伯东 KRI Gridded 考夫曼离子源成功应用于离子束抛光工艺 ?

伯东 KRI Gridded 考夫曼离子源成功应用于离子束抛光工艺

伯东公司为 Kaufman & Robinson, Inc (美国考夫曼公司) 大中国区总代理. 美国考夫曼公司Gridded Ion Sources (考夫曼栅极离子源), KDC (直流电源式考夫曼离子源) 已成功被应用于光学镀膜离子束抛光机 (IBF Optical coating) 及晶体硅片离子束抛光机 (IBF Clrystalline)工艺. 考夫曼公司离子源可变离子的强度及浓度, 控制抛光刻蚀速率更准确使在抛光后的基材上获得更平坦均匀性高的薄膜表面. 内置型的设计更符合离子源于离子抛光机内部的移动运行.

实际案例一:

1.    基材: 100mm 光学镜片.

2.    离子源条件: Vb:800V(离子束电压), Ib:84mA(离子束电流), Va:-160V(离子束加速电压), Ar gas(氩气).

3.    离子束抛光前平坦度影像呈现图          离子束抛光后平坦度影像呈现图            

实际案例二:

1.    基材: 300mm晶体硅片

2.    离子源条件: Vb:1000V(离子束电压), Ib:69mA(离子束电流), Va:-200V(离子束加速电压) Ar gas(氩气).

3.    离子束抛光前平坦度影像呈现图          离子束抛光后平坦度影像呈现图

实际安装案例一:

KDC10 使用于光学镀膜离子束抛光机

实际安装案例二:

KDC40 使用于晶体硅片离子束抛光机

上海伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

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