器维护等展开深层次讨论。3. 为想了解XPS的工作人员提供科普平台，传播表面分析概念，甚至PHI独特聚焦扫面X-Ray设计可以为其科研工作提供研究思路。   高德英特为了能够持续开展此类讨论会，充分了解客户需求，讨论会在结束前会收集客户反馈信息。从第一次讨论会反馈信息得出未来讨论方向为： 1. 如何调节分析参数，获得有效数据。2. 从真实样品采集数据后，如何进行数据处理，并结合结果进行讨论。3. 常见系统问题处理及简单仪器维护。 我们期待通过这种形式的讨论会，能够简单方便的为使用者及潜在用户搭建交流平台，传递表面分析知识及最新技术进展，实现共赢。 如果您对此次会议的内容感兴趣，可通过以下邮箱索取会议视频资料： Victor.song@coretechint.com