伯东 KRI 离子源（Ion Beam Sources）在精密光学中的应用 一 离子束加工离子束加工是利用离子束对材料进行成形或表面改性加工的一种工艺方法. 离子束加工的原理与电子束加工原理基本相同, 即在真空条件下, 将离子源产生的离子经过电场加速、聚焦, 使之打到工件表面. 由于离子带正电荷, 其质量比电子大数千, 数万倍, 所以离子束加速到较高的速度时, 离子束比电子束具有更大的撞击动能, 它是靠微观的机械撞击能量来加工的, 而不是靠动能转变为热能来加工的离子束加工的物理基础是离子束射到材料表面时所产生的三个效应, 即撞击效应, 溅射效应和注入效应. 具有一定动能的离子入射到工件材料表面时, 可以将表面的原子撞击出来, 这就是离子的撞击效应和溅射效应. 如果将工件直接作为离子轰击的靶材, 工件表面就会收到离子刻蚀. 如果将工件放置在靶材附近, 靶材原子就会溅射到工件表面而被溅射沉积吸附, 使工件表面镀上一层靶材原子的薄膜. 如果离子能量足够大并且垂直工件表面撞击时, 离子就会钻进工件表面, 这就是离子的注入效应 离子束加工的特点    1 加工精度高, 而且便于精确控制. 离子束可以通过离子光学系统进行聚焦扫描, 可以精确控制尺寸范围.     2 产生污染少, 离子束加工在高真空中进行, 污染少, 特别适合加工易氧化的金属、合金及半导体材料.     3 加工应力、变形极小. 离子束加工是一种原子级或分子级的微细加工, 作为一种微观作用, 其宏观压力很小, 适合于各种材料和低刚度工件的加工, 而且加工表面质量高.     离子束加工的过程    1 首先利用干涉仪测量被加工元件表面面型, 并入电脑    2 输入理想的元件表面面型    3 通过电脑计算该元件表面去除量, 并自动控制离子束以不同的速度扫描光学元件表面（如下图）    4 加工结束 二 双离子束溅射薄膜沉积双离子束溅射（DIBS）沉积技术是一种制备优质薄膜的重要方法. 这种方法主要特点是运用一个功率较大的溅射离子源产生高密度的高能离子轰击靶材, 因而可以在高真空下实施高速溅射沉积. 辅助离子源用来改善薄膜的致密度和反应度, 实现在低温下超低光学损耗和超多层膜的制备. 离子源常用RF激励源, 其频率为13.56MHz. 它使用离子源放电室的Ar气有效电离, 电离产生的离子由屏栅正电场聚焦、加速栅的负电场加速后, 经中和器电子中和后轰击靶材. 溅射离子源中和器的工作气体一般为Ar, 而辅助离子源为反应气体和氩气的混合气体. 对常用的氧化物薄膜, 氧气和氩气的流量比必须大于0.6, 否则氧化膜容易产生吸收.  DIBS技术已经在高精密光学薄膜技术中得到广泛的应用. DIBS系统工作稳定, 长时间运行时, 其工作气压、束流密度和加速电压等不稳定度可控制在0.5%以内. 而且成膜速率快, 膜层的光学、机械性能优良.  伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士 T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049 M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958 ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究！

英国知名品牌磁控离子溅射镀膜仪是一款优化设计的带涡轮分子泵抽真空的镀膜设备, 真空度可达5x10-5mbar. 可以溅射具有超细成膜颗粒的易氧化金属, 适用于高分辨率成像. 同样地, 低散射可得到均匀而致密的无定形碳膜.  伯东 pfeiffer 真空泵 hipace 80 应用于磁控离子溅射镀膜仪上海伯东德国普发 pfeiffer 真空泵 hipace 80优点：1.抽速可达到 71 l/s 高性能涡轮分子泵. 2.真空泵 hipace 80 对所有气体的高抽速和极高压缩比使其广泛应用于真空行业.3.集成驱动电路, 适用于工业环境.4.通过保护等级 ip54, 半导体 s2, ul / csa 认证. 5.通过控制器监控运算数据保证分子泵的最高安全性. 6.涡轮分子泵 hipace 80 可以任意位置安装. 7.自然风冷.8.多种配件可选满足广泛应用. 与友厂对比,上海伯东德国 pfeiffer 复合轴承分子泵 hipace 系列,对小分子气体拥有更高的抽速和更大压缩比.型号抽速 l/s压缩比极限真空度 hpa   真空泵 hipace 80n2 67   he 58   h2 48   ar 66n2 > 1 x1011   he > 1.3x107   h2 1.4x105   ar > 1 x1011   真空泵 hipace 300n2 260   he 255   h2 220   ar 255n2 > 1 x1011   he > 1x108   h2 9x105   ar > 1 x1011 上海伯东是德国 pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 kri 考夫曼离子源, 美国 intest 高低温冲击测试机, 美国 ambrell 感应加热设备和日本 ns 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士 t: +86-21-5046-1322                   t: +886-3-567-9508 ext 161 f: +86-21-5046-1490                        f: +886-3-567-0049 m: +86 152-0195-1076                     m: +886-939-653-958 ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw上海伯东版权所有, 翻拷必究！ 

PCC紧凑型深冷泵在气体成分检测中起到捕集阱制冷富集样品的作用. 测试样品为大气空气, 富集成分是含卤温室气体, 整体实验目的是检测大气中含卤温室气体含量, 设备具体作用是样品富集过程中超低温制冷. 实验做法如下: Medusa的核心是一个超级制冷的制冷端（Poly Cold Cryotiger）, 该冷阱利用专门的混合气制冷剂的压缩机制冷, 能使温度低至-175°C, 并且其耐热性能很好. 通过利用热传导性的平衡和抵消, 将捕集冷阱连接到制冷端, 每个捕集阱的温度从-165°C 到+200°C或者更宽范围, 而制冷端始终保持冷却. 极底的捕集温度能够对极易挥发的对全球气候变化有影响的并且在《京都议定书》中限制的全氟化物进行定量.  通过在超低的温度下对组分的捕集和解吸, 不仅可以使检测到的化合物的范围扩大到包括那些极易挥发的化合物, 而且也避免了在较高的温度下不同组分在捕集冷阱中的相互反应. 上海伯东是POLYCOLD系列产品在中国地区指定总代理商.            气体成分分析系统中PCC深冷泵应用大致示意图                             上海伯东PCC紧凑型深冷泵的优势1.体积小巧、远程冷头和细小的连接使其成很多应用领域的zui佳方案2.震动幅度低3.低温可达到-203℃（70K）4.快速的制冷速率, 高性能5.操作简单方便6.设备占地面积小7.消除了对液氮的需求, 无污染, 符合环保要求8.维护成本低9.国际标准, 整机美国设计, 制造, 组装, 原装进口若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式: 伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

伯东公司为 Kaufman & Robinson, Inc (美国考夫曼公司) 大中国区总代理. 美国考夫曼公司霍尔离子源控制器已成功替换取代 Veeco Commonwealth 控制器, 完全不需更改任何镀膜机计算机程序及相关设定即可直接运做. KRi (考夫曼) 霍尔源控制器有全自动控制器 (Auto Controller), 灯丝控制器 (Filament Controller),阳极控制器 (Discharge Controller), 运作时选择全自动匹配 (Auto Gas), 半自动 (Manual Gas) 匹配及全手动匹配 (Gas Only) 三种操作选项. 在全自动逼配模式自动控制器依照客户所设定之阳极电流 (Vd) 及阳极电压 (ID) 自动调整气体以维持工艺所需要的离子束能量. 全自动控制器可以记忆四组离子参数, 工艺中更换参数组别时可以在离子束点火中直接切换参数组别, 不需重新熄火做点燃离子束, 以达到最稳定的离子束状态. 实际案例: 1.    设备: 1.3 米镀膜机.2.    基材: 塑料护目镜.3.    离子源条件: Vb:140V(离子束阳极电压), Ib:2.5A(离子束阳极电流), O2 gas: 9sccm(氧气).4.    图片: 上海伯东是美国考夫曼离子源 Kaufman & Robinson, Inc 中国总代理. 美国 KRi 霍尔离子源全自动匹配, 四组参数记忆, 可同时控制四种气体流量的设计, 可以提供更方便的操做及获得更稳定的离子束.可以完全替换 Veeco, Commonwealth, 国产霍尔离子源控制器. KRi 霍尔离子源控制器 (End Hall Controller) 型号: 全自动控器 (Auto controller), 灯丝控制器(Filament Controller), 阳极控制器 (Discharge Controller) 上海伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士 T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049 M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958 ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw上海伯东版权所有, 翻拷必究！

伯东公司为 Kaufman & Robinson, Inc (美国考夫曼公司) 大中国区总代理. 美国考夫曼公司中空阴极中和器霍尔离子源 EH 3000HC已成功被应用于应用于直径 2.2米天文望远镜镜片离子辅助镀膜工艺 (Ion Beam Assisted Deposition, IBAD). EH 3000HC 离子束具有业界中最高广角的涵盖面积及最高密度的离子浓度, 在离子辅助镀膜工艺镀膜中可以获得高均匀性及高致密性的膜层. 实际案例: 设备: 3米蒸镀镀膜机.基材: 2.2米天文望远镜镜片.离子源条件: Vb:120V(离子束阳极电压), Ib:14A(离子束阳极电流), O2 gas:45sccm(氧气).图片:KRI 霍尔离子源 eH 3000 上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 3000 最适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上最高效, 提供最高离子束流的离子源. 尺寸: 直径= 9.7“ 高= 6” 放电电压 / 电流: 50-300V / 20A 操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体 KRI 霍尔离子源 eH 3000 特性 • 水冷 - 加速冷却 • 可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时,最大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极 • 宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率 • 多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便 • 高效的等离子转换和稳定的功率控制 上海伯东是美国考夫曼离子源 Kaufman & Robinson, Inc 中国总代理. 美国 KRi 霍尔离子源已广泛应用于离子辅助镀膜应用(IBAD), 高密度的离子浓度, 广角度涵盖面积的离子束, 可控制离子的强度及浓度可获得高质量的膜层抛. KRi 霍尔源系列可依客户镀膜机尺寸及基材尺寸及工艺条件选择相关型号:KRi End Hall (霍尔离子源) 型号: EH400, EH1000, EH2000, EH3000. 上海伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

