2014-06-24 11:09
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PHI 710俄歇电子能谱仪
型号: PHI 710
产地:
品牌: ULVAC-PHI
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当用XPS仪器分析绝缘样品时,样品表面必须保持电中性,即样品表面无静电荷分布。假设样品表面分布有静电荷,就会导致光电子飞出的动能发生变化。通常表面荷电会导致光电子动能减小,即结合能向高端偏移。 为了很好的解决这个问题,ULVAC-PHI公司的XPS设备增加了双束中和枪的功能,中和枪为绝缘样品荷电区域提供了稳定的荷电补偿。
样品自制备后到放入分析室,确定分析位置需要经过几个步骤,各个步骤的精确定位以及样品导航,在ULVAC-PHI的XPS光電子能譜儀儀器上均经过精心设计,以满足用户不同层次的需求。本文将分别以PHI Quantera II(简称QII) 与PHI-5000 VersaProbeII (简称VP II)样品导航和定位为例,深入介绍ULVAC-PHI的XPS在该方面的设计理念及实际操作。
在Vol.47的电子报中,介绍了是专用型的三次聚集飞行时间(TRIFT)分析器,在设计理论上明显优于通用型的离子反射镜(Reflectron)如图1a。另外,由于几何结构上的原因,而通用型的离子反射镜(Reflectron)内部不允许添加任何光阑,无法屏蔽亚稳态离子;而三次聚集飞行时间(TRIFT)分析器,如图1b的ULVAC-PHI nanoTOF II,可以在三个静电分析仪(ESA)之间添加不同的光阑,实现亚稳态离子的抑制。