2024/10/24 09:44
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上海伯东美国 KRi 大面积射频离子源 RFICP 380
型号: 大面积射频离子源 RFICP 380
产地: 美国
品牌: 考夫曼
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方案详情:
HUD 已经成为一种常见的汽车配置与功能, 通过它来直观显示速度、发动机转速或其他悬停在驾驶员视野中的信息, 减少因低头查看仪表盘而造成的分心, 提升驾驶安全. 目前量产的车用抬头显示 HUD 正在从风挡型 W-HUD 逐渐向增强现实型的 AR-HUD 发展:从单纯的信息展示屏幕, 变成了具有在实际路况位置产生警示符号的增强现实(AR) 效果.
W-HUD/AR-HUD 一直都依赖光学凹面镜成像原理实现距离与视觉尺寸的放大, AR-HUD最大的技术挑战在于:高放大倍率所衍生的高倍率畸变差晕眩问题与太阳光倒灌烧毁光机的问题. 要使用越小的体积产生同样的长虚像距离 (VID) 距离, 放大倍率就得越大. 放大倍率越大, 阳光倒灌与晕畸变差眩就越严重. 防阳光倒灌滤光片可通过 RGB 窄带滤光片来实现. 滤光片可实现可见光波段的高透过率, 同时截止近红外和紫外波段, 获得极高的亮度测量灵敏度和动态范围.
KRi 离子源应用于车载AR-HUD 镀膜
上海伯东某客户使用自主研发的高端镀膜设备, 配备美国 KRI 射频离子源辅助镀膜通过测验, 得到具有高透过率、高匹配精度、膜层致密度和牢固度优质, 高低温变化波长不漂移, 恶劣环境下耐久性良好的 RGB 窄带滤光片, 上海伯东为车载AR-HUD TFT 防阳光倒灌提供了优质镀膜解决方案.
上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频源 RFICP 系列提供完整的系列, 包含离子源本体, 电子供应器, 中和器, 自动控制器等. 射频离子源适合多层膜的制备, 离子溅镀镀膜和离子蚀刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等.
射频离子源 RFICP 系列技术参数:
型号 | RFICP 40 | RFICP 100 | RFICP 140 | RFICP 220 | RFICP 380 |
Discharge 阳极 | RF 射频 | RF 射频 | RF 射频 | RF 射频 | RF 射频 |
离子束流 | >100 mA | >350 mA | >600 mA | >800 mA | >1500 mA |
离子动能 | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V |
栅极直径 | 4 cm Φ | 10 cm Φ | 14 cm Φ | 22 cm Φ | 38 cm Φ |
离子束 | 聚焦, 平行, 散射 |
| |||
流量 | 3-10 sccm | 5-30 sccm | 5-30 sccm | 10-40 sccm | 15-50 sccm |
通气 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 | ||||
典型压力 | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr |
长度 | 12.7 cm | 23.5 cm | 24.6 cm | 30 cm | 39 cm |
直径 | 13.5 cm | 19.1 cm | 24.6 cm | 41 cm | 59 cm |
中和器 | LFN 2000 |
上海伯东同时提供真空系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域.
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上海伯东 KRI 霍尔离子源应用于黑膜镀制
上海伯东美国 KRI 霍尔离子源辅助沉积镀制增透吸收膜, 可以获得非常好的单质 SI 材料可见波段的吸收常数, 离子源辅助沉积过程稳定, 膜层致密性高, HR 膜更加得心应手, 加以合理工艺匹配, 可获得高信耐性、工艺性能良好的黑膜和 HR 膜. 使用离子源辅助的电子束蒸发来在不加热基板上进行蒸发, 可得到附着力良好, 遮盖力强, 材料可均匀融化, 工艺性能良好, 能很好地粘附于多种基底类型, 并表现出良好的环境稳定性的黑膜. 美国进口 KRI 霍尔离子源辅助镀制, 可达到行业顶级水准的效果.
半导体
2024/10/24
上海伯东KRI 射频离子源辅助沉积镀制385nm紫外带通滤光片
带通滤光片也叫干涉滤光片, 主要起到过滤不想要的杂光, 只让想要的光通过的作用. 385nm 紫外带通滤光片是带通滤光片中一款 UV 紫外波段的滤光片, 广泛应用于荧光检测, 警用多波段滤光片. 它具有高透过率, 其深截止可保证探测器接收不到其它波长的光, 因此可保证图像的高亮度和更大的信噪比. 385nm 紫外带通滤光片采用多层硬膜经离子辅助沉积纳米材料高真空蒸发而成, 膜层致密性好, 成像清晰度高, 厚度薄. 为了得到更优质效果, 经过推荐上海伯东某客户采用光学镀膜机加装美国原装进口 KRi 大尺寸射频离子源 RFICP 380 镀制 385nm 紫外带通滤光片.
半导体
2024/10/24
上海伯东提供适用于薄膜太阳能电池生产的离子源和真空系统
在没有真空的情况下,可再生能源的发展是不可能的。以光伏发电(Photovoltaics,PV)为例,这是一种为大家所熟知的能源转化方式,通过太阳能电池将太阳辐射能转化为电子流,进而生成电能。 太阳能电池技术有许多种类,其中一种主要的技术是基于薄膜沉积。这种方法的主要优点在于,它在制造太阳能电池时消耗的材料较少。除了碲化镉(CdTe)等材料外,铜铟镓硒化物(CIGS)也常被用于吸收层。这些层可以被沉积在玻璃等非柔性基板上,也可以沉积在金属带材或箔片等柔性基板上,还可以沉积在柔性薄玻璃上。然后,这些基板需要被放入一个大型真空腔室中。在这个真空腔室中,会进行多种物理气相沉积(PVD)工艺,例如溅射或蒸发,以生成多层太阳能电池。根据不同的工艺,为了沉积这些层,需要 10-3 至 10-6 毫巴范围内的真空。由于表面积较大,高抽速是必不可少的,同时真空腔室需要保持洁净无碳,以确保高质量的涂层。
能源/新能源
2024/10/24
上海伯东 KRI 离子源用于离子束抛光机
离子束抛光适用于大面积、异型、特殊材料等加工对象的超高精度非接触式修形及抛光, 精度可达亚纳米级, 被誉为终极抛光. 离子束抛光机的最核心部件是可聚焦的高能量离子源. 上海伯东某客户为专业精密光学元器件设备制造商, 主要产品为离子束抛光机、磁流变抛光机等, 提供超精密光学工艺制造研发服务, 是一家超精密光学元器件解决方案提供商. 经推荐, 该客户采用上海伯东美国 KRi 直流电源式考夫曼离子源 KDC 系列成功应用于光学镀膜离子束抛光机.
半导体
2024/10/24