伯东 KRI Gridded 考夫曼离子源成功应用于离子束抛光工艺伯东公司为 Kaufman & Robinson, Inc (美国考夫曼公司) 大中国区总代理. 美国考夫曼公司Gridded Ion Sources (考夫曼栅极离子源), KDC (直流电源式考夫曼离子源) 已成功被应用于光学镀膜离子束抛光机 (IBF Optical coating) 及晶体硅片离子束抛光机 (IBF Clrystalline)工艺. 考夫曼公司离子源可变离子的强度及浓度, 控制抛光刻蚀速率更准确使在抛光后的基材上获得更平坦均匀性高的薄膜表面. 内置型的设计更符合离子源于离子抛光机内部的移动运行. 实际案例一: 1.    基材: 100mm 光学镜片.2.    离子源条件: Vb:800V(离子束电压), Ib:84mA(离子束电流), Va:-160V(离子束加速电压), Ar gas(氩气).3.    离子束抛光前平坦度影像呈现图          离子束抛光后平坦度影像呈现图             实际案例二:1.    基材: 300mm晶体硅片2.    离子源条件: Vb:1000V(离子束电压), Ib:69mA(离子束电流), Va:-200V(离子束加速电压) Ar gas(氩气).3.    离子束抛光前平坦度影像呈现图          离子束抛光后平坦度影像呈现图   实际安装案例一:KDC10 使用于光学镀膜离子束抛光机实际安装案例二:KDC40 使用于晶体硅片离子束抛光机 上海伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士 T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049 M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958 ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw上海伯东版权所有, 翻拷必究！

真空退火炉主要适用于不锈钢拉深件如水暖器材/ 水胀件/ 医疗器械/ 不锈钢钉/ 不锈钢镙丝/ 压铆件/ 不锈钢轴承/ 表壳/ 表带/ 刀具/ 微型轴/ 自攻自钻/ 餐具等不锈钢制品在保护气氛控制下进行连续光亮退火/ 固溶/ 退磁及不锈钢淬火处理的多用炉. 处理后产品表面光洁, 不氧化, 不脱碳. 具有生产效率高, 能耗低, 污染少, 操作使用方便, 劳动强度低等优点.也可供金属材料钎焊,烧结之用. 系引进消化国外90年初先进产品. 在无氧化和无污染状态下进行消除应力或再结晶退火,以消除加工硬化和恢复塑性. 加热退火处理的方法很多, 但采用真空退火对钛管材进行退火处理, 是稀有金属加工领域一项较新的技术和工艺. 它以热处理清洁/ 经济/ 无污染/ 无氧化/ 变形小的特点越来越引起人们的重视,气体管路系统(真空管路)的作用是把真空腔中的气体抽到10-9mbar的工艺要求标准.  HVA真空阀广泛用于高真空或超高真空的气体输送环节, 用来改变气流方向, 调节气流量大小, 切断或接通管路, 起到真空隔离密封等作用. 美国 HVA 4寸, 6寸 真空真空阀门已广泛应用于真空退火炉的抽气管路中.上海伯东是美国 HVA 真空阀门在中国地区指定总代理商. 上海伯东美国 HVA 真空阀门优势1.满足高真空（1E10-9  mabr）和超高真空（1E10-10 mbar）应用2.HVA 真空阀门口径 DN 16 至 800 mm3.坚固耐用, 超长使用寿命, 可达 1,000,000 启动次数4.清洁和高密封性保证 HVA 进口阀门与前级泵, 涡轮分子泵等完美联用5.双向密封,zui小漏率 6.可选择驱动方式多,手, 气,电动可选7.有效保护分子泵. 气动和电动真空阀门均带信号反馈装置, 与分子泵和腔体连用时可以起到截断一些特殊气体, 保护分子泵的作用8.标准或定制法兰满足不同应用9.国际标准, 整机美国设计, 制造, 组装, 原装进口10.美国 HVA 超过 40年的阀门研发生产经验,与友厂对比,HVA 闸阀阀体和部件均是在真空炉中一体钎焊完成, 消除了虚漏的可能.  若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式： 上海伯东是德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商 .我们真诚期待与您的合作! 上海伯东: 罗先生                                台湾伯东: 王女士 T: +86-21-5046-1322                       T: +886-3-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490                         F: +886-3-567-0049 M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958 ec@hakuto-vacuum.cn                        ec@hakuto.com.tw www.hakuto-china.cn                         www.hakuto-vacuum.com.tw上海伯东版权所有, 翻拷必究!

上海伯东ATS-535高低温测试机在通信芯片方面的应用在最近两年里, 三网融合的大趋势有力地推动了芯片业的发展, 通信芯片在移动通信、无线Internet和无线数据传输业的发展, 开始超过了PC机芯片的发展. IDC的专家预测, 通信IC芯片, 尤其是支持第三代移动通信系统的IC芯片, 将成为21世纪初全球半导体芯片业最大的应用市场. 本文主要介绍上海伯东inTEST ATS-535高低温测试机在集成加热压力机的应用.   ATS-535高低温测试机在通信芯片方面应用的原因:为了使通信终端设备做得越来越小, 在数字蜂窝电话中, 芯核RISC处理器构成一个高集成度子系统的一部分. 基带部分, 即RF 部分在通常的情况下集成一个RISC微控制器、一个低成本DSP、键盘、存储器、屏控制器和连接逻辑. 在此情况下, 一定需要在短时间内进行不同温度点的性能测试, 同时客户办公地点受限, 无法安排空压机, 因此需要ATS-535高低温测试机.  通信芯片高低温测试方法: 1.将芯片放置于已做好的工装中; 2.将sensor一端连接热流罩上对应接口, 一端与芯片表面接触; 3.将高低温测试机 ATS-535热流罩转到工装平台并下压固定; 4.启动高低温测试机 ATS-535加热至需要测试的温度点; 5.启动芯片测试设备对芯片在-40度及80度下进行性能测试并记录数据;  ATS-535高低温测试机在通信芯片方面的客户案例: 成都某微电子, 通过伯东购买ATS-535高低温测试机inTEST ATS-535 高低温测试机 产品优势: 1.高低温测试范围: -60°C 至 +225°C 2.内含空压机 3.自动升降温, 不需要液态氮气(N2)或液态二氧化碳(CO2)冷却. 4.旋钮式控制面板 5.排气量: 5 scfm ( 2.4 l/s) 6.变温速率: -40 至 +125°C 秒                +125 至 -40°C 秒 7.温度显示分辨率: ±1℃ 8.温度显示精度: ±1℃(通过美国国家标准与技术研究院 NIST 校准) 9.过热温度保护: 出厂设置温度 +225°C, 操作员可根据实际需要设置高低温限制点. 10.加热模式下,冷冻机可切换成待机模式, 以减少电力消耗 11.  2种检测模式 Air Mode 和 DUT Mode(温度传感器: T型或K型热电偶) 12.远程接口: IEEE.488, RS232 13.LabViewTM 驱动 14.支持测试数据存储 15.热流罩提供局限性的温度测试环境, 防止水气在DUT上凝结 16.CE相容 不含CFC: inTEST-Temptronic ATS-525 高低温测试机选用的制冷剂不含氟利昂、安全无毒、不易燃, 有效保护环境inTEST ATS-535 高低温测试机 技术参数: 尺寸 cm 194.7 X 61.7 X 108.6重量 kg 249.5噪音  美国 inTEST Thermal Solutions 超过 50 年的热测系统研发专家, 热销产品 Temptronic ThermoStream 超高速高低温循环测试机, ThermoSpot 台式高低温测试机, Thermochuck 以及 Chillers 制冷机. inTEST 已收购 Thermonics 和 Temptronic.inTEST 高低温测试机广泛应用于安捷伦 Agilent, 台积电 TSMC, IBM 等半导体, PCB 电路板, 光通讯和电子行业.伯东公司为美国  inTEST Thermal Solutions  台湾总代理. 上海伯东是德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

高低温冲击测试机 ATS-545用于芯片可靠性测试 上海伯东 inTEST高低温冲击测试机ATS-545在芯片可靠性测试上的应用功能测试, 是测试芯片的参数、指针、功能, 用人话说就是看你十月怀胎生下来的宝贝是骡子是马拉出来遛遛. 性能测试, 由于芯片在生产制造过程中, 有无数可能的引入缺陷的步骤, 即使是同一批晶圆和封装成品, 芯片也各有好坏, 所以需要进行筛选, 本文主要介绍上海伯东inTEST ATS-545在芯片可靠性测试上的应用.  上海伯东 inTEST高低温冲击测试机ATS-545在芯片可靠性测试上的应用的原因:类似于鸡蛋里挑石头, 把“石头”芯片丢掉. 可靠性测试, 芯片通过了功能与性能测试, 得到了好的芯片, 但是芯片会不会被冬天里最讨厌的静电弄坏, 在雷雨天、三伏天、风雪天能否正常工作, 以及芯片能用一个月、一年还是十年等等, 这些都要通过可靠性测试进行评估. 因此需要在不同温度环境下对模拟芯片进行性能测试, 以确保能在综合复杂的环境中正常使用, 客户最终选择了ATS-545高低温冲击机进行测试.  芯片可靠性测试方法: 具体做法如下. 1.将芯片放置于已做好的工装中； 2.将sensor一端连接热流罩上对应接口, 一端与芯片表面接触；3.将高低温冲击测试机ATS-545热流罩转到工装平台并下压固定； 4.启动高低温冲击测试机ATS-545高低温冲击机加热至需要测试的温度点； 5.启动芯片测试设备对芯片在-45度及84度下进行性能测试并记录数据；高低温冲击测试机ATS-545高低温冲击机在芯片可靠性测试的客户案例: 成都某微电子, 通过伯东购买高低温冲击测试机ATS-545高低温冲击机伯东 inTEST 高低温冲击测试机ATS-545产品优势: 1.温度范围 -75°C 至 +225°C2.专利 ESD 防静电保护设计3.不需要液态氮气 LN2 或液态二氧化碳 LCO2 冷却. 4.inTEST 超高速高低温测试机适用于电子元件, 集成电路 IC, PCB 电路板的高低温测试. inTEST ThermoStream 高低温冲击测试机ATS-545 技术参数: 型号温度范围 °C* 变温速率输出气流量温度   精度温度显示   分辨率温度   传感器ATS-545-75 至 +   225(50 HZ)   -80 至 +   225(60 HZ)   不需要LN2或LCO2冷却-55至   +125°C   约 10 S 或更少   +125至   -55°C   约 10 S 或更少4 至 18   scfm   1.9至   8.5 l/s±1℃   通过美国NIST 校准±0.1℃T或K型   热电偶* 一般测试环境下; 变温速率可调节 美国 inTEST Thermal Solutions 超过 50 年的热测系统研发专家, 热销产品 Temptronic ThermoStream 超高速高低温循环测试机, ThermoSpot 台式高低温测试机, Thermochuck 以及 Chillers 制冷机. inTEST 已收购 Thermonics 和 Temptronic.inTEST 高低温测试机广泛应用于安捷伦 Agilent, 台积电 TSMC, IBM 等半导体, PCB 电路板, 光通讯和电子行业.伯东公司为美国  inTEST Thermal Solutions  台湾总代理. 上海伯东是德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商. 我们真诚期待与您的合作！ 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式: 上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王小姐 T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049 M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958 ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw上海伯东版权所有, 翻拷必究！ 

