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Elionix电子束曝光系统

品牌:
产地: 日本
型号: ELS-F125
报价: 面议
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产品介绍

品牌:Elionix

型号:ELS-F125/F100/HS50

关键词标签:电子束曝光,电子束直写

简短描述:(<40字):利用电子束在抗蚀剂上书写纳米级图案,通过ELB设备曝光和显影,可用于加工sub-10nm的精细结构。

一、简介

ELS-F125Elionix推出的世界上最早的加速电压高达125KV的电子束曝光系统之一,其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)

ELS-F125.jpg

ELS-F125具有以下优点:

l  超高书写精度

- 5 nm 线宽精度 @ 125 kV

- 1.7 nm 电子束直径&邻近效应最小化 @ 125 kV

超高书写精度.jpg

l  高通量、均匀性好

- 超大视野书写:500um视场下10 nm线宽

- 高束流下电子束直径依然很小,高通量而不影响分辨率,2 nm 电子束直径@ 1 nA

高通量均匀性好.jpg

l  界面用户友好

基于Windows系统的CADSEM界面:

-简单易用的图案设计功能

-易于控制的电子束条件

用户界面友好.jpg

二、主要功能

l  主要应用

纳米器件的微结构

集成光学器件,如光栅,光子晶体等

NEMS结构,复杂精细结构

光刻掩模板,压印模板

l  技术能力

型号

ELS-F125

ELS-F100

ELS-HS50

电子枪

ZrO/W 热场发射枪

ZrO/W 热场发射枪

ZrO/W 热场发射枪

加速电压

125 kV, 75 kV, 25 kV

100 kV, 50 kV, 25 kV

50 kV, 20 kV

最小束流直径

Φ 1.7 nm (@ 125 kV)

Φ 1.8 nm (@ 100 kV)

Φ 2.8nm (@ 50 kV,1   nA)

最小线宽

5 nm or less (@125 kV)

6 nm or less (@100 kV)

20 nm (@ 50 kV, 2 nA)

电子束束流

5 pA to 100 nA

20 pA to 100 nA

1 nA to 1 μA

视场范围

Max. 3,000 μm 3,000 μm

Max. 3,000 μm 3,000 μm

Max. 3,000 μm 3,000 μm

Min. 100 μm  100 μm

Min. 100 μm  100 μm

Min. 100 μm  100 μm

束流定位

Max. 1,000,000 1,000,000 (20bit   DAC)

Max. 1,000,000 1,000,000 (20bit   DAC)

Max. 1,000,000 1,000,000 (20bit   DAC)

束流定位分辨率

Min. 0.1 nm

Min. 0.1 nm

Min. 0.1 nm

大样品尺寸

8" wafer or 7" square mask

8" wafer or 7" square mask

8" wafer or 7" square mask

三、应用

应用.jpg

售后服务
保修期: 1年
是否可延长保修期:
现场技术咨询:
免费培训: I人技术服务
免费仪器保养: 暂无
保内维修承诺: 免费维修服务
报修承诺: 24小时内响应
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其他半导体检测仪ELS-F125的操作规程有吗?

其他半导体检测仪ELS-F125报价含票含运吗?

ELS-F125有现货吗?

工商信息

企业名称

上海纳腾仪器有限公司

企业信息已认证

企业类型

有限责任公司(国内合资)

信用代码

91310117685505991R

成立日期

2009-03-12

注册资本

人民币100.0000万元整

经营范围

分析仪器及配件、教学仪器及配件研发、生产(除计量器具)、销售;家用电器、电子产品、日用百货、办公用品、机械设备、计算机及配件、化工原料及产品(除危险化学品、监控化学品、烟花爆竹、民用爆炸物品、易制毒化学品)批发零售;纳米、医疗、化学、生物专业领域内的技术开发、技术转让、技术咨询、技术服务(不得从事诊疗活动、心理咨询);从事货物及技术的进出口业务。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)

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