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大面积金刚石自支撑膜机械抛光新技术1

2008/10/10 14:44

阅读:742

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应用领域:
发布时间:
2008/10/10
检测样品:
检测项目:
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742
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方案摘要:

1、北京科技大学材料科学与工程学院功能材料研究所,北京(100083) 2、沈阳科晶设备制造有限公司,沈阳(110168) 1. 引 言 众所周知,金刚石是自然界目前所知最硬的材料,同时,它具有极高的热导率,高的电子和空位迁移率,并在很宽的光波段范围内(0.2~25μm)透明[1]。因此,诸多的优异性能促使人们对金刚石材料产生了浓厚的兴趣。早期,金刚石材料在刀具、磨具材料上广泛应用,其它电子、热学、光学、声学领域的应用都要求金刚石要经过抛光处才能够使用。20 世纪90 年代以来,随着化学气相沉积(CVD)技术的发展,人造金刚石自支撑膜已具有十分接近天然金刚石的各项性能。且成本也降到用户可以接受的范围,商业化应用前景可观[2]。本研究所长期致力于金刚石自支撑膜的研究和开发,已经开发出拥有我国独立知识产权的高功率100KW 级直流电弧等离子体溅射化学气相沉积系统(100KW DC Arc Plasma Jet CVD),可以沉积出最大直径为120mm 的金刚石自支撑膜,厚度在1mm 左右[3]。然而,金刚石自支撑膜的后加工(包括切割、抛光、平整化等工序)特别困难,所以在金刚石自支撑膜抛光方面本研究所亦进行过较多的研究[4,5],但是效果都不明显,不是效率太低,且易损坏样品,就是研磨设备成本过高,控制稳定性差,不利于进行产业化的应用。 如今金刚石膜的抛光方法已经存在多种,从早期到现在依次有:金刚石粉研磨[6]、热化学抛光[7]、离子束抛光[8]、等离子抛光[9]、化学机械抛光 [10]、激光抛光[11]等方法。这些方法当中,各有优缺点,万静[12]等综述比较了这些方法各自的特点。本文选用的方法是最古老、最方便、原理最简单的金刚石粉机械研磨抛光方法,研磨抛光的设备选用沈阳科晶 设备制造有限公司专门研制的UNIPOL-1502A 抛光机。通过研究研磨盘面形、转盘转速、金刚石粉颗粒尺寸对金刚石自支撑膜磨抛速率的影响,找出新技术的工艺参数和工艺条件。

产品配置单:

前处理设备

SYJ-D2000金刚石带锯切割机

型号: SYJ-D2000

产地: 辽宁

品牌: 沈阳科晶

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3.3 不同金刚石粉颗粒尺寸对磨削速率的影响 通过之前的研究结果可以知道,在同一个转速对不同的金刚石粉颗粒的磨削能力进行 评价是不合适的,因为每一种颗粒都会对应一个合适的转速。所以选用颗粒为200/230 和 140/170 的金刚石粉在转速分别为30r/min、35 r/min、40 r/min 时进行研磨2 小时。选用颗 粒为140/170 和100/120 的金刚石粉在转速为20 r/min、30 r/min 时进行研磨2 小时,不同 金刚石粉的颗粒尺寸对磨削量的对比图如图3 所示。 0 5 10 15 20 25 30r/min 35r/min 40r/min 200/230 140/170 0 2 4 6 8 10 12 14 16 18 20r/min 30r/min 140/170 100/120 图3 不同金刚石粉颗粒尺寸对磨削速率的影响 Fig.3 The effect of the different grain sides of the diamond powder on the polishing speed 从图3 可以看出,不同的金刚石粉颗粒尺寸对应有一个合适的转速,在这个转速下 的最大磨削速率才能体现出金刚石粉的磨削能力。根据之前的数据以及试验现象可以估计 200/230 的颗粒在35r/min 时有最大磨削速率,140/170 的颗粒在25~30r/min 会产生一个最 大的磨削量;100/120 的颗粒将在20~25r/min 之间产生一个最大的磨削量,因为试验数据 显示在10r/min 时磨削量下降且金刚石粉易内聚,20r/min 时金刚石粉的分布比较均匀。根 据文献[13]报导,金刚石粉对金刚石自支撑膜产生的磨削作用会有一个极值,也就是说同粒 度的金刚石粉只能达到一定的磨削量,达到之后时间增长或者转速增大,都不能改善磨削 效果。而在本试验中,不同的金刚石粉颗粒的最大磨削速率都在12μm/h 左右,所以不同 的金刚石粉颗粒需要找到其本身最好的匹配转速,达到之后的磨削能力相差不大。

2008/10/10

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