上海伯东高低温测试机ATS-545在超低功率模拟芯片上的应用基于22nm、40nm、55nm成功开发了NB-IoT/IoT模拟IP平台, 包含了全套nA级的超低功耗模拟IP, 包括50nA的超低功耗LDO, 80nA Bandgap, 零静态功耗POR, 25uA的超低功耗DCDC, 0.8uW SAR-ADC, 0.5uW PLL及支持低功耗模式的多功能IO库. 在55nm、110nm、130nm、180nm等CMOS和Embedded-flash工艺制程上, 成功开发了MCU模拟IP平台, 本文主要介绍上海伯东inTEST ATS-545在超低功率模拟芯片上的应用.上海伯东高低温测试机ATS-545在超低功率模拟芯片上的应用的原因:目前的低功耗设计主要从芯片设计和系统设计两个方面考虑. 随着半导体工艺的飞速发展和芯片工作频率的提高, 芯片的功耗迅速增加, 而功耗增加又将导致芯片发热量的增大和可靠性的下降. 因此, 功耗已经成为深亚微米集成电路设计中的一个重要考虑因素. 为了使产品更具竞争力, 需要在不同温度环境下对模拟芯片进行性能测试, 以确保能在综合复杂的环境中正常使用, 客户最终选择了ATS-545高低温冲击机进行测试.超低功率模拟芯片测试方法：具体做法如下. 1.将芯片放置于已做好的工装中；2.将sensor一端连接热流罩上对应接口, 一端与芯片表面接触；3.将ATS-545热流罩转到工装平台并下压固定；4.启动ATS-545高低温冲击机加热至需要测试的温度点；5.启动芯片测试设备对芯片在-55度及125度下进行性能测试并记录数据；ATS-545高低温冲击机在通信芯片方面的客户案例：成都锐成芯微电子, 通过伯东购买ATS-545高低温冲击机inTEST ThermoStream高低温测试机 ATS-545 功能特点：与友厂对比, inTEST ThermoStream 独有的专利自动复叠式制冷系统 (auto cascade refrigeration) 保证低温, 内置 AC 交流压缩机, 冷冻机 Chiller 特殊设计, 制冷剂不含氟利昂, 安全无毒, 不易燃, 有1.效保护环境; 专利 ESD 防静电保护设计2.旋钮式控制面板, 支持测试数据存储3.过热温度保护: 出厂设置温度 +230°C4.加热模式下, 冷冻机可切换成待机模式, 以减少电力消耗5.干燥气流持续吹扫测试表面, 防止水气凝结inTEST 高低温测试方法：提供两种检测模式 Air Mode 和 DUT Mode通过热流罩或测试腔将被测 IC 与周边环境隔离, 然后对 IC 循环喷射冷热气流, 使IC 温度短时间发生急剧变化, 从而完成温度循环和温度冲击的测试.上海伯东是德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.我们真诚期待与您的合作！若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王小姐T: +86-21-5046-1322                     T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.twwww.hakuto-vacuum.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw上海伯东版权所有, 翻拷必究！

 光模块是一种比较灵敏的光学器件,  温度过高或者过低都会影响光模块的功能,  工作温度过高,  会引起发射光功率过大、接收信号错误、丢包等问题,  甚至直接烧坏光模块,  温度过低则会导致光纤模块的性能不稳定。光模块的温度有商业级温度、延展温度、工业级温度这三个等级:一.商业级光模块的温度：0~+70℃二.延展光模块的温度：-20~85℃三.工业级光模块的温度：-40~85℃ 一般来说,  光模块在出厂前会经过严格的高低温试验,  以确保光模块的品质合格。传统验证方法由于温度变化慢, 稳定速度差和无法提供快速变化的温度环境, 很难满足现今的测试需要, 上海伯东美国 inTEST ThermoStream 高低温测试机解决了传统验证方法的缺陷问题, 提供快速高低温冲击能力, 作为一种必要的测试手段辅助生产通讯模块.美国 inTEST高低温测试机 ATS-710 通讯模块高低温测试客户案例:深圳某客户在进行通讯模块生产质检中, 要求生产模块流水线产品均需进行 -30℃ 到 130 °C 范围内温度测试. 设定不同的温度数值, 模拟相关产品传输工况, 同时检查不同温度下所涉及到的元器件自动频率调整的功能是否正常. 上海伯东推荐高低温测试机 ATS-710 测试温度范围 -75 至 +225°C, 输出气流量 4 至 18 scfm, 温度精度 ±1℃, 快速进行在电工作的电性能测试, 失效分析, 可靠性评估等.高低温测试机 inTEST ATS-710 测试过程:1. 客户自行设置流水线产品放置治具, 将 ATS-710 的玻璃罩扣在仿形治具上 ( 产品放在治具内 ）.2. 操作员设置需要测试的温度范围3. 启动 ThermoStream ATS-710, 利用空压机将干燥洁净的空气通入高低温测试机内部制冷机进行低温处理, 然后空气经由管路到达加热头进行升温,气流通过玻璃罩进入测试腔. 玻璃罩中的温度传感器可实时监测当前腔体内温度, 高低温测试机 ATS-710 自带过热温度保护系统, 操作员也可根据实际需要设置高低温限制点.4. 通过持续运行高低温测试, 将通讯模块在不同设定温度下的运行频率, 产品工作状况等相关参数自动导出并存储用于后期产检分析以及产品工艺优化. 同时对批次的定向品质追溯也有较为确实的数据依据inTEST ThermoStream 高低温测试机ATS-710 技术参数型号温度范围 °C输出气流量变温速率温度精度温度显示分辨率温度传感器远程控制ATS-710-75至+225 50Hz-80至+225 60Hz4 至18 scfm1.8至 8.5l/s-55至 +125°C 约 10 s+125至 -55°C 约 10 s±1℃±0.1℃T型或K型热电偶IEEE 488RS232inTEST ThermoStream 高低温测试机ATS-710 功能特点:1.自动升降温: 冷冻机 Chiller 特殊设计, 制冷剂不含氟利昂, 安全无毒, 不易燃, 有效保护环境; 不需要液态氮气 LN2 或液态二氧化碳 LCO2 冷却2.预防结霜: 干燥气流循环吹扫测试表面, 防止水汽凝结 (气体流量0.5至3scfm)3.自动待机: 空闲或加热模式下, inTEST 高低温测试机自动减少能耗4.加热除霜: 快速去除冷冻机内部积聚的水汽5.触摸屏幕控制面板: Windows® 系统6.温度显示精度: ±1℃(通过美国国家标准与技术研究院NIST校准)7.过热温度保护: 出厂设置温度 +230°C, 操作员可根据实际需要设置高低温限制点。8.支持 Ethernet, IEEE-488, RS232, 支持测试数据存储9.配置 USB, 键盘, 鼠标, 打印机端口10.热流罩提供局限性的温度测试环境, 特别适合温度冲击测试; 专利设计防止水气在DUT上凝结 上海伯东是德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商. 

上海伯东代理美国 inTEST 高低温循环测试机 ATS-710 应用于?PCB 板、电子芯片高低温测试。半导体芯片的应用场景多种多样，在进入市场前，必须进行不同温度下的电性能测试，以模拟芯片在不同工作条件下的温度应力，上海伯东代理的 ThermoStream高低温测试系统，是一种精确、快速、可靠的温度控制系统，具有温度的精度和稳定度高，温度测试范围宽，温变速率快等优点，采用非接触式高低温测试，可以满足测试时不引入干扰信号、附加电阻及阻抗失配等各项要求，非常方便实用。ATS-710-M，采用触控屏操作，可方便地对温度进行编程控制，温度冲击范围: -80℃至 +225℃, 防静电设计, 具备自动除霜功能。可以精准快速的实现 PCB 板和电子芯片等电子元件的高低温循环测试 Thermal cycle、冷热冲击试验 Thermal stock 、老化试验、可靠性试验等。伯东高低温测试机ATS-710用于PCB板通电测试案例:测试时，可将玻璃测试罩（即变温头）直接罩在集成电路板上，或者使用附赠的硅胶小罩子放置在某个独立的器件上单独进行测试。inTEST ThermoStream ATS-710 技术参数型号温度范围   °C输出气流量变温速率温度   精度温度显示   分辨率温度   传感器远程   控制ATS-710-75至+225 50Hz   -80至+225   60Hz4 至18 scfm   1.8至   8.5l/s-55至 +125°C 约 10 s   +125至   -55°C 约   10 s±1℃±0.1℃T型或   K型   热电偶IEEE 488   RS232 inTEST ThermoStream ATS-710 功能特点:1.自动升降温: 冷冻机 Chiller 特殊设计, 制冷剂不含氟利昂, 安全无毒, 不易燃, 有效保护环境; 不需要液态氮气 LN2 或液态二氧化碳 LCO2 冷却 2.预防结霜: 干燥气流循环吹扫测试表面, 防止水汽凝结 (气体流量0.5至3scfm) 3.自动待机: 空闲或加热模式下, inTEST 高低温测试机自动减少能耗 4.加热除霜: 快速去除冷冻机内部积聚的水汽 5.触摸屏幕控制面板: Windows® 系统 6.温度显示精度: ±1℃(通过美国国家标准与技术研究院NIST校准) 7.过热温度保护: 出厂设置温度 +230°C, 操作员可根据实际需要设置高低温限制点。 8.支持 Ethernet, IEEE-488, RS232, 支持测试数据存储 9.配置 USB, 键盘, 鼠标, 打印机端口 10.热流罩提供局限性的温度测试环境, 特别适合温度冲击测试; 专利设计防止水气在DUT上凝结 上海伯东是德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

