核心参数
产地类别: 国产
VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪,一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜,一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。1、配置两个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜,应用广泛。
3、体积小,操作简便。
产品名称 | VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪 | |
产品型号 | VTC-600-2HD | |
安装条件 | 本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水) 2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地 3、气:设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带?6mm双卡套接头)及减压阀 4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上 5、通风装置:需要 | |
主要参数 | 1、电源电压:220V 50Hz 2、功率:<2KW(不含真空泵) 3、极限真空度:9.0×10-4Pa 4、样品台加热温度:RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度) 5、靶枪数量:2个(可选配其他数量) 6、靶枪冷却方式:水冷 7、靶材尺寸:?2″,厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同) 8、直流溅射功率:500W;射频溅射功率:300W。(靶电源种类可选,可选择两个直流电源,也可选择两个射频电源,或选则一个直流一个射频电源) 9、载样台:?140mm,可根据客户需求选配加装偏压功能,以实现更高质量的镀膜。 10、载样台转速:1rpm-20rpm内可调 11、工作气体:Ar等惰性气体 12、进气气路:质量流量计控制2路进气,一路为100SCCM,另一路为200SCCM。 | |
产品规格 | 1、主机尺寸:500mm×560mm×660mm | |
标准配件 | 1直流电源控制系统1套 2射频电源控制系统1套 3膜厚监测仪系统1套 4分子泵(德国进口)1台 5冷水机1台 6冷却水管(?6mm)4根 | |
可选配件 | 金、铟、银、铂等各种靶材 |
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企业名称
沈阳科晶自动化设备有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
210132000055868
成立日期
2003-06-11
注册资本
150
经营范围
切割、研磨、抛光、机床自动化设备及耗材生产与销售;经营本企业自产产品及技术的出口业务和本企业所需的机械设备、零配件、原辅料及技术的进出口业务(但国家限定公司经营或禁止进出口的商品及技术除外)。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动。)
沈阳科晶自动化设备有限公司
公司地址
沈阳市浑南区浑南中路35-27号国际产业园 沈阳科晶自动化设备有限公司
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