日立动态｜日立高新全新应用研发中心在NaKa成立

日立高新技术公司（以下简称“日立高新”），于5月31日，以提高解析系统产品解决方案的开发能力为目的，在设计开发工厂所在的茨城县日立那珂市，设立了面向客户样品演示及与客户协同创新的全新应用中心“Advanced-Technology Innovation Center Naka”（以下简称“ACN”）。

电子显微镜、扫描探针显微镜等解析系统产品，在半导体、材料、生物等众多领域中，从研究开发到品质管理被广泛应用于构造研究、检测、分析、物性检测等各种场景当中。特别是在当下加速发展碳中和和5G等应用的背景下，对于样品要了解到其从厘米到纳米的多维度构造及性质的需求增加，这就需要通过不同的产品组合来提供综合解析数据。

为了迅速满足这些需求提供解决方案，于是将之前设立在茨城县日立那珂市和神奈川县川崎市的应用中心迁移到能够容纳所有产品的新址进行汇集。通过将新址设立在毗邻那珂地区设计开发工厂的位置，旨在实现在半导体、环境、安心安全领域中开发出新的分析检测解决方案。

今后还将在那珂地区的设计开发力和产品制造力的基础上，通过与国内外客户的协作创新进一步强化新的综合解决方案的开发。另外，新址除面向客户提供仪器的样品测试、操作培训等业务以外，还将结合疫情后新的工作方式提升线上远程解决问题的能力，为客户提供更加便利的服务。

日立高新将以本次 ACN 的设立作为日立正在推进的 Lumada 事业中的重要一环，通过充分利用“观察·检测·分析”这一日立高新技术集团的核心技术更加迅速地向客户提供综合解决方案，通过面向先端领域客户的活跃与发展贡献力量，进一步提高客户满意度，实现事业的发展壮大。

02Advanced-Technology　Innovation Center Naka的概要

场发射透射电子显微镜 (FE-TEM）、透射电子显微镜 (TEM）、

场发射扫描电子显微镜 (FE-SEM）、扫描电子显微镜 (SEM)、台式电子显微镜 Miniscope®、

聚焦离子束 (FIB/FIB-SEM）、扫描探针显微镜 (FIB/FIB-SEM）、纳米尺度3D光学干涉测量系统(CSI)

03全球应用中心

至此，日立高新已在全球5个国家8个地区设立解析系统相关的应用研发中心。

为更好的服务广大中国客户，日立高新技术上海应用中心与2018年初在中国上海张江盛大开业，成为继日本、美国、英国全球应用中心之后的首家中国应用实验室，并由日立全球应用服务中心统一管理，同时提供专业技术与人员支持。上海应用中心集中展示了日立电镜设备、分析仪器以及前处理设备等众多最新技术仪器，其应用遍及众多科学领域，将为广大中国用户提供更加优质的服务。

上海应用中心配备经验丰富工程师数名，可根据用户需求进行日立各个型号的电镜的操作方法演示，以及对于客户的需求进行现场测样处理。可以同时容纳100人，进行线下线上用户培训会、研讨会、学习会等，为客户技术交流提供了最有效的平台。

上海应用中心

仪器展示

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