采用真空镀膜的方式在几种基底上沉积薄膜, 这种薄膜的性能取决于基底的清洁度. 基底表面的污染物会影响薄膜和基底的附着力, 更会加快沉积后薄膜性能的退化, 比如导电膜电阻变大, 光学膜的光学性能变差. ?? 即使通过小心的处理, 基底在镀膜前也会因为暴露在大气下而被吸附水汽和碳氢化合物污染. 这种暴露也会在基底表面产生氧化层. 要去除这种污染, 必须将基底置于真空环境下进行清洗, 而且在镀膜前不能再接触到大气. 为了除去基底表面的污染物, 镀膜的厂商一般采用离子源进行清洗, 离子束在清洗方面的选择性要高得多, 因为高能离子可以定向到基底上, 这样只会出去基底和周围附近的污染物. 能够独立于环境因素调节离子能量也很重要, 可以去除实验环境中基质表面的水蒸气和碳氢化合物等物理吸附污染物. 低能量离子非常有效, 能量小于100eV可以避免损伤衬底或明显的溅射. 物理吸附污染物的去除量很小, 小于1ma-s / cm2. 另一方面, 更高的离子能量可以用来去除化学修饰层, 如氧化物. 较强的化学修饰层通常需要至少100 EV的离子能量, 所需的离子能量根据污染物的溅射速率和厚度来计算. 较低的工作压力更有利于离子清洗. 工作压力取决于所使用的真空泵, 通常在10-4 Torr范围内, 导致分子的平均自由层路径比辉光放电长数千倍. 这样, 一旦污染物从表面被清除, 就可以用真空泵来清除. 减少了返回表面的可能性, 较低的工作压力也可以在清洗后开始形成膜, 从而最大限度地减少了沉积前可能积累的新污染. 讨论了电镀前清洗的效果. 根据沉积过程和材料的不同, 离子辅助沉积可以进一步改善膜的性能.  伯东某镀膜厂商客户选用KRI EH1000型霍尔离子源组装磁控溅射设备对镀膜沉积前预清洗. KRI 霍尔离子源 eH 1000 特性:• 可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时, 最大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极• 宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率• 多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便; 无需水冷• 高效的等离子转换和稳定的功率控制KRI 霍尔离子源 eH 1000 技术参数:型号eH1000 / eH1000L / eH1000x02/ eH1000LEHO供电DC magnetic confinement  - 电压40-300V VDC  - 离子源直径~ 5 cm  - 阳极结构模块化电源控制eHx-30010A配置-  - 阴极中和器Filament, Sidewinder Filament or Hollow   Cathode  - 离子束发散角度> 45° (hwhm)  - 阳极标准或 Grooved  - 水冷前板水冷  - 底座移动或快接法兰  - 高度4.0'  - 直径5.7'  - 加工材料金属  电介质  半导体  - 工艺气体Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors  - 安装距离10-36”  - 自动控制控制4种气体* 可选: 可调角度的支架; Sidewinder 上海伯东是美国 考夫曼离子源在中国的总代理商.上海伯东是德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商

附着力实质是界面间的作用力,是有机涂层与基体间通过物理和化学作用结合在一起的牢固程度,它主要包括两方面内容:有机涂层与金属基体间相互结合的能力及有机涂层分子间交联的程度. 涂层与基体间的结合力越大越好,涂层中有机溶剂挥发的越彻底,分子间的交联就越稳定,形成的涂层漆膜就越致密牢固,腐蚀介质就不容易侵蚀基体底部. 如果金属及金属镀 层表面附着力较弱, 则复合上去的复合层比较容易剥落而分层, 这就容易导致质量问题, 从而引起客户的投诉, 最终影响公司的形象。 为了提高、保证金属涂层的质量, 伯东客户经过我司推荐采用KRI 考夫曼离子源 EH 3000 安装于生产设备中, 大大提高了金属涂层附着力和提高生产率.  霍尔离子源是阳极在一个强轴向磁场的协作下将工艺气体等离子化. 这个轴向磁场的强不平衡性将气体离子分离并形成离子束.  由于轴向磁场的作用太强, 霍尔离子源离子束需要补充电子以中和离子流. 常见的中和源就是钨丝（阴极）. KRI 霍尔离子源 eH 3000 特性： • 水冷 - 加速冷却 • 可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时,最大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极 • 宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率 • 多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便 • 高效的等离子转换和稳定的功率控制 伯东 KRI霍尔型离子源eH 3000用于提高金属涂层附着力案例: 国内某知名金属涂层制造商 1. 离子源应用: 金属涂层 2. 离子源: 采用美国KRI 考夫曼离子源 KRi EH 3000. 离子源 EH 3000所产生超广角的离子束涵盖面积及高均匀度的离子浓度分布可以涵盖蒸镀机中大范围的载具 (substrate holder), 无论是生产良率或是均匀性都可达到最高生产效能. 4. 离子源功能: 通过 KRI EH 3000 霍尔源实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean 功能后, 所生产出的灯具无论是环境脱膜测试, 耐刮测试, 膜层应力测试等等… 都优于目前一般业界蒸镀机所搭配的离子源.        EH 3000 离子源本体               EH 3000 离子源控制器 上海伯东是美国KRI 考夫曼离子源 Kaufman & Robinson, Inc  中国总代理. 美国KRI 考夫曼公司离子源已广泛应用于离子溅射镀膜 IBSD. KRI 考夫曼离子源可控制离子的强度及浓度, 使溅射时靶材被轰击出具有中和性材料分子而获得高致密, 高质量之薄膜. KRI 考夫曼离子源可依客户溅射工艺条件选择 RFICP 射频电源式KRI 考夫曼离子源或是 KDC 直流电原式KRI 考夫曼离子源. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王小姐 T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049 M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958 ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw www.hakuto-vacuum.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw上海伯东版权所有, 翻拷必究！

离子源类型虽多, 目的却无非在线清洗, 改善被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量.  离子源可以大大改善膜与基体的结合强度, 同时膜本身的硬度与耐磨耐蚀特性也会改善.  若是镀工具耐磨层, 一般厚度较大而对膜厚均匀性要求不高, 可采用离子电流较大能级也较高的离子源, 如霍尔离子源或阳极层离子源. 为了保证镀灯具铝膜的质量, 提高生产率. 经过我司推荐采用大尺寸KRI 考夫曼离子源 EH 5500 安装于生产设备 2050 mm 蒸镀机中, 实现 LED-DBR 离子辅助镀膜, 大大提高了镀膜质量和提高生产率. 霍尔离子源是阳极在一个强轴向磁场的协作下将工艺气体等离子化.  这个轴向磁场的强不平衡性将气体离子分离并形成离子束.  由于轴向磁场的作用太强, 霍尔离子源离子束需要补充电子以中和离子流.  常见的中和源就是钨丝（阴极）. 霍尔离子源的特点是：1简单耐用. 2离子电流与气体流量几乎成比例, 可获得较大离子电流. 3钨丝一般横跨在出口, 收离子束冲击很快会销蚀, 尤其对反应气体, 一般十几个小时就需更换. 并且钨丝还会有一定的污染.  为解决钨丝的缺点.  有采用较长寿中和器的, 如一个小的空心阴极源. KRI 考夫曼离子源客户案例: 国内某知名灯具制造商1. 离子源应用: 镀灯具铝膜.2. 系统功能: 2050 mm 尺寸电子枪蒸镀镀膜机.3. 离子源: 采用美国KRI 考夫曼离子源 KRi EH 5500. 离子源 EH 5500 提供的离子束 (不论是离子能量还是离子密度) 均是目前业界最高等级, 离子源 EH 5500 大尺寸的离子枪本体设计所产生超广角的离子束涵盖面积及高均匀度的离子浓度分布可以涵盖 2050 mm 尺寸的蒸镀机中大范围的载具 (substrate holder), 无论是生产良率或是均匀性都可达到最高生产效能.4. 离子源功能: 通过 KRI EH 5500 霍尔源实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean 功能后, 所生产出的灯具无论是环境脱膜测试, 耐刮测试, 膜层应力测试等等… 都优于目前一般业界蒸镀机所搭配的离子源.                   EH 5500 离子源本体                    EH 5500 离子源控制器上海伯东是美国KRI 考夫曼离子源 Kaufman & Robinson, Inc  中国总代理. 美国KRI 考夫曼公司离子源已广泛应用于离子溅射镀膜 IBSD. KRI 考夫曼离子源可控制离子的强度及浓度, 使溅射时靶材被轰击出具有中和性材料分子而获得高致密, 高质量之薄膜. KRI 考夫曼离子源可依客户溅射工艺条件选择 RFICP 射频电源式KRI 考夫曼离子源或是 KDC 直流电原式KRI 考夫曼离子源.

3D玻璃轻薄、透明洁净、抗指纹、防眩光、坚硬、耐刮伤、耐候性佳…等优点, 可型塑做出 3D 多形状外观具有产品特殊设计新颖性与质感佳, 又可增加弧形边缘触控功能带来出色的触控手感、无线充电机能, 并能解决天线布置空间不足及增强收讯功能, 使产品更美观出色, 产品设计差异化使消费者更能青睐. 3D玻璃的特色符合 3C 产品设计需求. 3C 产品设计如智能3D、智能手表、平板计算机、可穿戴式智能产品、仪表板等陆续出现 3D 产品, 已经明确引导3D 曲面玻璃发展方向. 3D 玻璃镀膜, 不仅可以使玻璃盖板、背板更漂亮, 还能起到抗氧化、耐酸碱、抗紫外线的作用. 所以说, 3D玻璃镀膜在如今“看脸”的时代是十分必要的！然而玻璃镀膜也绝非一种, 不同的镀膜起到不同的作用. 为了保证玻璃镀膜的质量, 提高生产率. 经过我司推荐采用大尺寸KRI 考夫曼离子源 EH 5500 安装于生产设备 2050 mm 蒸镀机中, 实现 LED-DBR 离子辅助镀膜, 大大提高了镀膜质量和提高生产率. KRI 考夫曼离子源客户案例: 国内某知名3D玻璃镀膜制造商1. 离子源应用: 3D玻璃镀膜.2. 系统功能: 2050 mm 尺寸电子枪蒸镀镀膜机.3. 离子源: 采用美国KRI 考夫曼离子源 KRi EH 5500. 离子源 EH 5500 提供的离子束 (不论是离子能量还是离子密度) 均是目前业界最高等级, 离子源 EH 5500 大尺寸的离子枪本体设计所产生超广角的离子束涵盖面积及高均匀度的离子浓度分布可以涵盖 2050 mm 尺寸的蒸镀机中大范围的载具 (substrate holder), 无论是生产良率或是均匀性都可达到最高生产效能.4. 离子源功能: 通过 KRI EH 5500 霍尔源实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean 功能后, 所生产出的3D 玻璃镀膜无论是环境脱膜测试, 耐刮测试, 膜层应力测试等等… 都优于目前一般业界蒸镀机所搭配的离子源.上海伯东美国 KRI 霍尔离子源 EH 5500 优点:1.离子浓度, 高离子能量, 离子束涵盖面积广2.气体分子离子转化率高, 离子束工作稳定3.镀膜均匀性佳, 提高镀膜品质4.模块化设计, 保养快速方便5.增加薄膜附着性, 增加光学膜后折射率6.全自动控制设计, 操作简易7.低耗材成本, 安装简易                   EH 5500 离子源本体                    EH 5500 离子源控制器上海伯东是美国KRI 考夫曼离子源 Kaufman & Robinson, Inc  中国总代理. 美国KRI 考夫曼公司离子源已广泛应用于离子溅射镀膜 IBSD. KRI 考夫曼离子源可控制离子的强度及浓度, 使溅射时靶材被轰击出具有中和性材料分子而获得高致密, 高质量之薄膜. KRI 考夫曼离子源可依客户溅射工艺条件选择 RFICP 射频电源式KRI 考夫曼离子源或是 KDC 直流电原式KRI 考夫曼离子源.

