¥5万 - 10万
MVSystems
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Cluster
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美洲
R&D Cluster tools 研发用团簇PECVD PVD
R&D Cluster tools
Cluster tool w/ 8 port locations
具有8个腔室的团簇型沉积系统
30x40cm substrate
衬底尺寸为30x40cm
Computer controlled
可完全由电脑程序控制操作运行
?PECVD, HWCVD and Sputter capability 制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积，及溅射。
MVSystems镀膜机Cluster的工作原理介绍
镀膜机Cluster的使用方法?
MVSystemsCluster多少钱一台?
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镀膜机Cluster使用的注意事项？
MVSystemsCluster的说明书有吗？
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