新一代电弧等离子体沉积系统：同时使用多种靶材制备新化合物

日本ADVANCE RIKO公司总结多种薄膜沉积技术，发布电弧等离子体沉积（APD）系统。其工作原理主要分为三步：先在触发电上加载高电压后，电容中的电荷充到阴（靶材）上；其次真空中的阳和阴（靶材）间，电子形成了蠕缓放电，并产生放电回路，靶材被加热并形成等离子体；后通过磁场控制等离子体照射到基底上，形成薄膜或纳米颗粒。

APD工作原理 

电弧等离子体沉积系统利用5个高能电容器，通过改变电容器使用数量，使充电电压发生改变，从而控制脉冲能量，终达到控制薄膜厚度的目的。同时可以在1.5nm到6nm范围内控制纳米颗粒直径，活性好，产量高。 

APD制备的Fe-Co纳米颗粒的SEM和EDS图谱 

电弧等离子体沉积系统多搭载3个沉积源，可以同时/交替使用多种靶材，使得制备新化合物成为可能。金属/半导体制备同时，控制腔体气氛，可以产生氧化物和氮化物薄膜。另外，高能量等离子体可以使碳靶材离子化，在碳单质体如非晶碳，纳米钻石，碳纳米管沉积与制备方面有广泛的应用。 

产品特点 

1.    可以通过调节放电电容量，控制纳米颗粒直径在1.5nm到6nm范围内。

2.    APD系统适用于多种导电靶材，电阻率小于0.01Ω.cm的靶材系统都可以将其等离子体化。

3.    改变系统的气氛氛围，可以制备氧化物或氮化物。石墨在氢气中放电能产生超纳米微晶钻石。

4.    用该系统制备的纳米颗粒用于催化，催化活性高于湿法制备。

5.    Model APD-P支持将纳米颗粒做成粉末。Model APD-S适合在2英寸基片上制备均匀薄膜。

相关产品链接

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