玻璃、镜片、装饰灯罩等广泛应用在日常生活, 而在生产的过程中, 为了保护玻璃制品和生产特种玻璃制品, 通常会在其表面上镀膜. 光学镀膜是最常用的镀膜工艺. 光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程. 在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求. 光学镀膜 optics coating, 在现代生产被广泛应用, 例如玻璃镀膜, 镜片镀膜, 显微镜镜片镀膜, 装饰灯罩镀膜都是必不可少的生产工艺. 蒸发镀膜作为一种常见的制程, 比较容易出现膜层不均匀, 或是产品膜层脱落的现象, 使用美国 KRI考夫曼离子源可以有效解决此类问题, 因此美国 KRI 考夫曼霍尔型离子源广泛加装在各类蒸发镀膜机中 离子源辅助镀膜客户案例一: 厦门某光学镀膜企业, 该企业使用日本 Shincron 真空镀膜机, 镀膜腔体约 2 m3  , 镀膜机加装霍尔离子源 EH 4200 起到预清洁 PC及辅助镀膜 IBAD 的作用. 离子源辅助镀膜具体操作, 霍尔离子源预清洁 PC +辅助镀膜 IBAD: 由于膜层表面很光滑,在镀膜时会产生膜层脱落现象, 预清洁就是将膜层表面用大的离子如 Ar 打击表面, 使得制程物能有效的吸附在表面上. 加装KRI霍尔离子源起到预清洁作用, 在预清洁后开启离子源辅助镀膜 IBAD, 膜层厚度均匀性及附着牢固度都明显提高. 工作示意图如下, KRI离子源覆盖面 使用专业测膜记号笔, 可以明显看出加装 KRI 离子源前后有很大的不同 美国 KRI 霍尔离子源 eH 系列紧凑设计, 高电流低能量宽束型离子源, 提供原子等级的细微加工能力, 霍尔离子源 eH 可以有效地以纳米精度来处理薄膜及表面, 多种型号满足科研及工业, 半导体应用. 霍尔离子源高电流提高镀膜沉积速率, 低能量减少离子轰击损伤表面, 宽束设计有效提高吞吐量和覆盖沉积区. 整体易操作, 易维护. 霍尔离子源 eH 提供一套完整的方案包含离子源, 电子中和器, 电源供应器, 流量控制器 MFC 等等可以直接整合在各类真空设备中, 例如镀膜机, load lock, 溅射系统, 卷绕镀膜机等. 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源 Gridded 和霍尔离子源 Gridless. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射沉积 IBSD 领域.  上海伯东是美国考夫曼离子源 (离子枪) 中国总代理.

镀膜是当光线进入不同传递物质时(如由空气进入玻璃)，大约有5％会被反射掉，在光学瞄准镜中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失达30％至40％。现代光学透镜通常都镀有单层或多层氟化镁的增透膜，单层增透膜可使反射减少至1.5％，多层增透膜则可让反射降低至0.25％，所以整个瞄准镜如果加以适当镀膜，光线透穿率可达95％。镀了单层增透膜的镜片通常是蓝紫色或是红色，镀多层增透膜的镜片则呈淡绿色或暗紫色。但是，目前市面上在对手机壳镀膜处理前对手机壳进行预处理的方式并不完善，导致手机壳在镀膜后容易出现镀膜不均匀的情况，镀膜较薄处容易在手机壳的使用途中产生划痕，而且碰撞时，镀膜较薄处更容易变形。因此，湖南某知名手机镀膜制造商希望通过采用离子源辅助镀膜机来改善手机壳镀膜的质量，提高生产率。经过我司推荐采用大尺寸KRI 考夫曼离子源 EH 5500 安装于生产设备 2050 mm 蒸镀机中, 实现 LED-DBR 离子辅助镀膜，大大提高了镀膜质量和提高生产率。 KRI 考夫曼离子源客户案例: 国内某知名手机镀膜制造商 1. 离子源应用: 手机壳颜色镀膜. 2. 系统功能: 2050 mm 尺寸电子枪蒸镀镀膜机. 3. 离子源: 采用美国KRI 考夫曼离子源 KRi EH 5500. 离子源 EH 5500 提供的离子束 (不论是离子能量还是离子密度) 均是目前业界最高等级, 离子源 EH 5500 大尺寸的离子枪本体设计所产生超广角的离子束涵盖面积及高均匀度的离子浓度分布可以涵盖 2050 mm 尺寸的蒸镀机中大范围的载具 (substrate holder), 无论是生产良率或是均匀性都可达到最高生产效能. 4. 离子源功能: 通过 KRI EH 5500 霍尔源实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean 功能后, 所生产出的手机壳颜色镀膜及 3D 玻璃镀膜无论是环境脱膜测试, 耐刮测试, 膜层应力测试等等… 都优于目前一般业界蒸镀机所搭配的离子源. 上海伯东美国 KRI 霍尔离子源 EH 5500 优点: 1.离子浓度, 高离子能量, 离子束涵盖面积广 2.气体分子离子转化率高, 离子束工作稳定 3.镀膜均匀性佳, 提高镀膜品质 4.模块化设计, 保养快速方便 5.增加薄膜附着性, 增加光学膜后折射率 6.全自动控制设计, 操作简易 7.低耗材成本, 安装简易                    EH 5500 离子源本体                     EH 5500 离子源控制器 上海伯东是美国KRI 考夫曼离子源 Kaufman & Robinson, Inc  中国总代理. 美国KRI 考夫曼公司离子源已广泛应用于离子溅射镀膜 IBSD. KRI 考夫曼离子源可控制离子的强度及浓度, 使溅射时靶材被轰击出具有中和性材料分子而获得高致密, 高质量之薄膜. KRI 考夫曼离子源可依客户溅射工艺条件选择 RFICP 射频电源式KRI 考夫曼离子源或是 KDC 直流电原式KRI 考夫曼离子源.

上海伯东美国 KRI 考夫曼离子源成功应用于 LED-DBR 离子辅助镀膜市场. 国内某知名 LED 制造商经过我司推荐采用考夫曼离子源 RFICP 325 安装在 DBR 生产设备 1650 mm 蒸镀机中. 考夫曼离子源客户案例: 国内某知名 LED 制造商 1. 离子源应用: LED-DBR 镀膜生产 2. 系统功能: 1650 mm 尺寸电子枪蒸镀镀膜机. 3. 离子源: 采用美国考夫曼离子源 KRi RFICP 325. 离子源 RFICP 325 提供的离子束(不论是离子能量还是离子密度)均是目前业界最高等级, 离子源 RFICP 325 特殊的栅极设计 E22 Grided 可以涵盖 1650 mm 尺寸的蒸镀机中大范围的载具 substrate holder, 无论是生产良率或是均匀性都可达到最高生产效能. 4. 离子源功能: 通过考夫曼离子源 RFICP 325 实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean 功能后, 所生产出的 LED-DBR 无论是亮度测试, 脱膜测试, 顶针测试, 光学特性等等… 都优于目前一般业界蒸镀机所搭配的离子源. 上海伯东考夫曼离子源安装案例: KRI RFICP 325 考夫曼离子源安装于 1650 mm 尺寸电子枪蒸镀镀膜机.  KRI 考夫曼离子源测试案例: LED-DBR 脱膜测试. 1. 在高倍显微镜下检视脱膜测试 2. 测试结果 --------- 使用其他品牌离子源---     --------------------- 使用美国考夫曼 KRI RFICP 325 离子源 ----------------------从上图可以清楚看出, 使用其他品牌离子源, 样品存在崩边的问题; 使用上海伯东美国考夫曼离子源, 样品无崩边  上海伯东美国考夫曼离子源 KRI  RFICP 325 优点: 高离子浓度, 高离子能量, 离子束涵盖面积广 镀膜均匀性佳, 提高镀膜品质 模块化设计, 保养快速方便 增加薄膜附着性, 增加光学膜后折射率 全自动控制设计, 操作简易 低耗材成本, 安装简易 上海伯东是美国考夫曼离子源 Kaufman & Robinson, Inc  中国总代理. 美国考夫曼公司离子源已广泛应用于离子溅射镀膜 IBSD. 考夫曼离子源可控制离子的强度及浓度, 使溅射时靶材被轰击出具有中和性材料分子而获得高致密, 高质量之薄膜. 考夫曼离子源可依客户溅射工艺条件选择 RFICP 射频电源式考夫曼离子源或是 KDC 直流电原式考夫曼离子源.

离子刻蚀 IBE原理简单的来说, 离子刻蚀 IBE原理将氩气分解为氩离子, 氩离子经过阳极电场的加速对样品表面进行物理轰击, 以达到刻蚀的作用. 刻蚀过程即把Ar气充入离子源放电室并使其电离形成等离子体, 然后由栅极将离子呈束状引出并加速, 具有一定能量的离子束进入工作室, 射向固体表面轰击固体表面原子, 使材料原子发生溅射, 达到刻蚀目的, 属纯物理刻蚀. 离子源应用于离子刻蚀 IBE 上海伯东代理美国考夫曼 KRI 离子源, 其产品霍尔离子源 EH400 HC 成功应用于离子蚀刻 IBE. 霍尔离子源离子抨击能量强, 蚀刻效率快, 可因应多种基材特性, 霍尔源单次使用长久, 耗材成本极低, 操作简易, 安装简易, 因此美国考夫曼霍尔离子源广泛应用于蚀刻制程及基板前处理制程. 霍尔离子源客户案例一: 某大学天文学系小尺寸刻蚀设备 系统功能: 对于 Fe, Se, Te ,PCCO 及多项材料刻蚀工艺. 样品尺寸: 2英寸硅芯片. 刻蚀设备: 小型刻蚀设备. 选用上海伯东美国考夫曼品牌霍尔离子源 EH400 HC 霍尔离子源 EH400HC 安装于刻蚀腔体内 离子源 EH400HC 自动控制单元 霍尔离子源 EH400HC 通氩气 对于 FeSeTe 刻蚀应用, 霍尔离子源 EH400HC 条件: 110V/1.5A, 刻蚀速率 >20 A/Sec 对于 FeSeTe 刻蚀应用, 霍尔离子源 EH400HC 条件: 110V/1.5A, 刻蚀速率 >17 ?/Sec鉴于信息保密. 更详细的离子源应用欢迎拨打客服热线：021-5046-3511 /  021-5046-1322 霍尔离子源 EH400HC 特性: 高离子浓度, 低离子能量 离子束涵盖面积广 镀膜均匀性佳 提高镀膜品质 模块化设计, 保养快速方便 增加光学膜后折射率 (Optical index)       全自动控制设计, 操作简易 低耗材成本, 安装简易 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源 Gridded 和霍尔离子源 Gridless. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射沉积 IBSD 领域.  上海伯东是美国考夫曼离子源 (离子枪) 中国总代理. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王小姐 T: +86-21-5046-1322                       T: +886-3-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049 M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958 ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw www.hakuto-vacuum.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw上海伯东版权所有, 翻拷必究！

