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当前位置: 沈阳科晶 > 解决方案 > 大面积金刚石自支撑膜机械抛光新技术2

大面积金刚石自支撑膜机械抛光新技术2

2008/10/10 14:51

阅读:743

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应用领域:
发布时间:
2008/10/10
检测样品:
检测项目:
浏览次数:
743
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17
参考标准:

方案摘要:

2. 试 验 金刚石自支撑膜是由本实验室的100KW 级高功率直流电弧等离子体溅射化学气相沉积系统制备而成,沉积金刚石自支撑膜的工艺参数如表1 所示。 Table 1 Depositing parameters of the diamond thin film 功率 KW 15 沉积室压强 KPa 4.2 基体温度 ℃ ~950 H2 流量 SLM 8 CH4 流量 SCCM 120 Ar 流量 SLM 2 沉积时间 hour 80 基体 Mo 金刚石自支撑膜的直径为φ60mm,厚度为1mm,生长面的最初粗糙度Ra 大于12μm,并且表面生长不均匀,呈现起伏不平的形貌特征。 抛光设备选用沈阳科晶设备制造有限公司的UNIPOL-1502A 型自动研磨抛光机,该设备可无级调速,试样加载为载物盘自身重力加载,铸铁盘选平面盘或带槽平盘,还可同时加工3 个试样达到小批量生产的能力。该设备研磨盘旋转平稳,φ380mm 的研磨抛光盘的跳动范围在5~10μm,对试样损害小。 金刚石粉选用高温高压爆炸法制备的筛选粉,粒度级别分别是100/120、140/170、200/230,采用加水研磨,金刚石粉可部分回收。 本实验旨在探索新的设备的工艺参数,故尝试不同的转速,不同的金刚石粉颗粒尺寸,不同表面形状的研磨盘,工作固定的时间段,选择最大磨削量的工艺参数作为结果参数。

产品配置单:

前处理设备

UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机

型号: UNIPOL-1502

产地: 辽宁

品牌: 沈阳科晶

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3.3 不同金刚石粉颗粒尺寸对磨削速率的影响 通过之前的研究结果可以知道,在同一个转速对不同的金刚石粉颗粒的磨削能力进行 评价是不合适的,因为每一种颗粒都会对应一个合适的转速。所以选用颗粒为200/230 和 140/170 的金刚石粉在转速分别为30r/min、35 r/min、40 r/min 时进行研磨2 小时。选用颗 粒为140/170 和100/120 的金刚石粉在转速为20 r/min、30 r/min 时进行研磨2 小时,不同 金刚石粉的颗粒尺寸对磨削量的对比图如图3 所示。 0 5 10 15 20 25 30r/min 35r/min 40r/min 200/230 140/170 0 2 4 6 8 10 12 14 16 18 20r/min 30r/min 140/170 100/120 图3 不同金刚石粉颗粒尺寸对磨削速率的影响 Fig.3 The effect of the different grain sides of the diamond powder on the polishing speed 从图3 可以看出,不同的金刚石粉颗粒尺寸对应有一个合适的转速,在这个转速下 的最大磨削速率才能体现出金刚石粉的磨削能力。根据之前的数据以及试验现象可以估计 200/230 的颗粒在35r/min 时有最大磨削速率,140/170 的颗粒在25~30r/min 会产生一个最 大的磨削量;100/120 的颗粒将在20~25r/min 之间产生一个最大的磨削量,因为试验数据 显示在10r/min 时磨削量下降且金刚石粉易内聚,20r/min 时金刚石粉的分布比较均匀。根 据文献[13]报导,金刚石粉对金刚石自支撑膜产生的磨削作用会有一个极值,也就是说同粒 度的金刚石粉只能达到一定的磨削量,达到之后时间增长或者转速增大,都不能改善磨削 效果。而在本试验中,不同的金刚石粉颗粒的最大磨削速率都在12μm/h 左右,所以不同 的金刚石粉颗粒需要找到其本身最好的匹配转速,达到之后的磨削能力相差不大。

2008/10/10

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