核心参数
产地类别: 国产
VTC-600G高真空磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600G高真空磁控溅射仪可选配多个靶枪,配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。·可选配多个靶枪,配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜(靶枪可以根据客户需要任意调换)。
·可制备多种薄膜,应用广泛。
·体积小,操作简便。
·整机模块化设计,真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计,可根据用户实际需要调整。
·可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪。
产品 名称 | VTC-600G高真空磁控溅射仪 | |
产品 型号 | VTC-600G | |
主要参数 | 1、结构:台式前开门结构,后置抽气系统。 2、极限真空:6.0X10-5Pa。 3、漏率:1h≤0.5Pa。 4、抽气时间大气至5.0X10-3约20分钟。 5、真空泵组:机械泵+分子泵。 6、样品台:φ140、室温-500℃、精度±1℃ (可根据实际需要提升温度) 自转5rpm-20rpm内可调。 可根据客户需求选配加装偏压功能, 以实现更高质量的镀膜。 7、加气系统:质量流量计2路。 (氩气/氮气各一路) 8、靶头与样品台中轴线夹角为34° 9、靶头数量:3个(互成120°)。 10、 靶枪冷却方式:水冷 11、靶材尺寸:φ2″,厚度0.1-5mm (因靶材材质不同厚度有所不同) | |
12、产品规格: ·尺寸: 整机尺寸:700mm×852mm×1529mm; | ||
序号 | 名称 | 数量 | 图片链接 |
1 | 样品台挡板 | (可选) |
沈阳科晶镀膜机VTC-600G的工作原理介绍
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企业名称
沈阳科晶自动化设备有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
210132000055868
成立日期
2003-06-11
注册资本
150
经营范围
切割、研磨、抛光、机床自动化设备及耗材生产与销售;经营本企业自产产品及技术的出口业务和本企业所需的机械设备、零配件、原辅料及技术的进出口业务(但国家限定公司经营或禁止进出口的商品及技术除外)。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动。)
沈阳科晶自动化设备有限公司
公司地址
沈阳市浑南区浑南中路35-27号国际产业园 沈阳科晶自动化设备有限公司
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