离子束抛光工艺是利用离子溅射原理, 通过在真空状态下离子源引束产生等离子体能量束流, 束流轰击工件表面产生原子级别的材料去除从而实现光学元件的高精度加工.离子束抛光工艺加工精度和表面质量高离子束加工是靠微观力效应,被加工表面层不产生热量, 不引起机械应力和损伤, 离子束抛光加工精度可达mm级. 因此离子束抛光加工已逐渐成为光学零件表面超精加工常用的最后一道工艺, 而离子源是离子束抛光机的核心部件. 离子源是使中性原子或分子电离, 并从中引出离子束流的装置. 它是各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器、离子束抛光机等设备的不可缺少的部件.  在离子束抛光机中, 离子源通过控制离子的强度及浓度, 使抛光刻蚀速率更快更准确, 抛光后的基材上获得更平坦, 均匀性更高的薄膜表面.上海伯东美国 KRI 直流电源式考夫曼离子源 KDC 系列成功应用于光学镀膜离子束抛光机 ( IBF Optical coating ) 及晶体硅片离子束抛光机  ( IBF Clrystalline ) 工艺.考夫曼离子源内置型的设计更符合离子源于离子抛光机内部的移动运行.  伯东KRI 考夫曼离子源用于离子束抛光工艺 KRI 离子源用于离子束抛光实际案例一: 1. 基材: 100 mm 光学镜片 2. 离子源条件: Vb: 800 V ( 离子束电压 ), Ib: 84 mA ( 离子束电流 ) , Va: -160 V ( 离子束加速电压 ), Ar gas ( 氩气 ). KRI 离子源用于离子束抛光实际案例二: 1. 基材: 300 mm 晶体硅片 2. 离子源条件: Vb: 1000 V ( 离子束电压 ), Ib: 69 mA ( 离子束电流 ), Va: -200 V ( 离子束加速电压 ) Ar gas ( 氩气 )KRI 离子源实际安装案例一:  KDC 10 使用于光学镀膜离子束抛光机 KRI 离子源实际安装案例二: KDC 40 使用于晶体硅片离子束抛光机 上海伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 系列根据客户离子抛光工艺条件提供如下型号:型号KDC 10KDC 40KDC 75KDC 100KDC 160电压DC magnetic confinement- 阴极灯丝11222- 阳极电压0-100V DC电子束电子束- 栅极专用,自对准- 栅极直径1 cm4 cm7.5 cm12 cm16 cm 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源 Gridded 和霍尔离子源 Gridless. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射沉积 IBSD 领域. 上海伯东是美国考夫曼离子源 (离子枪) 中国总代理.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王小姐 T: +86-21-5046-1322                         T: +886-3-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490                         F: +886-3-567-0049 M: +86 152-0195-1076                       M: +886-939-653-958 ec@hakuto-vacuum.cn                        ec@hakuto.com.tw www.hakuto-vacuum.cn                      www.hakuto-vacuum.com.tw上海伯东版权所有, 翻拷必究！

在各种真空沉积过程中, 薄膜被沉积在基底上. 这种沉积膜的性能取决于沉积膜基底表面的清洁度. 这种表面的污染会导致薄膜与基底的粘附力降低, 沉积后薄膜的降解速度更快, 导电薄膜的接触电阻更大, 光学薄膜的光学质量较差.即使小心处理, 表面污染形式为吸附水蒸气和各种碳氢化合物是由于在沉积前暴露在实验室大气中造成的. 这种暴露也会导致在反应基底材料上形成天然氧化层. 为了去除这种表面污染, 当系统达到一定真空度, 为了使基片表面得到更致密的膜, 沉积薄膜之前, 对基底进行原位清洗非常有必要.  离子源通过加热灯丝产生离子束, 低浓度高能量宽束型离子源利用栅极控制离子束的浓度和方向, 离子束可选集中, 平行, 散设. 较低的背景压力是离子束清洗的主要优点, 通常在10-4Torr范围内, 分子的平均自由程比较长, 较长的路径极大地增加了污染物从基底表面去除后, 又返回到真空室的可能性. 提高系统的真空度, 保证较低的背景压力会最大限度地减少清洗和沉积步骤之间可能积聚的新污染. 经验法则是, 在10-6torr的污染背景压力下, 污染可以在1秒内累积. 重要的是污染物的背景压力才是最重要的.  KRI 考夫曼离子源 Gridded KDC 系列, 栅极灯丝型离子源, 通过加热灯丝产生电子, 提供低电流高能量离子束. 离子束可选聚焦,平行, 散设三种方式, KDC 系列离子源适用于离子溅镀和蒸发镀膜 PC, 辅助镀膜 ( 光学镀膜 ) IBAD, 表面改性, 激活 SM, 离子溅射沉积和多层结构 IBSD, 离子蚀刻 IBE 等. 网格离子源和无网格离子源都被用来产生用于原位清洗的离子束. 栅网离子源可以更好地控制离子束的覆盖范围, 无栅网（霍尔源）在最常用于清洁的低能离子束方面更具成本效益.  伯东KRI离子源在E-beam设备上的薄膜预清洗 离子源预清洗案例一: 国内某高校使用KRI 考夫曼离子源KDC40用于基片的预清洗来做表面改性, 有助于提高后续PVD镀膜的均匀性和提高薄膜的附着力.  上海伯东是美国 考夫曼离子源在中国的总代理商. 上海伯东是德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商. 我们真诚期待与您的合作！ 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王小姐 T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049 M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958 ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw www.hakuto-vacuum.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw上海伯东版权所有, 翻拷必究！

在通讯模块中, 由于传输速率的不断增加, 在模块工作的时候, 会出现很大程度的工作模块温度飙升, 为了控制模块的正常运行以及温度的控制, 可靠性如何成为重要的关注点,而传统验证方法由于温度变化,稳定速度慢和无法提供快速变化的温度环境,很难满足相应的测试需要,美国 inTEST 高低温测试机解决了传统验证方法缺陷问题,提供快速高低温冲击能力.伯东inTEST高低温测试机 ATS 545用于通讯模块测试在进行通讯模块生产质检中, 客户要求生产模块流水线产品最终均需要进行 -30℃ 到 130 °C 范围内设定不同的温度数值, 模拟相关产品传输工况, 同时检查不同温度下所涉及到的元器件自动频率调整的功能是否正常高低温测试机ATS 545 测试的温度范围 -75℃ 至 +225°C, 输出气流量 4 至 18 scfm, 温度精度 ±1℃,该产品完美解决客户的需求.上海伯东美国 inTEST 高低温测试机 ATS 545 快速进行在电工作的电性能测试,失效分析,可靠性评估等. ATS 545 客户流水线质检和产品品质重要管控参数数据搜集作业流程1.    客户自行设置流水线产品放置治具, 将ATS 545 的玻璃罩扣在仿形治具上（产品放在治具内）。2.    操作员设置需要测试的温度范围3.    启动 ATS 545, 利用空压机将干燥洁净的空气通入制冷机进行低温处理, 然后空气经由外部管路到达加热头进行升温,气流通过热流罩进入测试腔.玻璃罩中的温度传感器可实时监测当前腔体内温度, 高低温测试机 ATS545 自带过热温度保护系统, 操作员也可根据实际需要设置高低温限制点.4.    通过运行, 客户降产品相关在不同设定温度下的运行频率, 产品工作状况等相关参数自动导出并存储用于后期产检分析以及产品工艺优化。同时对批次的定向品质追溯也有较为确实的数据依据。inTEST ThermoStream高低温测试机 ATS-545 功能特点： 与友厂对比, inTEST ThermoStream 独有的专利自动复叠式制冷系统 (auto cascade refrigeration) 保证低温, 内置 AC 交流压缩机, 冷冻机 Chiller 特殊设计, 制冷剂不含氟利昂, 安全无毒, 不易燃, 有1.    效保护环境; 专利 ESD 防静电保护设计2.    旋钮式控制面板, 支持测试数据存储3.    过热温度保护: 出厂设置温度 +230°C4.    加热模式下, 冷冻机可切换成待机模式, 以减少电力消耗5.    干燥气流持续吹扫测试表面, 防止水气凝结 上海伯东是德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.我们真诚期待与您的合作！

在现代集成电路制造工艺中，芯片加工需要经历一系列化学、光学、冶金、热加工等工艺环节。每道工艺都可能引入各种各样的缺陷。与此同时由于特征尺寸的不断缩小，各类加工设施成本也急剧上升。例如有人估计90nm器件的一套掩模成本可能超过130万美元。因此器件缺陷造成的损失代价极为高昂。在这种条件下，通过验证测试，分析失效原因，减少器件缺陷就成为集成电路制造中不可少的环节。?验证测试是实现“从设计到测试无缝连接”的关键。在0.18微米以下的制造工艺下，芯片验证测试变得更加至关重要。芯片验证性研究需要做不同温度及各种状况下的参数记录，特别是在高温的环境中长时间工作的情况；同时实验室中也会搜集一些芯片的高低温循环冲击运行的数据做留存资料。所以用测试机搭配inTEST高低温测试机ATS-545可以很好的记录到芯片在不同温度环境中的工作状态。inTEST高低温测试机ATS-545很好的满足了客户的测试需求，满足要求测试温度 ﹣60℃～125℃ , 变温速率 -55至 +125°C 如下示意图所示为高低温测试机，用于安全芯片的高低温测试，温度范围广，变温速度快：inTEST ThermoStream高低温测试机 ATS-545 技术参数：型号温度范围 °C* 变温速率输出气流量温度   精度温度显示   分辨率温度   传感器ATS-545-75 至 + 225(50 HZ)   -80 至 +   225(60 HZ)   不需要LN2或LCO2冷却-55至 +125°C   约 10 S 或更少   +125至 -55°C   约 10 S 或更少4 至 18 scfm   1.9至 8.5 l/s±1℃   通过美国NIST 校准±0.1℃T或K型   热电偶* 一般测试环境下; 变温速率可调节inTEST ThermoStream ATS-545高低温测试机功能特点：与友厂对比, inTEST ThermoStream 独有的专利自动复叠式制冷系统 (auto cascade refrigeration) 保证低温, 内置 AC 交流压缩机, 冷冻机 Chiller 特殊设计, 制冷剂不含氟利昂, 安全无毒, 不易燃.1.有效保护环境; 专利 ESD 防静电保护设计2.旋钮式控制面板, 支持测试数据存储3.过热温度保护: 出厂设置温度 +230°C4.加热模式下, 冷冻机可切换成待机模式, 以减少电力消耗5.干燥气流持续吹扫测试表面, 防止水气凝结inTEST 高低温测试方法：提供两种检测模式 Air Mode 和 DUT Mode通过热流罩或测试腔将被测 IC 与周边环境隔离，然后对 IC 循环喷射冷热气流，使IC 温度短时间发生急剧变化，从而完成温度循环和温度冲击的测试。上海伯东是德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

