PHI Quantera II应用展示

全新功能－高德公司的技术视频

为了提供更完善的信息资源平台给市场和客户，高德公司增加了一项新功能。使用客户群可以在技术资料中选取技术视频一项，浏览相关的视频。 现在就开始使用我们的最新功能，分享更多有用的资讯吧！

光电子能谱仪（XPS）的自动双束中和功能

当用XPS仪器分析绝缘样品时，样品表面必须保持电中性，即样品表面无静电荷分布。假设样品表面分布有静电荷，就会导致光电子飞出的动能发生变化。通常表面荷电会导致光电子动能减小，即结合能向高端偏移。 为了很好的解决这个问题，ULVAC-PHI公司的XPS设备增加了双束中和枪的功能，中和枪为绝缘样品荷电区域提供了稳定的荷电补偿。

光电子能谱仪（XPS）的精準样品定位

样品自制备后到放入分析室，确定分析位置需要经过几个步骤，各个步骤的精确定位以及样品导航，在ULVAC-PHI的XPS光電子能譜儀儀器上均经过精心设计，以满足用户不同层次的需求。本文将分别以PHI Quantera II（简称QII） 与PHI-5000 VersaProbeII (简称VP II)样品导航和定位为例，深入介绍ULVAC-PHI的XPS在该方面的设计理念及实际操作。

飞行时间二次離子質譜 - 屏蔽亚稳态离子是如何發生的?

在Vol.47的电子报中，介绍了是专用型的三次聚集飞行时间（TRIFT）分析器，在设计理论上明显优于通用型的离子反射镜（Reflectron）如图1a。另外，由于几何结构上的原因，而通用型的离子反射镜（Reflectron）内部不允许添加任何光阑，无法屏蔽亚稳态离子；而三次聚集飞行时间（TRIFT）分析器，如图1b的ULVAC-PHI nanoTOF II，可以在三个静电分析仪（ESA）之间添加不同的光阑，实现亚稳态离子的抑制。