AP-1500 等离子清洗机
特点和优势
* 系统操作简单,数据日志记录简单
* 经证明,具有快速有效的等离子体清洁能力和表面处理能力
* 取得专利的设计提高了处理性能和产能
* 处理腔体易于装卸产品
* 紧密的系统设计减少了占地面积
* 运行成本和购买成本低
有效的等离子处理技术,配有一个大的炉式处理腔体
诺信MARCH的AP-1500 等离子清洗机系统通过其大炉式等处理腔体提供良好的等离子体处理。通过先进的设计理念尽可能降低运行所需气体和电能消耗等方面的日常运行费。
AP-1500系统可处理各类零件组件。该系统是独立的,需要的占地面积小。真空泵、处理腔体、控制电子设备以及40KHz射频发生器均布置在其外壳内。前后检修门可打开,便于检修所有内部组件;真空泵配有底板滚轴,便于拆卸。
等离子清洁和表面处理
AP-1500系统设计为等离子清洁和表面处理应用提供良好的性能。水平电极(挂架)可方便大批量装载。
AP-1500系统采用先进的功率匹配算法和控制系统算法,实现等离子效率提高。直观的触摸屏控制面板可实时监测和控制等离子体处理过程。控制系统具有多级密码保护,防止未经授权的人修改程式。同时保证从第一炉到最后一炉系统性能的一致性。
AP-1500系统还可提供滑动水平置物架,方便装卸。该系统紧凑、便于维护的设计使其占用空间很小,该系统只有前面和后面有检修通道。因此,多个系统可并排放置,实现较小的占地空间。
外壳尺寸
W(宽)xD(长)xH(高)一占地面积 1.118米宽x 1.196米长x 2.407米高
净重 921公斤(2030磅)
设备间隙 右边、左边一至少153毫米,前面一至少680毫米,后面一至少483毫米
处理腔体
最大容量 442.4升
多种电极配置 电源一接地,接地一电源,电源一电源
电极插槽数 14
电极间距 50.8毫米
电极
电源电极面积 643毫米宽x 641毫米长
多孔接地电极面积 698毫米宽x 641毫米长
悬浮工作面积 643毫米宽x 641毫米长
射频电源
标配电源 2000w
频率 40KHZ
气体控制
流量计 10、25、50、100、250、500、1000、2000或5000标准毫升/分钟
MFC最多可配置数 4
控制和接口
软件控制 PLC控制,配有触摸屏界面
远程接口 PlasmaLINK, ProcessLINK
真空泵
标配湿泵 1500升/分钟,配有氧油除雾器
选配湿泵 1500升/分钟,配有防锈油除雾器
选配净化干泵 1784升/分钟
干泵净化氮气用量 14升/分钟
干泵冷却水用量 5升/分钟
设施
电源 220伏,25安,50/60赫兹,3相,8 AWG,4线;380伏,25安,50/60赫兹,3相,8 AWG,5线
工艺气体管径和接口 外径6.35毫米(0.25英寸)Swagelok管
工艺气体纯度 实验室或电子等级
工艺气体压力 最小0.069兆帕至最大0.103兆帕,可调节
净化气体管径和接口 外径6.35毫米(0.25英寸)Swagelok管
净化气体纯度 实验室或电子等级N2/CDA
净化气体压力 最小0.2兆帕至最大0.69兆帕,可调节
气动阀接口和管径 外径6.35毫米(0.25英寸)Swagelok管
压缩空气纯度 CDA、无油、露点温度≤7℃,粒径<5微米
压缩空气压力 最小0.345兆帕至最大0.689兆帕,可调节
排气 外径38毫米(1.5英寸)管道法兰
合规性
半导体行业 通过SEMIS2/S8(环境、健康和安全/人体工学)认证
国际 通过CE认证
辅助设备
气体发生器 氮气、氢氕(需要其他不可选硬件)
设施 冷却器、洗涤器