车规级芯片的特殊要求，决定研发企业在芯片设计之初就要考虑多层面问题：芯片架构，IP选择，前端设计，后端实现，各合作伙伴的选择；从设计全周期考虑产品零失效率以及车规质量流程和体系的建立。一套芯片，从设计到测试、到前装量产的每一个环节都有着考验。获得车规级认证也需要花费很长的时间。而在车规级芯片可靠性测试方面，ThermoStream ATS系列高低温测试机有着不同于传统温箱的独特优势：变温速率快，每秒快速升温/降温15°C，实时监测待测元件真实温度，可随时调整冲击气流温度，针对PCB电路板上众多元器件中的某一单个IC(模块)，单独进行高低温冲击，而不影响周边其它器件。伯东inTEST高低温测试机应用于车规级芯片测试案例国际某知名半导体芯片设计公司在汽车行业拥有30年的经验，为汽车电子市场的领先制造商，其产品包括动力系统、车身系统和安全驾驶系统等芯片。不同于一般的半导体或者消费级芯片，车载芯片的工作环境要更为严苛，因此在芯片流片回来后，要经受一系列的功能验证，性能和特性测试，高低温测试，老化测试，模拟长生命周期的压力测试等等，看芯片是否符合相关标准，确保其真正达到车规级。根据客户的要求，在温度上需要考虑零下 40 度到 150 度的极端情况， 同时搭配模拟和混合信号测试仪，设定不同的温度数值, 检查不同温度下所涉及到的元器件或模块各项功能是否正常.经过伯东推荐，合作客户采用美国inTEST高低温测试机ATS-545，测试温度范围 -75 至 +225°C, 输出气流量 4 至 18 scfm, 温度精度 ±1℃, 快速进行在电工作的电性能测试、失效分析、可靠性评估等。通过使用该设备，大幅提高工作效率，并能及时评估研发过程中的潜在问题。高低温测试机 inTEST ATS-545 测试过程:1. 客户根据各自的特定要求，将被测芯片或模块放置在测试治具上, 将 ATS-545 的玻璃罩压在相应治具上 （产品放在治具中）。2. 操作员设置需要测试的温度范围。3. 启动 ThermoStream ATS-545, 利用空压机将干燥洁净的空气通入高低温测试机内部制冷机进行低温处理, 然后空气经由管路到达加热头进行升温,气流通过玻璃罩进入测试腔. 玻璃罩中的温度传感器可实时监测当前腔体内温度。4. 在汽车电子芯片测试平台下，ATS-545快速升降温至要求的设定温度，实时检测芯片在设定温度下的在电工作状态等相关参数，对于产品分析、工艺改进以及批次的定向品质追溯提供确实的数据依据。Temptronic 创立于 1970 年, 在 2000 年被 inTEST 收购, 成为在美国设立的超高速温度环境测试机的首家制造商. 而 Thermonics 创立于1976年, 在 2012 年被 inTEST 收购, 使 inTEST 更强化高低温循环测试以及温度冲击测试领域的实力. 在 2013 年 inTEST Thermal Solutions 用崭新的研发技术发展出独创的温度环境测试机, 将 Temptronic TPO 系列以及 Thermonics PTFS 系列整合进化成 inTEST ThermoStream  ATS 超高速温度环境测试系列产品. 上海伯东作为 inTEST 中国总代理, 全权负责 inTEST 新品销售和售后维修服务.

在进行镀膜等工艺之前, 对原样品的表面平整度/洁净程度等参数会有不同的要求. 对于不达标的样品需要进行前处理, KRI霍尔离子源可以很好的解决这类的问题.应用KRI霍尔离子源可以在低功耗的情况下进行大电流的工作, 很好的处理样品的清洁度/和平整度; 可以根据不同的工艺要求来控制样品表面的光滑/粗糙程度; 一致且可靠地去除表面污染物, 以暴露原始基材, 达到清洗前处理的作用.稳定工艺并提高产品产量. KRI离子源清洗在在真空室中进行, 基板表面清洁后可以立即沉积, 短停留时间暴露于真空背景清洁并活化基材表面比辉光放电更清洁, 生产率更高; 无需基板偏置/无需高压, 消除了大多数腔室壁的溅射, 没有额外的抽空, 很好地提高了整体工艺的效率与质量.中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司客户选用KRI EH1000型霍尔离子源组装磁控溅射设备对聚氨酯类的材料进行清洗前处理.离子源清洗样品的示意图：KRI 霍尔离子源 eH 1000 特性:• 可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时, 最大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极• 宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率• 多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便; 无需水冷• 高效的等离子转换和稳定的功率控制KRI 霍尔离子源 eH 1000 技术参数:型号eH1000   / eH1000L / eH1000x02/ eH1000LEHO供电DC   magnetic confinement  -   电压40-300V   VDC    - 离子源直径~ 5   cm    - 阳极结构模块化电源控制eHx-30010A配置-    - 阴极中和器Filament,   Sidewinder Filament or Hollow Cathode    - 离子束发散角度>   45° (hwhm)    - 阳极标准或 Grooved    - 水冷前板水冷    - 底座移动或快接法兰    - 高度4.0'    - 直径5.7'    - 加工材料金属   电介质   半导体    - 工艺气体Ar,   Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors    - 安装距离10-36”    - 自动控制控制4种气体* 可选: 可调角度的支架; Sidewinder上海伯东是美国 考夫曼离子源在中国的总代理商.上海伯东是德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 叶小姐                                台湾伯东: 王小姐T: +86-21-5046-3511 ext 109          T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                       F: +886-3-567-0049M: +86 1391-883-7267                    M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn                    ec@hakuto.com.twwww.hakuto-vacuum.cn                   www.hakuto-vacuum.com.tw上海伯东版权所有, 翻拷必究！ 

光学玻璃是用高纯度硅、硼、钠、钾、锌、铅、镁、钙、钡等氧化物按特定配方混合,在白金坩埚中高温融化,用超声波搅拌均匀,去气泡；然后经长时间缓慢地降温, 以免玻璃产生内应力. 冷却后的玻璃块, 必须经过光学仪器测量, 检验纯度、透明度、均匀度、折射率和色散率是否合规格. 本文主要介绍上海伯东Polycold Maxcool4000H在光学镜片镀膜上的应用.  伯东Polycold冷冻机 Maxcool4000H在光学镜片镀膜上的应用 光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程. 真空镀膜机(溅镀、蒸镀)一般使用油扩散泵抽真空, 腔体内会残留大量水汽和油蒸汽, 不但影响抽真空的时间, 水汽和油蒸汽还是镀膜工件主要的污染源, 从而影响镀膜产品的产量和质量.  真空镀膜设备通过加装上海伯东代理的美国 Polycold 冷冻机（水汽深冷泵）在真空度 10-2 至 10-8 mabr 之间快速吸附真空腔内残余水汽和油气, 真空抽气时间缩短 75%, 企业产能可增加 20% 到 100% .  伯东Polycold冷冻机Maxcool4000H抽取水气油气方法：具体做法如下. 1.将光学镜片放置于镀膜机腔体中； 2.启动镀膜机及冷冻机；3.启动冷冻机抽取水气及油气设置； 4.将镀膜机腔体中水气及油气抽取满足镀膜要求； 5.镀膜机开始对光学镜片进行镀膜；伯东polycold冷冻机 Maxcool4000H在光学镜片镀膜上的客户案例：湖南某光学镀膜企业, 通过伯东购买polycold冷冻 Maxcool4000H冷冻机                               美国 Brooks 旗下 Polycold  冷冻机(水汽深冷泵), 超过40年的冷冻机研发及制造经验. Polycold 冷冻机辅助抽真空, 在真空度 10-2 至 10-8 mabr 之间快速吸附真空腔内残余水汽和油气, 帮助企业显著提升产能和镀膜质量. Polycold 冷冻机广泛应用于镀膜和半导体厂商.  上海伯东是美国 Polycold 冷冻机中国地区唯一指定总代理, 全权负责 Polycold 销售和售后维修服务.

