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高生产量：
该设备能够实现高生产量，每批次可生产900个以上的产品。
工序优化：
通过优化沉积和溅射工序，显著提升了EMI（电磁干扰屏蔽）膜的品质。
工序连接的优秀性：
证明了“沉积-溅射-沉积-溅射”这一连续工序的卓越性，实现了零缺陷生产。
机器设置与维护：
设备具有精密的机器设置和出色的耐用性，维护周期长，且维护成本低廉。
材料开发：
相比现有材料，自主研发的材料（Target）在较低的成本下提高了薄膜的质量。
功能改善：
改善了Target效率和Arching（电弧放电）等控制功能，进一步提升了设备的性能和稳定性。
综上所述，这款真空溅射设备以其高生产量、优化的工序、卓越的工序连接、长维护周期、低成本高质量的材料以及改善的控制功能，为EMI膜的生产提供了显著的优势。
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
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