客户主要应用场景很多镀膜终端客户需要在很高的真空环境中进行对玻璃、水晶、金属、塑料的镀膜工艺，真空要求度很高。提供真空镀膜设备的厂商一般为了提高镀膜的效率，良率和实现终端客户的镀膜环境，在本身的镀膜设备上会加设可以提高真空腔体真空纯度的配备。伯东Polycold冷冻机 PFC 672在镀膜上的应用广东振华为很多全球一线的镀膜公司提供优质的镀膜设备。出货海内外。从镀膜设备的要求上来讲更加倾向于稳定性，同时需要配备对真空纯净度以及抽真空效能有着决定性作用的附属仪器。根据伯东工程师和客户的深入了解，客户设备有电压、制冷率、噪音、接头和外管等指定要求，在客户真空腔内影响纯净度的主要是剩余的水汽和油气，本身设备泵抽真空的过程中最终阶段已经很且需要很长的时间才可以达到所需要的水汽和油气的占比量。根据了解到的客户需要，为客户推荐伯东代理的Plycold  PFC 672 深冷泵，刚好可满足客户设备配备所需。PFC 672 为客户腔体大小所需要刚好适合的深冷泵。冷盘客户自行根据真空腔的形状和空间设计和制造。深冷泵本身采用水冷，制冷量达到1000W，通过接入冷盘，将真空腔内的水汽和油气能够凝结在盘管上。有效的提高了客户抽真空的速度和纯净度。同时设备主机可联动配合深冷泵进行远程控制和参数设定，带来较高的自动化控制。接口丰富。Polycold  PFC-552 HC,PFC-672 HC,PFC-1102 HC 冷冻机产品优势：1. 温度可到 -100℃ to -150℃。2. 最大吸附热量为 3600 Watts。3. 最大水汽抽气速度为 200,000 l/s，真空可达到 1.5*10E-12 torr (2*10E-12mbar)。4. 提供快速的抽水汽速度，在高真空系统中可缩短 65%-95% 的抽气时间。5. 使用绿色环保无氟冷煤。6. 在高真空系统中吸附水汽，缩减抽真空时间多达 25% -75%。7. 高速水汽抽气速度从 100,000l/s 到 200,000 l/s8. 提高您现有真空系统生产能力的 20% 到 100%。9. 改善镀膜的品质，提高薄膜的附着力和多层镀膜能力。10. 降低生产成本。11. 效果优于液态氮。美国 Brooks 旗下 Polycold ® 冷冻机(水汽深冷泵)，超过40年的冷冻机设计制造经验。Polycold 冷冻机辅助抽真空，适用于收集高真空腔体内残余水汽和油气并显著提升产能和镀膜质量。Polycold 冷冻机广泛应用于光驰、欧瑞康、Applied 等镀膜和半导体厂商。上海伯东是美国 Polycold 冷冻机中国地区唯一指定总代理，全权负责 Polycold 销售和售后维修服务。

光学薄膜是改变光学零件表面特征而镀在光学零件表面上的一层或多层膜. 可以是金属膜、介质膜或这两类膜的组合. 光学薄膜是各种先进光电技术中不可缺少的一部分, 它不仅能改善系统性能, 而且是满足设计目标的必要手段, 光学薄膜的应用领域设及光学系统的各个方面.它们在国民经济和国防建设中得到了广泛的应用, 获得了科学技术工作者的日益重视. 光学镀膜机适合镀制多种光学膜. 如望远镜、眼镜片、光学镜头、冷光杯等, 配置不同的蒸发源及膜厚仪, 可镀制多种膜系, 对金属、氧化物、化合物及其他高熔点膜材皆可蒸镀, 并可在玻璃表面镀超硬膜. 伯东KRI 考夫曼霍尔离子源用于光学镀膜机在光学镀膜中, 为了提高折射率（填充密度）、减少波长漂移、减少红外波段的水气吸收、增强了膜层的结合力、耐摩擦能力、机械强度、提高表面光洁度、控制膜层的应力、减少膜层的吸收和散射、提高生产效率, 镀膜厂商会把离子源用于光学镀膜机上.离子源类型虽多, 目的却无非在线清洗, 改善被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量. 离子源可以大大改善膜与基体的结合强度, 同时膜本身的硬度与耐磨耐蚀特性也会改善. 某厂商为了提供镀膜的质量和提高生产效率, 需要在镀膜机上搭配离子源, 通过沟通了解到客户的要求及使用环境, 伯东工程师为客户推荐KRI考夫曼霍尔离子源 EH1020 F, 并帮忙客户把离子源安装在1400 mm 蒸镀镀膜机, 应用于塑料光学镀膜. 常见蒸镀机台与对应 KRI 霍尔离子源型号：蒸镀机台尺寸KRI 离子源~1100mmeH10101100~1400mmeH1010, eH10201400~1900mmeH1020, eH3000伯东KRI 考夫曼霍尔离子源优势：1.可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时, 最大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极2.宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率3.多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便; 无需水冷4.高效的等离子转换和稳定的功率控制5.KRI 考夫曼霍尔离子源 controller 自动化控制及联机自动化设计, 提供使用者在操作上更是便利. 6.KRI 考夫曼霍尔离子源 Gun body 模块化之设计、提供使用者在于基本保养中能够降低成本及便利性. KRI 考夫曼霍尔离子源 EH1020 主要参数:Filament ControllerDischarge controllerGas controller17.2A/ 22V150V/ 4.85AAr/ 32sccm 利用 KRI 考夫曼霍尔离子源辅助镀膜及无离子源辅助镀膜对镀膜质量之比较：KRI EH1020 辅助镀膜无 Ion   Source 辅助镀膜盐水煮沸脱膜测试优劣破坏性百格脱膜测试优劣光学折射设率高低膜层致密性优劣膜层光学吸收率无有制程腔体加热温度低高生产成本低高 伯东公司主要经营产品德国 Pfeiffer涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵; 应用于各种条件下的真空测量(真空计, 真空规管);氦质谱检漏仪；质谱分析仪；真空系统, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI Kaufman 考夫曼离子源（离子枪）.

扫描探针显微镜( Scanning Probe Microscopy，SPM) 以其较强的原子和纳米尺度上的分析加工能力，在纳米科学技术的发展中占据极其重要的位置。扫描探针显微镜是在扫描隧道显微镜( STM) 基础上发展起来的。1982 年，德国物理学家GBinnig 和H Rohrer发明了具有原子级分辨率的扫描隧道显微镜( Scanning Tunneling Microscope，STM) ，它使人类第一次能够直观地看到物质表面上的单个原子及其排列状态，并深入研究其相关的物理化学性能。因此，它对物理学、化学、材料科学、生命科学以及微电子技术等研究领域有着十分重大的意义和深远的影响。STM 的发明被公认为20 世纪80 年代世界十大科技成果之一。Binnig 和Rohrer 因此获得了1986 年诺贝尔物理学奖。原子力显微镜是SPM 家族中最重要的成员之一。1986 年Binnig 等人为了弥补STM 不能对绝缘样品进行检测和操纵而发明了原子力显微镜( Atomic Force Microscopy，AFM) ，AFM 由于不需要在探针与样品间形成导电回路，突破了样品导电性的限制，因此使其在科研应用领域更加广阔。AFM 的工作原理AFM 的工作原理分为探测系统和反馈系统两大部分。探测系统包括探针用以感受样品的表面信息、激光系统用以收集探针上的信号，反馈系统的功能是控制探针的相对高度，以保证探针能够保持一定高度从而顺利探测到样品信息。AFM 在扫描图像时，针尖与样品表面轻轻接触，而针尖尖端原子与样品表面原子间存在微弱的相互作用力，会使悬臂产生微小变化。这种微小变化被检测出并用作反馈来保持力的恒定，就可以获得微悬臂对应于扫描各点的位置变化，从而获得样品表面形貌的图像。AFM 的工作模式是以针尖与样品之间作用力的形式来区分主要有接触模式、非接触模式、轻敲模式三种工作模式。探针针尖是AFM 的核心部件 ，探针针尖的几何参数、物理性能等将显著影响原子力显微镜的成像分辨率。传统AFM 敲击模式微悬臂/针尖一体化的硅针尖，由于硅探针硬脆，其本身不仅容易磨损，降低探针使用寿命，而且成像过程中易损害扫描的样品，特别是检测生物等柔软样品。后有研究者对硅探针进行深入研究和改进，提高其灵敏度和使用范围，或使用其它材料如碳材料制备的探针等。AFM 在纳米科学中应用的研究进展纳米科技作为当前的热点研究的科学领域，如何对这一尺度内的材料、器件的结构和性能以及科学现象进行观测表征，这关系到人们能够在多大的限度内开展纳米科技的研究，因此，纳米检测技术就变得尤为重要。AFM 的应用无疑是对纳米科技的发展和进步起到必要的检测保证。本文从AFM 对纳米材料的外貌特征观察、力学分析、纳米材料加工等三个方面对其进行综述。1. 外貌特征观察通过检测探针与样品间的作用力可表征样品表面的三维形貌，这是AFM 最基本的功能。AFM 在水平方向具有0. 1 ～ 0.2nm 的高分辨率，在垂直方向的分辨率约为0. 1nm。由于表面的高低起伏状态能够准确地以数值的形式获取，因此AFM对表面整体图像进行分析可得到样品表面的粗糙度、颗粒度、平均梯度、孔结构和孔径分布等参数，也可对样品的形貌进行丰富的三维模拟显示，使图像更适合于人的直观视觉，因此AFM 对纳米材料或是微纳米电极的外貌特征的表征有着广泛的应用。2.力学分析研究材料的微观作用力是对于了解它们的结构和性能具有重要意义。利用AFM 能获得探针针尖与样品间力距的关系曲线，几乎包含了所有样品和针尖之间相互作用的必要信息，利用力曲线分析技术就能给出特定分子或基团与纳米材料表面的黏附力值等物理性质。3. 纳米材料加工扫描探针纳米加工技术的基本原理是利用探针- 样品纳米可控定位和运动及其相互作用对样品进行纳米加工操纵，从而可以对纳米生物材料进行纳米级操纵加工，制备得到科学家所预设的样品。常用的基于AFM 的纳米加工技术包括机械操纵和蘸笔纳米刻蚀技术等，通过对AFM 进行升级从而实现对纳米材料的操纵加工功能。除以上所述，AFM 在其它方面如结构分析、晶体分析、生物医学等都有广泛的应用和发展。结语综上所述，AFM 由于操作简单，对样品要求不高，高分辨率，可检测样品的范围广等优点，使其具有越来越广阔的应用前景。利用AFM 可以很好的研究纳米材料的外貌特征观察、力学分析、纳米材料加工等方面的特性。随着计算科学技术的进步，AFM 将在纳米材料领域的研究中发挥更大的作用。上海伯东代理英国 NanoMagnetics 原子力显微镜主要应用于材料科学, 聚合物科学, 半导体工业领域. 与 STM 对比 AFM 原子力显微镜可以观测非导电样品, 应用范围更广. 伯东ezAFM 原子力显微镜主要技术参数：• 任意对准的设计模式• 扫描范围: 120 × 120 × 40 μm 或 40 × 40 × 4 μm（XYZ）• Z轴分辨率: Z分辨率 • Z轴分辨率: Z分辨率• 固有噪声: • 横向解析度: 大范围扫描时• 样本大小: 不限制• 特征: 便携式, 用户友好, 价格实惠, 大扫描区域 ( x, y, z), 低压运行 检测模式:• 间歇性接触      • 相位成像 / 相位对比      • 接触模式  /静力• 横向力显微镜（LFM）   • 磁力显微镜（MFM）  • 静电力显微镜（EFM）• 压电响应力显微镜（PRFM）    • 开尔文探针力显微镜（KPFM）• 力调制    • 导电AFM（c-AFM） • 扫描扩散电阻显微镜( SSRM )• 多光谱模式        • 光刻和操作模式       • 液体模式伯东公司主要经营产品德国 Pfeiffer涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵; 应用于各种条件下的真空测量(真空计, 真空规管);氦质谱检漏仪；质谱分析仪；真空系统, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI Kaufman 考夫曼离子源（离子枪）.